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英特爾發(fā)力18A工藝節(jié)點(diǎn),力圖超越三星躍升全球第二大晶圓代工廠

微云疏影 ? 來(lái)源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-02-26 14:40 ? 次閱讀
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英特爾加大力度向韓無(wú)晶圓廠芯片公司推介產(chǎn)品。據(jù)知情人士透露,英特爾首席執(zhí)行官帕特·基辛格去年與多家韓國(guó)芯片新企高層交流,詳細(xì)介紹了自家先進(jìn)的代工方案。

該美大型芯片廠商正在積極推廣旗下Intel 18A(1.8nm級(jí))工藝節(jié)點(diǎn),并出示多種惠及客戶的策略;近期,英特爾進(jìn)一步發(fā)布新的Intel 14A(1.4nm級(jí))工藝節(jié)點(diǎn),宣布采用該節(jié)點(diǎn)制造的芯片預(yù)計(jì)將在2027年實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn);該公司還透露,迄今已斬獲逾150億美元的訂單,雄心壯志要到2030年超越現(xiàn)排全球第二的韓國(guó)三星,緊隨龍頭企業(yè)臺(tái)積電之后。強(qiáng)調(diào)到彼時(shí),將榮升成為全球第二大晶圓代工廠。

關(guān)于節(jié)點(diǎn)技術(shù)研發(fā),英特爾宣稱Intel 18A將從今年底起進(jìn)入批量生產(chǎn)階段,屆時(shí)將躍居代工領(lǐng)域的領(lǐng)先地位,超過(guò)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手三星和臺(tái)積電——均計(jì)劃于2022年推出2nm制程;其中,三星計(jì)劃先啟用GAA(全環(huán)繞柵極)至3nm,隨后攻克2nm瓶頸,而臺(tái)積電則與英特爾共同決定選用FinFET架構(gòu)用于3nm芯片制作。

此三家業(yè)界巨擘正忙著搶奪客戶資源。近期,三星憑借2nm制程打敗日本Preferred Networks贏得新訂單,值得一提的是,該日企原本預(yù)訂臺(tái)灣MTK臺(tái)積電負(fù)責(zé)其AI芯片研發(fā)生產(chǎn),然而現(xiàn)計(jì)劃改為由三星接手制造。

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