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電子發(fā)燒友網(wǎng)>制造/封裝>半導(dǎo)體技術(shù)>半導(dǎo)體新聞>DRAM廠(chǎng)1x納米戰(zhàn) 將開(kāi)打

DRAM廠(chǎng)1x納米戰(zhàn) 將開(kāi)打

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2019-09-20 09:02:43

示波器的10X檔和1X檔輸入阻抗

選擇1X檔時(shí),信號(hào)是沒(méi)經(jīng)衰減進(jìn)入示波器的。而選擇10X檔時(shí),信號(hào)是經(jīng)過(guò)衰減到1/10再到示波器的。當(dāng)選擇10X檔時(shí),應(yīng)該示波器上的讀數(shù)也擴(kuò)大10倍,這就需要在示波器端可選擇X10檔,以配合探頭
2019-05-20 14:43:22

解決臺(tái)式機(jī)PCI-E 1X不夠難題 :樂(lè)擴(kuò)PCI-E 1X轉(zhuǎn)2口PCI-E 1X擴(kuò)展卡

針對(duì)目前解決臺(tái)式機(jī)PCI-E 1X插槽不夠用的瓶頸現(xiàn)狀,擁有十幾年研發(fā)和生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)的老品牌廠(chǎng)家樂(lè)擴(kuò)發(fā)布了一款可以主機(jī)PCI-E1X插槽轉(zhuǎn)換為2個(gè)PCI-E 1X插槽的擴(kuò)展卡,有效解決了需要
2017-10-19 16:25:49

請(qǐng)教關(guān)于C6748 L1DRAM cache 的問(wèn)題?

C6748 上電時(shí)默認(rèn)L1DRAM全部為cache,1、那么如果我在程序中沒(méi)有對(duì) L1DRAM進(jìn)行操作或配置,程序運(yùn)行時(shí)L1DRAM中的數(shù)據(jù)是否會(huì)有變化?2、L1DRAM作為 cache是如何工作的?
2018-07-25 07:46:25

請(qǐng)問(wèn)14納米的ARM 處理器和14納米X86移動(dòng)處理器那個(gè)更省電??

14納米的ARM 處理器和14納米X86移動(dòng)處理器那個(gè)更省電??
2020-07-14 08:03:23

請(qǐng)問(wèn)兩路1x SRIO具體配置過(guò)程需要哪些步驟呢?

本帖最后由 一只耳朵怪 于 2018-6-19 10:44 編輯 專(zhuān)家好! 配置兩路1x模式的SRIO,采用DIO方式獨(dú)立完成收發(fā),我現(xiàn)在想實(shí)現(xiàn)最簡(jiǎn)單的收發(fā)功能,不采用doorbell方式產(chǎn)生中斷,由外部GPIO提供收發(fā)中斷。具體配置過(guò)程需要哪些步驟呢?
2018-06-19 00:53:06

龍芯1x嵌入式開(kāi)發(fā)工具怎么樣

龍芯1x嵌入式開(kāi)發(fā)工具收藏一下:龍芯1x嵌入式開(kāi)發(fā)工具|Loongson 1x Embedded Develo…|關(guān)于我們|龍芯嵌入式開(kāi)發(fā)工具|蘇州天晟軟件龍芯嵌入式開(kāi)發(fā)工具|蘇州天晟軟件,龍芯1x
2021-12-24 06:25:47

