一区二区三区三上|欧美在线视频五区|国产午夜无码在线观看视频|亚洲国产裸体网站|无码成年人影视|亚洲AV亚洲AV|成人开心激情五月|欧美性爱内射视频|超碰人人干人人上|一区二区无码三区亚洲人区久久精品

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

半導(dǎo)體集成電路制造的核心材料:光刻膠

中科院半導(dǎo)體所 ? 來源:中科院半導(dǎo)體所 ? 作者:中科院半導(dǎo)體所 ? 2020-11-14 09:36 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

首先,我們都知道要制作一顆芯片可以簡單分為三個步驟:IC芯片設(shè)計—芯片制造封裝測試。從最早誕生于電路設(shè)計師的腦袋中,到將大腦中的線路圖像設(shè)計出來,最后送到半導(dǎo)體車間經(jīng)由光刻機反復(fù)光刻,中間經(jīng)過數(shù)百道工藝的層層打磨,一顆嶄新的芯片才正式誕生。

而芯片制造所需的關(guān)鍵設(shè)備就是光刻機,但是我們今天不談光刻機,我們要來聊一聊光刻機中最重要的材料——光刻膠。

光刻膠又稱為光致抗蝕劑,它是一種對光敏感的有機化合物,受紫外光曝光后,在顯影液中的溶解度會發(fā)生變化。光刻膠可分為正性光刻膠和負性光刻膠,主要區(qū)別在于光刻過程中理化性質(zhì)變化不同。

光刻過程基本可以分為8個步驟:1. 氧化及表面處理;2.涂膠;3. 預(yù)烘;4.曝光;5.顯影;6.后烘;7.腐蝕;8.去膠。

俗話說“巧婦難為無米之炊”,如果把光刻機比作巧婦,那么光刻膠就是那閃著金光的糧食。沒有食物,即使有技術(shù)最高超的廚師也無法烹飪出一道美味佳肴。

光刻膠的質(zhì)量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關(guān)鍵因素。光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的 35%,并且耗費 時間約占整個芯片工藝的 40%-50%。光刻膠材料約占 IC 制造材料總 成本的 4%,市場巨大。因此光刻膠是半導(dǎo)體集成電路制造的核心材料。

資料顯示,2019 年全球光刻膠市場規(guī)模預(yù)計近 90 億美元,自 2010 年至今 CAGR 約 5.4%。預(yù)計該市場未來 3 年仍將以年均 5%的速度增長,至 2022 年全球光刻膠市場規(guī)模將超過 100 億美元。光刻膠的主要應(yīng)用場景有四個:半導(dǎo)體、顯示面板(LCD)、PCB(印制線路板)和其他光刻膠市場占比都差不多,基本都為25%左右。

其中,PCB 光刻膠主要用于中低端產(chǎn)品,技術(shù)壁壘相對較低。在全球 PCB 產(chǎn)業(yè)向亞洲轉(zhuǎn)移的背景下,中國以巨大的內(nèi)需市場和較為低廉的生產(chǎn)成本承接了大量 PCB 產(chǎn)能投資。2006 年起,我國成為 PCB 的最大生產(chǎn)國,也是 PCB光刻膠的最大使用國。據(jù)第三方機構(gòu)測算,從 2016 年至 2020 年,中國 PCB 行業(yè)產(chǎn)值自 271 億美元增長到了 311.6 億美元,年復(fù)合增長率約為 3.5%。

LCD光刻膠領(lǐng)域,隨著全球面板產(chǎn)能陸續(xù)向中國大陸轉(zhuǎn)移,國內(nèi) LCD 光刻膠需求快速增長。光刻膠不僅技術(shù)壁壘高,客戶壁壘也高,這種雙高性質(zhì),使得行業(yè)集中度不斷提高,日美企業(yè)可以保持壟斷優(yōu)勢,而新進入企業(yè)則需要大量的資金、技術(shù)和人才投入。國產(chǎn)光刻膠高端技術(shù)要短期內(nèi)突破比較難,還要很長的路要走。

責(zé)任編輯:xj

原文標(biāo)題:光刻機背后的“糧食”——光刻膠

文章出處:【微信公眾號:中科院半導(dǎo)體所】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • pcb
    pcb
    +關(guān)注

    關(guān)注

    4365

    文章

    23482

    瀏覽量

    409308
  • 光刻機
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1164

    瀏覽量

    48177
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    339

    瀏覽量

    30932

原文標(biāo)題:光刻機背后的“糧食”——光刻膠

文章出處:【微信號:bdtdsj,微信公眾號:中科院半導(dǎo)體所】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    國產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 光刻膠作為芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心耗材,尤其高端材料長期被日美巨頭壟斷,國外企業(yè)對原料和配方高度保密,我國九成以上
    的頭像 發(fā)表于 07-13 07:22 ?679次閱讀

