一区二区三区三上|欧美在线视频五区|国产午夜无码在线观看视频|亚洲国产裸体网站|无码成年人影视|亚洲AV亚洲AV|成人开心激情五月|欧美性爱内射视频|超碰人人干人人上|一区二区无码三区亚洲人区久久精品

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

搖擺蝕刻機

華林科納半導(dǎo)體設(shè)備制造 ? 2022-12-19 17:05 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

PTFE管用途:可用于蝕刻搖擺機的搖擺架,PTFE也稱:可溶性聚四氟乙烯、特氟龍、Teflon

蝕刻機的簡單介紹:

1、采用傳動裝置,霧化噴淋,結(jié)構(gòu)合理;加工尺寸長度不限制,速度快、精度高;

2、效率高使用方便:有效地設(shè)計噴淋與被蝕刻金屬板的有效面積和蝕刻均勻程度;蝕刻效果、速度和操作者的環(huán)境及方便程度等方面都有改善;藥液使用充分,大大降低生產(chǎn)成本;3、蝕刻速度在傳統(tǒng)蝕刻法上大大提高:經(jīng)反復(fù)實驗噴射壓力在1-2 kg/cm2的情況下被蝕刻工件上所殘留的蝕刻圬漬能被有效清處掉;

特點1:每排噴嘴壓力允可調(diào)節(jié),壓力獨特顯示。

特點2:前蝕刻區(qū)左右搖擺,后蝕刻區(qū)前后搖擺,蝕刻更佳。

特點3:雙面壓輥,防止在腐蝕過程板材重疊。

特點4:雙重過濾,防止噴嘴賭賽.提高時刻質(zhì)量。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 蝕刻
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    424

    瀏覽量

    16108
  • 刻蝕機
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    56

    瀏覽量

    4568
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    晶圓蝕刻擴散工藝流程

    晶圓蝕刻與擴散是半導(dǎo)體制造中兩個關(guān)鍵工藝步驟,分別用于圖形化蝕刻和雜質(zhì)摻雜。以下是兩者的工藝流程、原理及技術(shù)要點的詳細介紹:一、晶圓蝕刻工藝流程1.蝕刻的目的圖形化轉(zhuǎn)移:將光刻膠圖案轉(zhuǎn)
    的頭像 發(fā)表于 07-15 15:00 ?142次閱讀
    晶圓<b class='flag-5'>蝕刻</b>擴散工藝流程

    晶圓蝕刻后的清洗方法有哪些

    晶圓蝕刻后的清洗是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵步驟,旨在去除蝕刻殘留物(如光刻膠、蝕刻產(chǎn)物、污染物等),同時避免對晶圓表面或結(jié)構(gòu)造成損傷。以下是常見的清洗方法及其原理:一、濕法清洗1.溶劑清洗目的:去除光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 07-15 14:59 ?134次閱讀
    晶圓<b class='flag-5'>蝕刻</b>后的清洗方法有哪些

    金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導(dǎo)體及微納制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝對金屬結(jié)構(gòu)的保護至關(guān)重要。傳統(tǒng)剝離液易造成金屬過度蝕刻,影響器件性能。同時,光刻圖形的精確測量是保障工藝質(zhì)量的關(guān)鍵。本文將介紹金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合
    的頭像 發(fā)表于 06-24 10:58 ?157次閱讀
    金屬低<b class='flag-5'>蝕刻</b>率光刻膠剝離液組合物應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    微加工激光蝕刻技術(shù)的基本原理及特點

    上回我們講到了微加工激光切割技術(shù)在陶瓷電路基板的應(yīng)用,這次我們來聊聊激光蝕刻技術(shù)的前景。陶瓷電路基板(Ceramic Circuit Substrate)是一種以高性能陶瓷材料為絕緣基體,表面通過
    的頭像 發(fā)表于 06-20 09:09 ?453次閱讀

    什么是高選擇性蝕刻

    華林科納半導(dǎo)體高選擇性蝕刻是指在半導(dǎo)體制造等精密加工中,通過化學(xué)或物理手段實現(xiàn)目標材料與非目標材料刻蝕速率的顯著差異,從而精準去除指定材料并保護其他結(jié)構(gòu)的工藝技術(shù)?。其核心在于通過工藝優(yōu)化控制
    的頭像 發(fā)表于 03-12 17:02 ?382次閱讀

    想做好 PCB 板蝕刻?先搞懂這些影響因素

    對其余銅箔進行化學(xué)腐蝕,這個過程稱為蝕刻。 蝕刻方法是利用蝕刻溶液去除導(dǎo)電電路外部銅箔,而雕刻方法則是借助雕刻去除導(dǎo)電電路之外的銅箔。前者是常見的化學(xué)方法,后者為物理方法。電路板
    的頭像 發(fā)表于 02-27 16:35 ?590次閱讀
    想做好 PCB 板<b class='flag-5'>蝕刻</b>?先搞懂這些影響因素

