引進(jìn)白光干涉儀管控微流控芯片形貌，性能大幅提升

白光干涉儀納米級(jí)管控微流控芯片表面粗糙度，以及微流道高度和寬度，提升微流控產(chǎn)品性能與質(zhì)量，滿足不同客戶需求。

2025-05-29 標(biāo)簽：微流控芯片微流控表面粗糙度 210 0

探索微觀世界的“度量衡”：顯微測(cè)量?jī)x器解析

臺(tái)階儀、光學(xué)輪廓儀和共聚焦顯微鏡，這些看似冰冷的儀器設(shè)備，實(shí)則是微觀世界的“度量衡”，憑借其技術(shù)與性能，為我們解鎖微觀世界的厚度奧秘。

2025-05-23 標(biāo)簽：測(cè)量?jī)x器輪廓測(cè)量白光干涉儀 256 0

三維表面輪廓儀的維護(hù)保養(yǎng)是確保其長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行的關(guān)鍵

三維表面輪廓儀是一種高精度測(cè)量設(shè)備，用于非接觸式或接觸式測(cè)量物體表面的三維形貌、粗糙度、臺(tái)階高度、紋理特征等參數(shù)。其主要基于光學(xué)原理進(jìn)行測(cè)量。它利用激光...

2025-05-21 標(biāo)簽：輪廓測(cè)量?jī)x白光干涉儀輪廓儀 220 0

優(yōu)可測(cè)白光干涉儀和薄膜厚度測(cè)量?jī)x：如何把控ITO薄膜的“黃金參數(shù)”

ITO薄膜的表面粗糙度與厚度影響著其產(chǎn)品性能與成本控制。優(yōu)可測(cè)亞納米級(jí)檢測(cè)ITO薄膜黃金參數(shù)，幫助廠家優(yōu)化產(chǎn)品性能，實(shí)現(xiàn)降本增效。

2025-04-16 標(biāo)簽：表面粗糙度ITO薄膜薄膜厚度 350 0

白光干涉儀：表面形貌分析，如何區(qū)分波紋度與粗糙度？

表面形貌分析中，波紋度和粗糙度是兩種關(guān)鍵特征。通過濾波技術(shù)設(shè)置截止波長(zhǎng)，可將兩者分離。分離后，通過計(jì)算參數(shù)或FFT驗(yàn)證效果。這種分析有助于優(yōu)化加工工藝、...

2025-03-19 標(biāo)簽：測(cè)量表面粗糙度白光干涉儀 467 0

微透鏡陣列精準(zhǔn)全檢，優(yōu)可測(cè)3D自動(dòng)量測(cè)方案提效70%

微透鏡陣列可實(shí)現(xiàn)許多傳統(tǒng)光學(xué)元器件難以實(shí)現(xiàn)的特殊功能，應(yīng)用廣泛。某福州工廠需全檢晶圓MLA產(chǎn)品，引入優(yōu)可測(cè)NX230系列晶圓3D自動(dòng)量測(cè)設(shè)備，實(shí)現(xiàn)高精度...

2025-01-15 標(biāo)簽：微透鏡光學(xué)元件白光干涉儀 569 0

關(guān)于白光干涉儀的常見提問及回答

原理相關(guān)1、白光干涉儀的基本原理是什么：白光干涉儀的基本原理是利用光學(xué)干涉原理。光源發(fā)出的光經(jīng)過擴(kuò)束準(zhǔn)直后經(jīng)分光棱鏡分成兩束，一束光經(jīng)被測(cè)表面反射回來，...

2025-01-09 標(biāo)簽：測(cè)量CCD相機(jī)白光干涉儀 881 0

3D白光干涉輪廓儀原理，特點(diǎn)，參數(shù)

3D白光干涉輪廓儀 WLI-1000提供了強(qiáng)?、多功能的?接觸式光學(xué)表?分析。它可以簡(jiǎn)單和快速地測(cè)量各種表?類型，包括光滑、粗糙、平坦、傾斜和階梯式的表?。

2024-08-10 標(biāo)簽：測(cè)量系統(tǒng)圖像輪廓三維掃描儀 955 0

納米級(jí)材料尺寸如何測(cè)量？

在納米顯微測(cè)量領(lǐng)域，中圖儀器基于納米傳動(dòng)與掃描技術(shù)、白光干涉與高精度3D重建技術(shù)、共聚焦測(cè)量等技術(shù)積累，推出了具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的白光干涉儀（Z向分辨率可...

2024-07-09 標(biāo)簽：測(cè)量?jī)x納米級(jí)精密儀器 1390 0

微觀特征輪廓尺寸測(cè)量：光學(xué)3D輪廓儀、共焦顯微鏡與臺(tái)階儀的應(yīng)用

顯微測(cè)量?jī)x器被用于微觀尺寸的測(cè)量，其中包括光學(xué)3D表面輪廓儀（白光干涉儀）、共聚焦顯微鏡和臺(tái)階儀。有效評(píng)估材料表面的微觀結(jié)構(gòu)和形貌，從而指導(dǎo)生產(chǎn)過程、優(yōu)...