    行業(yè)案例|膜厚儀應(yīng)用測量之光刻膠厚度測量

    光刻膠,又稱光致抗蝕劑,是一種關(guān)鍵的耐蝕劑刻薄膜材料。它在紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射或輻射下,溶解度會發(fā)生變化,主要應(yīng)用于顯示面板、集成電路半導(dǎo)體分立器件等細微圖形加工
    的頭像 發(fā)表于 07-11 15:53 ?32次閱讀
    行業(yè)案例|膜厚儀應(yīng)用測量之<b class='flag-5'>光刻膠</b>厚度測量

    金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離是重要工序。傳統(tǒng)剝離液常對金屬層產(chǎn)生過度刻蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精確測量也是確保制造質(zhì)量的關(guān)鍵。本文聚焦金屬低刻蝕的
    的頭像 發(fā)表于 06-16 09:31 ?129次閱讀
    金屬低刻蝕的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其應(yīng)用及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    ? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對器件性能產(chǎn)生負面影響。同時,光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少
    的頭像 發(fā)表于 06-14 09:42 ?264次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時,精準(zhǔn)測量
    的頭像 發(fā)表于 05-29 09:38 ?187次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片
    的頭像 發(fā)表于 04-29 13:59 ?2149次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性

    最全最詳盡的半導(dǎo)體制造技術(shù)資料,涵蓋晶圓工藝到后端封測

    第9章 集成電路制造工藝概況 第10章 氧化 第11章 淀積 第12章 金屬化 第13章 光刻:氣相成底膜到軟烘 第14章 光刻:對準(zhǔn)和曝光 第15章
    發(fā)表于 04-15 13:52

    【「芯片通識課:一本書讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗】芯片怎樣制造

    。 光刻工藝、刻蝕工藝 在芯片制造過程中,光刻工藝和刻蝕工藝用于在某個半導(dǎo)體材料或介質(zhì)材料層上,
    發(fā)表于 04-02 15:59

    半導(dǎo)體材料介紹 | 光刻膠及生產(chǎn)工藝重點企業(yè)

    體。在光刻工藝過程中,用作抗腐蝕涂層材料半導(dǎo)體材料在表面加工時,若采用適當(dāng)?shù)挠羞x擇性的光刻膠,可在表面上得到所需的圖像。
    的頭像 發(fā)表于 03-18 13:59 ?1025次閱讀
    <b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b><b class='flag-5'>材料</b>介紹 | <b class='flag-5'>光刻膠</b>及生產(chǎn)工藝重點企業(yè)

    晶圓表面光刻膠的涂覆與刮邊工藝的研究

    隨著半導(dǎo)體器件的應(yīng)用范圍越來越廣,晶圓制造技術(shù)也得到了快速發(fā)展。其中,光刻技術(shù)在晶圓制造過程中的地位尤為重要。光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 01-03 16:22 ?662次閱讀

    光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料

    光刻膠半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料,在整個電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關(guān)鍵性能,增
    的頭像 發(fā)表于 12-19 13:57 ?949次閱讀

    一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠

    共讀好書關(guān)于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球,領(lǐng)取公眾號資料
    的頭像 發(fā)表于 11-01 11:08 ?2442次閱讀

    光刻膠的使用過程與原理

    本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。
    的頭像 發(fā)表于 10-31 15:59 ?1508次閱讀

    國產(chǎn)光刻膠通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗證

    設(shè)計,有望開創(chuàng)國內(nèi)半導(dǎo)體光刻制造新局面。 ? 眾所周知,光刻膠半導(dǎo)體芯片制造過程中所必須的關(guān)鍵材料
    的頭像 發(fā)表于 10-17 13:22 ?628次閱讀
    國產(chǎn)<b class='flag-5'>光刻膠</b>通過<b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>工藝量產(chǎn)驗證

    掩膜版與光刻膠的功能和作用

    是作為設(shè)計圖形的載體,通過光刻過程將掩膜版上的設(shè)計圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上,再經(jīng)過刻蝕,將圖形刻到襯底上,從而實現(xiàn)圖形到硅片的轉(zhuǎn)移。掩膜版的精度和質(zhì)量在很大程度上決定了集成電路最終產(chǎn)品的質(zhì)量。在制造
    的頭像 發(fā)表于 09-06 14:09 ?1679次閱讀