DRAM原理 - 1.存儲(chǔ)單元陣列#DRAM

DRAM
EE_Voky發(fā)布于 2022-06-28 15:17:53

DRAM原理 - 2.讀寫(xiě)循環(huán)#DRAM原理

DRAM
EE_Voky發(fā)布于 2022-06-28 15:18:22

DRAM原理 - 4.選通器與分配器#DRAM原理

DRAM
EE_Voky發(fā)布于 2022-06-28 15:20:21

DRAM原理 - 5.DIMM層次結(jié)構(gòu)#DRAM原理

DRAM
EE_Voky發(fā)布于 2022-06-28 15:20:45

DRAM原理 - 7.地址映射#DRAM原理

DRAM
EE_Voky發(fā)布于 2022-06-28 15:21:30

如何從CDMA2000 1X到CDMA2000 1x EV的

如何從CDMA2000 1X到CDMA2000 1x EV的平滑演進(jìn) CDMA2000由CDMA2000 1X和CDMA2000 1x EV (Evolution Version)兩大部分組成,CDMA2000 1X 的版本包括Rel.0,Rel.A,Rel.B
2009-06-13 22:30:53638

#硬聲創(chuàng)作季 #納米技術(shù) 納米材料表征技術(shù)-1.7能量分散X射線(xiàn)譜

納米技術(shù)材料納米X射線(xiàn)
水管工發(fā)布于 2022-10-17 21:06:38

#硬聲創(chuàng)作季 #納米技術(shù) 納米材料表征技術(shù)-2.1X射線(xiàn)

納米技術(shù)材料納米X射線(xiàn)
水管工發(fā)布于 2022-10-17 21:07:28

#硬聲創(chuàng)作季 #納米技術(shù) 納米材料表征技術(shù)-2.4X射線(xiàn)衍射裝置

納米技術(shù)裝置材料納米X射線(xiàn)
水管工發(fā)布于 2022-10-17 21:09:27

#硬聲創(chuàng)作季 #納米技術(shù) 納米材料表征技術(shù)-2.5單晶和粉末X射線(xiàn)衍射

納米技術(shù)材料納米X射線(xiàn)
水管工發(fā)布于 2022-10-17 21:09:54

#硬聲創(chuàng)作季 #納米技術(shù) 納米材料表征技術(shù)-2.6X射線(xiàn)衍射分析

納米技術(shù)材料納米X射線(xiàn)
水管工發(fā)布于 2022-10-17 21:10:20

#硬聲創(chuàng)作季 #納米技術(shù) 納米材料表征技術(shù)-2.7薄膜X射線(xiàn)衍射及應(yīng)用

薄膜納米技術(shù)材料納米X射線(xiàn)
水管工發(fā)布于 2022-10-17 21:10:53

#硬聲創(chuàng)作季 #納米技術(shù) 納米材料表征技術(shù)-5.3X射線(xiàn)譜學(xué)原理一

納米技術(shù)納米X射線(xiàn)
水管工發(fā)布于 2022-10-17 21:26:50

#硬聲創(chuàng)作季 #納米技術(shù) 納米材料表征技術(shù)-5.4同步輻射X射線(xiàn)譜學(xué)原理二

納米技術(shù)輻射納米X射線(xiàn)
水管工發(fā)布于 2022-10-17 21:27:21

#硬聲創(chuàng)作季 #納米技術(shù) 納米材料表征技術(shù)-5.5軟x射線(xiàn)譜學(xué)方法

納米技術(shù)納米X射線(xiàn)
水管工發(fā)布于 2022-10-17 21:27:52

三星加速制程微縮 DRAM進(jìn)入40納米世代

三星加速制程微縮 DRAM進(jìn)入40納米世代 三星電子(Samsung Electronics)加速制程微縮,積極導(dǎo)入40納米制程,第4季已開(kāi)始小幅試產(chǎn)DDR3,預(yù)計(jì)2010年下半40納米將成為主流制程
2009-11-18 09:20:55466

爾必達(dá)40納米制程正式對(duì)戰(zhàn)美光

爾必達(dá)40納米制程正式對(duì)戰(zhàn)美光 一度缺席全球DRAM產(chǎn)業(yè)50納米制程大戰(zhàn)的爾必達(dá)(Elpida),隨著美光(Micron)2010年加入50納米制程,爾必達(dá)狀況更顯得困窘,在經(jīng)過(guò)近1年臥薪嘗
2010-01-08 12:28:52554