2024-06-05 標(biāo)簽：測(cè)量輪廓測(cè)量?jī)x白光干涉儀 1010 0

金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言 在半導(dǎo)體及微納制造領(lǐng)域，光刻膠剝離工藝對(duì)金屬結(jié)構(gòu)的保護(hù)至關(guān)重要。傳統(tǒng)剝離液易造成金屬過度蝕刻，影響器件性能。同時(shí)，光刻圖形的精確測(cè)量是保障工藝質(zhì)量...

2025-06-24 標(biāo)簽：測(cè)量光刻膠白光干涉儀 102 0

避免寄生柵極效應(yīng)和斜紋 Mura 的光刻膠剝離裝置及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言 在半導(dǎo)體和顯示面板制造過程中，光刻膠剝離環(huán)節(jié)若處理不當(dāng)，易引發(fā)寄生柵極效應(yīng)和斜紋 Mura 問題，嚴(yán)重影響產(chǎn)品性能和顯示質(zhì)量。同時(shí)，光刻圖形的精確...

2025-06-19 標(biāo)簽：干涉白光干涉儀白光干涉 85 0

解鎖微觀測(cè)量新境界：光學(xué)3D輪廓儀與共聚焦顯微成像的結(jié)合應(yīng)用

在當(dāng)今科技飛速發(fā)展的時(shí)代，眾多行業(yè)正朝著精細(xì)化、微型化的方向大步邁進(jìn)。當(dāng)芯片上的晶體管小到肉眼不可見，當(dāng)手機(jī)攝像頭鏡片需要納米級(jí)平整度，傳統(tǒng)測(cè)量工具還能...

2025-06-13 標(biāo)簽：測(cè)量電動(dòng)顯微成像白光干涉儀 278 0

水平式光刻膠剝離工藝及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言 在半導(dǎo)體制造和微納加工領(lǐng)域，光刻膠剝離是光刻工藝的重要環(huán)節(jié)。水平式光刻膠剝離工藝憑借其獨(dú)特優(yōu)勢(shì)在工業(yè)生產(chǎn)中占據(jù)一席之地，而準(zhǔn)確測(cè)量光刻圖形對(duì)保障工...

2025-06-04 標(biāo)簽：光刻白光干涉儀 75 0

以精密測(cè)量探索人類未來，優(yōu)可測(cè)邀您共赴六月行業(yè)盛會(huì)

六月夏至，智測(cè)未來。優(yōu)可測(cè)將亮相多場(chǎng)行業(yè)盛會(huì)！誠邀您共同探索精密測(cè)量&半導(dǎo)體檢測(cè)世界！

2025-05-29 標(biāo)簽：傳感器影像測(cè)量?jī)x白光干涉儀 336 0

光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料，其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí)，精準(zhǔn)測(cè)量光刻圖形對(duì)把控工藝質(zhì)...

2025-05-29 標(biāo)簽：光刻光刻膠白光干涉儀 92 0

納米壓印制備硅基 OLED 微型顯示器的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言 硅基 OLED 微型顯示器憑借高分辨率、高對(duì)比度等優(yōu)勢(shì)，在虛擬現(xiàn)實(shí)、增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。納米壓印技術(shù)為其制備提供了新方向，而精確測(cè)量光刻圖形是...

2025-05-26 標(biāo)簽：OLED光刻白光干涉儀 146 0

玻璃基板精密檢測(cè)，優(yōu)可測(cè)方案提升良率至90%

優(yōu)可測(cè)白光干涉儀（精度0.03nm）&超景深顯微鏡-高精度檢測(cè)方案，助力玻璃基板良率提升至90%，加速產(chǎn)業(yè)高端化進(jìn)程。

2025-05-12 標(biāo)簽：玻璃基板顯微鏡精密檢測(cè)儀器 229 0

白光干涉精析偏振串?dāng)_，OLI-P重新定義保偏光纖檢測(cè)新標(biāo)準(zhǔn)

在高速光通信與精密傳感領(lǐng)域，保偏光纖的偏振穩(wěn)定性是系統(tǒng)性能的“生命線”。然而，傳統(tǒng)檢測(cè)手段受限于靈敏度低、無法實(shí)現(xiàn)分布式測(cè)量，難以捕捉微弱的偏振耦合信號(hào)...

2025-04-30 標(biāo)簽：光纖檢測(cè)白光干涉儀 315 0

優(yōu)可測(cè)白光干涉儀助力提升光模塊信息質(zhì)量

光通信模塊的頭部企業(yè)，在制造過程中，會(huì)對(duì)產(chǎn)品做哪些維度的質(zhì)量把控與數(shù)據(jù)檢測(cè)。

2025-04-30 標(biāo)簽：表面粗糙度光模塊白光干涉儀 206 0