4月6日，中微公司董事長、總經理尹志堯透露，公司研發(fā)的等離子刻蝕設備已經進入客戶的5nm生產線。

尹志堯表示，公司的等離子體刻蝕設備已應用在國際一線客戶從65納米到14納米、7納米和5納米及其他先進的集成電路加工制造生產線和先進封裝生產線。

其中，公司開發(fā)的12英寸高端刻蝕設備已運用在國際知名客戶最先進的生產線上并用于5納米、5納米以下器件中若干關鍵步驟的加工。

此外，公司MOCVD設備在行業(yè)領先客戶的生產線上大規(guī)模投入量產。

中微公司也在互動平臺上證實了這一說法，稱公司刻蝕設備確實進入了5納米生產線。

中微公司瞄準世界科技前沿，主要從事高端半導體設備及泛半導體設備的研發(fā)、生產和銷售。

公司的刻蝕設備已應用于全球先進的7納米和5納米及其他先進的集成電路加工制造生產線及先進封裝生產線。

中微公司作為設備公司，向客戶提供可加工先進器件的設備，協(xié)助、配合客戶實現先進器件的開發(fā)和生產。

據介紹，等離子體刻蝕機是芯片制造中的一種關鍵設備，用來在芯片上進行微觀雕刻，每個線條和深孔的加工精度都是頭發(fā)絲直徑的幾千分之一到上萬分之一，精度控制要求非常高。

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