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SK海力士將量產(chǎn)基于EUV工藝的DRAM

我快閉嘴 ? 來(lái)源:愛(ài)集微 ? 作者:小山 ? 2020-09-20 11:06 ? 次閱讀
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據(jù)韓媒etnews報(bào)道,在“Tech Week 2020 LIVE”活動(dòng)上,三星電子和SK海力士宣布了各自關(guān)于下一代半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展戰(zhàn)略。其中,三星電子計(jì)劃量產(chǎn)業(yè)界首批采用3納米環(huán)繞式棧極(gate-all-around,簡(jiǎn)稱GAA)工藝制造的尖端芯片;SK海力士則正準(zhǔn)備生產(chǎn)基于極紫外光刻 (EUV)技術(shù)的DRAM

三星電子表示,該公司計(jì)劃通過(guò)IBM和英偉達(dá)的下一代CPUGPU的訂單,在全球代工市場(chǎng)上利用GAA技術(shù)開(kāi)拓下一代產(chǎn)品市場(chǎng)。

三星代工的執(zhí)行董事Kang Moon-soo稱,“我們計(jì)劃大規(guī)模生產(chǎn)行業(yè)第一批基于GAA技術(shù)的半導(dǎo)體”。

韓媒指出,截至目前,三星電子和臺(tái)積電是業(yè)界僅有的開(kāi)始開(kāi)發(fā)GAA工藝的兩家公司。

這也意味著,如果三星電子能夠在量產(chǎn)時(shí)程上超越臺(tái)積電,三星將能夠抓住機(jī)遇,甚至在全球代工市場(chǎng)上領(lǐng)先臺(tái)積電。

而SK海力士也將很快量產(chǎn)基于EUV工藝的DRAM。SK海力士未來(lái)技術(shù)研究所負(fù)責(zé)人Lim Chang-moon表示,“我們計(jì)劃從第4代10nm (1a) DRAM開(kāi)始應(yīng)用EUV工藝。同時(shí)我們計(jì)劃明年初開(kāi)始大規(guī)模生產(chǎn)”。

數(shù)據(jù)顯示,全球DRAM市場(chǎng)約94%的份額分別由三星、SK海力士和美光壟斷,兩家韓國(guó)公司約占74%的市場(chǎng)份額。

因而,若GAA和EUV DRAM成功落地商業(yè)化,韓國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的地位將進(jìn)一步提升。同時(shí),報(bào)道指出,EUV DRAM將能進(jìn)一步擴(kuò)大韓國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)與中國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)之間的差距。鑒于EUV設(shè)備的昂貴成本以及有限的供應(yīng)量,韓國(guó)企業(yè)將更有別于中國(guó)企業(yè)。
責(zé)任編輯:tzh

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