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標(biāo)簽 > 芯片制造
《芯片制造》是2010年8月1日電子工業(yè)出版社出版的圖書,作者是(美國(guó))贊特。本書介紹了半導(dǎo)體工藝的制作制程、誕生、發(fā)展、半導(dǎo)體材料和化學(xué)品的性質(zhì)等方面闡述。
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芯片可測(cè)性設(shè)計(jì)技術(shù)有哪些 芯片可靠性測(cè)試流程和標(biāo)準(zhǔn)
從以前的模式中進(jìn)行掃描,然后掃描除第一種以外的所有以及測(cè)試程序中的最后一個(gè)模式。
自動(dòng)化領(lǐng)域容易被忽視的幾個(gè)系統(tǒng)架構(gòu)?
新的架構(gòu)應(yīng)當(dāng)更扁平化,數(shù)據(jù)庫(kù)層以及層級(jí)之間的接口更少。整個(gè)系統(tǒng)應(yīng)該基于一個(gè)統(tǒng)一的數(shù)字平臺(tái),該平臺(tái)具有較少的層級(jí),同時(shí)還應(yīng)具有大部分功能(圖2)。這個(gè)數(shù)字...
2023-08-09 標(biāo)簽:無(wú)線通信芯片制造數(shù)據(jù)庫(kù) 707 0
芯片作為現(xiàn)代電子產(chǎn)品的核心部件,一直充當(dāng)著“大腦”的位置,其技術(shù)含量和資金極度密集,生產(chǎn)線動(dòng)輒數(shù)十億上百億美金。
2023-08-08 標(biāo)簽:芯片設(shè)計(jì)eda晶體管 4168 0
光源掩模協(xié)同優(yōu)化的原理與應(yīng)用
由于SMO優(yōu)化的結(jié)果是要應(yīng)用到整塊芯片上去的,而對(duì)所有的圖形進(jìn)行SMO是極為耗時(shí)的,因此,我們需要使用關(guān)鍵圖形篩選技術(shù)提前將重復(fù)或者冗余的圖形剔除,以保...
如果工藝制程繼續(xù)按照摩爾定律所說(shuō)的以指數(shù)級(jí)的速度縮小特征尺寸,會(huì)遇到兩個(gè)阻礙,首先是經(jīng)濟(jì)學(xué)的阻礙,其次是物理學(xué)的阻礙。 經(jīng)濟(jì)學(xué)的阻礙是,隨著特征尺寸縮小...
芯片工藝的"7nm" 、"5nm"到底指什么?
近幾年,芯片產(chǎn)業(yè)越來(lái)越火熱,一些行業(yè)內(nèi)的術(shù)語(yǔ)大家也聽(tīng)得比較多了。那么工藝節(jié)點(diǎn)、制程是什么,"7nm" 、"5nm"...
SiCO薄膜在實(shí)踐中表現(xiàn)如何?低介電薄膜如何解決串?dāng)_、隔離問(wèn)題
串?dāng)_問(wèn)題自電子學(xué)早期就一直存在。幸運(yùn)的是,我們有一個(gè)眾所周知的解決方式:隔離。在嘈雜的房間中,隔離需要在每個(gè)人的周圍都放置隔音板;而在集成電路上,通???..
IC設(shè)計(jì)流程先后順序 ic設(shè)計(jì)流程物理驗(yàn)證
IC設(shè)計(jì)是一項(xiàng)復(fù)雜的工作,需要設(shè)計(jì)工程師具備電路設(shè)計(jì)和布局技能,以及對(duì)電子元器件和芯片制造工藝的深入了解。它在現(xiàn)代電子技術(shù)中起著關(guān)鍵作用,使得我們可以...
2023-07-18 標(biāo)簽:電子元器件電路設(shè)計(jì)IC設(shè)計(jì) 1412 0
芯片制造和傳統(tǒng)IC封裝的生產(chǎn)有何不一樣
DUV是深紫外線,EUV是極深紫外線。從制程工藝來(lái)看,DUV只能用于生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。而只有EUV能滿足7nm晶圓制造,并且還可以向5nm、3n...
中國(guó)電科宣布已實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)離子注入機(jī)28納米工藝制程全覆蓋
離子注入機(jī)是芯片制造中的關(guān)鍵裝備。在芯片制造過(guò)程中,需要摻入不同種類的元素按預(yù)定方式改變材料的電性能,這些元素以帶電離子的形式被加速至預(yù)定能量并注入至特...
TSV硅轉(zhuǎn)接基板的工藝結(jié)構(gòu)特點(diǎn)及可靠性分析
隨著三維集成技術(shù)的發(fā)展,如何將不同材料、結(jié)構(gòu)、工藝、功能的芯片器件實(shí)現(xiàn)一體化、多功能集成化是未來(lái)系統(tǒng)集成發(fā)展的重點(diǎn)?;赥SV、再布線(RDL)、微凸點(diǎn)...
ASIC設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)流程介紹 CMOS集成電路的功耗來(lái)源
集成電路是由硅晶圓(wafer)切割出來(lái)的芯片(die)組成的。每個(gè)晶圓可以切割出數(shù)百個(gè)芯片。
芯片廠為什么要使用超純水? 普通的水中含有氯,硫等雜質(zhì),會(huì)腐蝕芯片中的金屬。如果水中有Na,K等金屬雜質(zhì),會(huì)造成MIC(可動(dòng)離子污染)等問(wèn)題。因此芯片制...
2023-06-29 標(biāo)簽:芯片制造半導(dǎo)體器件半導(dǎo)體制造 2388 0
2nm制程報(bào)價(jià)直逼2.5萬(wàn)美元
芯片制造領(lǐng)域正迎來(lái)3納米工藝的興起,并且2納米競(jìng)爭(zhēng)已經(jīng)全面展開(kāi)。
光刻機(jī)的難度在于要滿足復(fù)雜的制程需求、高精度的要求以及大規(guī)模生產(chǎn)的挑戰(zhàn)。為了應(yīng)對(duì)這些挑戰(zhàn),光刻機(jī)制造商需要投入大量的研發(fā)資源和技術(shù)創(chuàng)新,不斷提升設(shè)備性能...
美光確認(rèn)在印度建設(shè)首座芯片廠 預(yù)計(jì)投資數(shù)額達(dá)8.25億美元
美國(guó)存儲(chǔ)芯片公司美光科技發(fā)布了投資至多8.25億美元在印度古吉拉特邦新建芯片組裝和測(cè)試設(shè)施的計(jì)劃,將成為該公司在印度的首座工廠。
ASML***發(fā)展歷程 ***核心系統(tǒng)設(shè)計(jì)流程
光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝,也可以用在后道工藝,前道光刻機(jī)用于芯片的制造,曝光工藝極其復(fù)雜,后道光刻機(jī)主要用于封裝測(cè)試...
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