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標(biāo)簽 > 芯片制造
《芯片制造》是2010年8月1日電子工業(yè)出版社出版的圖書(shū),作者是(美國(guó))贊特。本書(shū)介紹了半導(dǎo)體工藝的制作制程、誕生、發(fā)展、半導(dǎo)體材料和化學(xué)品的性質(zhì)等方面闡述。
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晶圓制造和芯片制造是半導(dǎo)體行業(yè)中兩個(gè)非常重要的環(huán)節(jié),它們雖然緊密相連,但是卻有一些不同之處。下面我們來(lái)詳細(xì)介紹晶圓制造和芯片制造的區(qū)別。
對(duì)于工程設(shè)計(jì)人員來(lái)講,IGBT芯片的性能,可以從規(guī)格書(shū)中很直觀地得到。但是,系統(tǒng)設(shè)計(jì)時(shí),這些性能能夠發(fā)揮出來(lái)多少,就要看“封裝“了,畢竟夏天穿著棉襖工作...
淺談芯片設(shè)計(jì)的5個(gè)難關(guān)
對(duì)于芯片來(lái)說(shuō)設(shè)計(jì)和工藝同樣復(fù)雜,八十年代EDA技術(shù)誕生——芯片自動(dòng)化設(shè)計(jì),使得芯片設(shè)計(jì)以及超大規(guī)模集成電路的難度大為降低。
2023-05-17 標(biāo)簽:集成電路芯片設(shè)計(jì)eda 777 0
計(jì)算光刻技術(shù)有多重要?計(jì)算光刻如何改變2nm芯片制造?
光刻是在晶圓上創(chuàng)建圖案的過(guò)程,是芯片制造過(guò)程的起始階段,包括兩個(gè)階段——光掩膜制造和圖案投影。
隨著超高密度多芯片模組(Multiple Chip Module,MCM)乃至系統(tǒng)級(jí)封裝(SiP)產(chǎn)品在5G、AI、高性能運(yùn)算、汽車(chē)自動(dòng)駕駛等領(lǐng)域的普及...
從光刻機(jī)出來(lái)后還要經(jīng)歷曝光后的烘焙,簡(jiǎn)稱(chēng)后烘。這一步的目的是通過(guò)加熱讓光刻膠中的光化學(xué)反應(yīng)充分完成,可以彌補(bǔ)曝光強(qiáng)度不足的問(wèn)題。
ASML 稱(chēng)之為超數(shù)值孔徑的研發(fā)正在進(jìn)行中,因此更具體的光學(xué)器件,尚不清楚它是否會(huì)起作用。距生產(chǎn)還有 10 年的時(shí)間,但這正是研發(fā)已經(jīng)在進(jìn)行的地方,如果...
在芯片制造制程和工藝演進(jìn)到一定程度、摩爾定律因沒(méi)有合適的拋光工藝無(wú)法繼續(xù)推進(jìn)之時(shí),CMP技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生,是集成電路制造過(guò)程中實(shí)現(xiàn)晶圓表面平坦化的關(guān)鍵工藝。...
芯片制造主要分為5個(gè)階段:材料制備;晶體生長(zhǎng)或晶圓制備;晶圓制造和分揀;封裝;終測(cè)。
目前制作硅通孔的主要手段有濕法刻蝕,激光加工和干法刻蝕(深反應(yīng)離子刻蝕, DRIE )三種。
縱觀整個(gè)制造業(yè),芯片的制造流程可以說(shuō)是最復(fù)雜的之一,這項(xiàng)點(diǎn)石成金術(shù)可分為八個(gè)大步驟,如下圖所示,這些步驟又可細(xì)分為上百道工序。
平整度(DP)描述了從微米到毫米范圍內(nèi)硅片表面的起伏變化,具體是指對(duì)于某一臺(tái)階處,在完成CMP工藝之后這個(gè)位置硅片表面的平整程度。
2022-10-26 標(biāo)簽:芯片制造 1787 0
在智能手機(jī)等眾多數(shù)碼產(chǎn)品的更新迭代中,科技的改變悄然發(fā)生。蘋(píng)果A15仿生芯片等尖端芯片正使得更多革新技術(shù)成為可能。這些芯片是如何被制造出來(lái)的,其中又有哪...
在過(guò)去幾十年里一直聽(tīng)到有關(guān)摩爾定律消亡的預(yù)測(cè)的行業(yè)中,這并不令人震驚。然而,令人驚訝的是,經(jīng)過(guò)市場(chǎng)驗(yàn)證的替代品數(shù)量令人眼花繚亂,而且還在不斷增長(zhǎng)。
晶圓級(jí)封裝技術(shù)可定義為:直接在晶圓上進(jìn)行大部分或全部的封裝、測(cè)試程序,然后再進(jìn)行安裝焊球并切割,從而產(chǎn)出一顆顆的IC成品單元。
主要應(yīng)用是鋁刻蝕液原料監(jiān)控: 刻鋁酸含量測(cè)定(4%HNO3、75%H3PO4、10%HAc) 滴定劑(0.2 M KOH-2-Isopronal) 溶劑...
簡(jiǎn)單地說(shuō),處理器的制造過(guò)程可以大致分為沙子原料(石英)、硅錠、晶圓、光刻(平版印刷)、蝕刻、離子注入、金屬沉積、金屬層、互連、晶圓測(cè)試與切割、核心封裝、...
10nm以下技術(shù)遭“卡脖子” 中芯國(guó)際表示將重點(diǎn)突圍
中芯國(guó)際頭頂?shù)摹斑_(dá)摩克里斯之劍”,終究還是落下了。 12月20日晚,中芯國(guó)際正式對(duì)外確認(rèn)已被美國(guó)商務(wù)部列入“實(shí)體清單”。 中芯國(guó)際發(fā)布的公告中稱(chēng),根據(jù)美...
2020-12-22 標(biāo)簽:中芯國(guó)際芯片設(shè)計(jì)芯片制造 964 0
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