4大DRAM陣營(yíng)競(jìng)爭(zhēng)激烈 美光、爾必達(dá)提前導(dǎo)入40納米

4大DRAM陣營(yíng)競(jìng)爭(zhēng)激烈 美光、爾必達(dá)提前導(dǎo)入40納米 DRAM陣營(yíng)三星電子(Samsung Electronics)、海力士(Hynix)、爾必達(dá)(Elpida)和美光(Micron)戰(zhàn)場(chǎng)直接拉到40納米世代!繼爾必達(dá)跳過(guò)50納
2010-01-22 09:56:02836

三星將大批量生產(chǎn)30納米DDR3 DRAM內(nèi)存芯片

三星將大批量生產(chǎn)30納米DDR3 DRAM內(nèi)存芯片 據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,全球最大的內(nèi)存芯片廠(chǎng)商三星電子周一稱(chēng),30納米DDR3 DRAM內(nèi)存芯片已經(jīng)適合消費(fèi)者使用,準(zhǔn)備應(yīng)用到產(chǎn)品中。
2010-02-03 10:06:26701

CDMA 1X基站射頻性能測(cè)試

一、引言 伴隨著國(guó)內(nèi)運(yùn)營(yíng)商的重組,CDMA 1X技術(shù)重新受到國(guó)內(nèi)業(yè)界的關(guān)注,本文主要介紹了CDMA 1X基站射頻性能對(duì)CDMA 1X網(wǎng)絡(luò)質(zhì)量的影響以及CDMA 1X基站射頻測(cè)試中的關(guān)鍵問(wèn)題
2017-12-07 17:48:31833

三星二代10納米將加速未來(lái)DRAM芯片問(wèn)世 進(jìn)一步搶攻DRAM市場(chǎng)商機(jī)

三星的DRAM市場(chǎng)表現(xiàn)十分強(qiáng)勁,并在近日宣布量產(chǎn)其第二代10納米的8Gb DDR4 DRAM。為迎合市場(chǎng)龐大需求,三星將在明年擴(kuò)大第一代DDR4 DRAM的產(chǎn)量。
2017-12-27 11:22:38834

三星開(kāi)始量產(chǎn)第二代10納米級(jí)制程工藝DRAM內(nèi)存芯片

據(jù)韓聯(lián)社北京時(shí)間12月20日?qǐng)?bào)道,三星電子今天宣布,已開(kāi)始量產(chǎn)第二代10納米級(jí)制程工藝DRAM內(nèi)存芯片。
2017-12-29 11:15:416063

三星或?qū)⒂肊UV設(shè)備進(jìn)行DRAM研發(fā)生產(chǎn)

傳三星電子(Samsung Electronics)啟動(dòng)采用極紫外光(EUV)微影設(shè)備的DRAM生產(chǎn)研發(fā),雖然三星目標(biāo)2020年前量產(chǎn)16納米DRAM,不過(guò)也有可能先推出17納米制程產(chǎn)品。
2018-08-17 17:07:22709

10納米DRAM制程競(jìng)爭(zhēng)升溫,SK海力士、美光加速追趕三星

2018-11-12 13:24 | 查看: 21 | 評(píng)論: 0 | 來(lái)自: 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng) 摘要 : 10納米級(jí)DRAM先進(jìn)制程競(jìng)爭(zhēng)逐漸升溫,三星電子在2017年率先宣布量產(chǎn)第二代10納米(1y
2018-11-12 18:04:02253