    深入探討 PCB 制造技術(shù):化學(xué)蝕刻

    作者:Jake Hertz 在眾多可用的 PCB 制造方法中,化學(xué)蝕刻仍然是行業(yè)標準。蝕刻以其精度和可擴展性而聞名,它提供了一種創(chuàng)建詳細電路圖案的可靠方法。在本博客中,我們將詳細探討化學(xué)蝕刻工藝及其
    的頭像 發(fā)表于 01-25 15:09 ?747次閱讀
    深入探討 PCB 制造技術(shù):化學(xué)<b class='flag-5'>蝕刻</b>

    蝕刻基礎(chǔ)知識

    制作氧化局限面射型雷射與蝕刻空氣柱狀結(jié)構(gòu)一樣都需要先將磊晶片進行蝕刻,以便暴露出側(cè)向蝕刻表面(etched sidewall)提供增益波導(dǎo)或折射率波導(dǎo)效果,同時靠近活性層的高鋁含量砷化鋁鎵層也才
    的頭像 發(fā)表于 01-22 14:23 ?820次閱讀
    <b class='flag-5'>蝕刻</b>基礎(chǔ)知識

    芯片濕法蝕刻工藝

    芯片濕法蝕刻工藝是一種在半導(dǎo)體制造中使用的關(guān)鍵技術(shù),主要用于通過化學(xué)溶液去除硅片上不需要的材料。 基本概念 濕法蝕刻是一種將硅片浸入特定的化學(xué)溶液中以去除不需要材料的工藝,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體器件如芯片
    的頭像 發(fā)表于 12-27 11:12 ?864次閱讀

    N9305音樂芯片:兒童搖擺車開發(fā)方案

    No.1前言在現(xiàn)代兒童玩具市場中,兒童搖擺車在超市門口最常見,也是孩子們極為喜愛的娛樂設(shè)施之一。它的語音提示和音樂播放功能,就是置入了九芯電子N9305語音芯片,不僅賦予了兒童搖擺車生動有趣的互動
    的頭像 發(fā)表于 12-18 14:44 ?510次閱讀
    N9305音樂芯片:兒童<b class='flag-5'>搖擺</b>車開發(fā)方案

    N9305音樂芯片:兒童搖擺車開發(fā)方案

    兒童搖擺車用九芯N9305語音芯片,實現(xiàn)語音提示、兒歌播放,增強互動體驗,支持32G存儲,自主更新,體現(xiàn)對兒童成長的關(guān)懷,未來望引領(lǐng)兒童玩具智能化發(fā)展。
    的頭像 發(fā)表于 12-18 14:44 ?468次閱讀
    N9305音樂芯片:兒童<b class='flag-5'>搖擺</b>車開發(fā)方案

    半導(dǎo)體蝕刻工藝科普

    過度蝕刻暴露硅晶圓表面可能會導(dǎo)致表面粗糙。當(dāng)硅表面在HF過程中暴露于OH離子時,硅表面可能會變得粗糙。
    的頭像 發(fā)表于 11-05 09:25 ?1233次閱讀
    半導(dǎo)體<b class='flag-5'>蝕刻</b>工藝科普

    濕法蝕刻的發(fā)展

    蝕刻的歷史方法是使用濕法蝕刻劑的浸泡技術(shù)。該程序類似于前氧化清潔沖洗干燥過程和沉浸顯影。晶圓被浸入蝕刻劑罐中一段時間,轉(zhuǎn)移到?jīng)_洗站去除酸,然后轉(zhuǎn)移到最終沖洗和旋轉(zhuǎn)干燥步驟。濕法蝕刻用于
    的頭像 發(fā)表于 10-24 15:58 ?597次閱讀
    濕法<b class='flag-5'>蝕刻</b>的發(fā)展

    離子束刻蝕物理量傳感器 MEMS 刻蝕應(yīng)用

    口離子束刻蝕 IBE 可以很好的解決傳感器 MEMS 的刻蝕難題, 射頻角度可以任意調(diào)整, 蝕刻可以根據(jù)需要做垂直, 斜面等等加工形狀, 刻蝕那些很難刻蝕的硬質(zhì)或惰性材料.
    的頭像 發(fā)表于 09-12 13:31 ?728次閱讀
    離子束刻蝕<b class='flag-5'>機</b>物理量傳感器 MEMS 刻蝕應(yīng)用

    VCSEL激光在蝕刻和光刻中的應(yīng)用與前景

    VCSEL激光在蝕刻和光刻中應(yīng)用廣泛,提高精度和效率。銀月光科技提供多波長VCSEL激光器,定制化服務(wù),助力工業(yè)生產(chǎn)高效高質(zhì)量。未來,更多種類VCSEL激光器將推動工業(yè)技術(shù)創(chuàng)新。
    的頭像 發(fā)表于 08-01 09:18 ?909次閱讀