南亞科啟動(dòng)自主研發(fā)的10納米世代制程研發(fā) 將擴(kuò)大辦理超過(guò)100人以上的研發(fā)人才招募

今年以來(lái)DRAM價(jià)格持續(xù)下跌,DRAM廠(chǎng)南亞科今年獲利表現(xiàn)恐不如去年好。為了維持穩(wěn)定獲利,南亞科將朝向優(yōu)化產(chǎn)品組合方向調(diào)整,提高DDR4及LPDDR4X等毛利率較好的產(chǎn)品比重。此外,南亞科已取得美光的1x/1y納米制程技術(shù)授權(quán)選擇權(quán),并啟動(dòng)自主研發(fā)的10納米世代制程研發(fā)。
2019-03-01 16:30:254125

美光科技正式宣布將采用第3代10納米級(jí)制程生產(chǎn)新一代DRAM

根據(jù)國(guó)外科技媒體《Anandtech》的報(bào)導(dǎo)指出,日前美系存儲(chǔ)器大廠(chǎng)美光科技(Micron)正式宣布,將采用第3代10納米級(jí)制程(1Znm)來(lái)生產(chǎn)新一代DRAM。而首批使用1Znm制程來(lái)生
2019-08-19 15:45:223148

每1納米對(duì)DRAM的意義

大多數(shù)讀者應(yīng)該知道Intel 的處理器、TSMC生產(chǎn)的SoC(System on Chip)等邏輯半導(dǎo)體的相關(guān)工藝,也明白到這些規(guī)則只不過(guò)對(duì)產(chǎn)品的命名罷了。那么,DRAM中提到的1X(18nm)、1Y(17nm)、1Z(16nm)等又都意味著什么?
2020-07-22 14:33:123769

三星首款12納米級(jí)DDR5 DRAM開(kāi)發(fā)成功

-三星電子新款DRAM將于2023年開(kāi)始量產(chǎn),以?xún)?yōu)異的性能和更高的能效,推動(dòng)下一代計(jì)算、數(shù)據(jù)中心和AI應(yīng)用的發(fā)展 官方發(fā)布? ? 2022年12月21日,三星電子宣布,已成功開(kāi)發(fā)出其首款采用12納米
2022-12-21 11:08:29521

三星電子首款12納米級(jí)DDR5 DRAM開(kāi)發(fā)成功

出其首款采用12納米(nm)級(jí)工藝技術(shù)打造的16 Gb DDR5 DRAM,并與AMD一起完成了兼容性方面的產(chǎn)品評(píng)估。 三星電子首款12納米級(jí)DDR5 DRAM 三星電子高級(jí)副總裁兼DRAM產(chǎn)品與技術(shù)負(fù)責(zé)人
2022-12-21 21:19:54756

12納米后,DRAM怎么辦?

化挑戰(zhàn)都是重大的。特別是,ASML 報(bào)告說(shuō),當(dāng)中心到中心(center-to-center)值達(dá)到 40 nm 時(shí),即使對(duì)于 EUV ,也不推薦使用單一圖案化。在本文中,我們將展示對(duì)于 12 納米及更高節(jié)點(diǎn)的 DRAM 節(jié)點(diǎn),電容器中心到中心預(yù)計(jì)將低于 40 納米,因此需要多重圖案化。
2023-02-07 15:08:55381

美光科技: 納米印刷助降DRAM成本

近期的演示會(huì)上,美光詳細(xì)闡述了其針對(duì)納米印刷與DRAM制造之間的具體工作模式。他們提出,DRAM工藝的每一個(gè)節(jié)點(diǎn)以及浸入式光刻的精度要求使得物理流程變得愈發(fā)復(fù)雜。
2024-03-05 16:18:24191

美光計(jì)劃部署納米印刷技術(shù),降低DRAM芯片生產(chǎn)成本

3 月 5 日消息,美光科技公司計(jì)劃率先支持佳能的納米印刷技術(shù),從而進(jìn)一步降低生產(chǎn) DRAM 存儲(chǔ)芯片的單層成本。 美光公司近日舉辦了一場(chǎng)演講,介紹在將納米印刷技術(shù)應(yīng)用于 DRAM 生產(chǎn)的一些細(xì)節(jié)
2024-03-06 08:37:3562

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