3D封裝與系統(tǒng)級(jí)封裝概述
一、引言:先進(jìn)封裝技術(shù)的演進(jìn)背景
隨著摩爾定律逐漸逼近物理極限,半導(dǎo)體行業(yè)開(kāi)始從單純依賴制程微縮轉(zhuǎn)向封裝技術(shù)創(chuàng)新。3D封裝和系統(tǒng)級(jí)封裝(SiP)作為突破傳統(tǒng)2D平面集成限制的核心技術(shù),正在重塑電子系統(tǒng)的集成范式。3D封裝通過(guò)垂直堆疊實(shí)現(xiàn)超高的空間利用率,而SiP則專(zhuān)注于多功能異質(zhì)集成,兩者共同推動(dòng)著高性能計(jì)算、人工智能和物聯(lián)網(wǎng)等領(lǐng)域的技術(shù)革新。
根據(jù)Mordor Intelligence報(bào)告,全球2.5D/3D封裝市場(chǎng)規(guī)模已從2023年的86.6億美元增長(zhǎng)至2029年的216.3億美元,年復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá)17.2%。這種爆發(fā)式增長(zhǎng)源于三大技術(shù)驅(qū)動(dòng)力:HBM存儲(chǔ)器需求激增、AI芯片對(duì)帶寬的渴求,以及移動(dòng)設(shè)備對(duì)微型化的極致追求。
二、3D封裝技術(shù)體系解析
2.1 技術(shù)原理與核心要素
3D封裝的核心在于垂直互連架構(gòu)的實(shí)現(xiàn),其技術(shù)突破點(diǎn)體現(xiàn)在三個(gè)維度:
硅通孔(TSV)技術(shù):在芯片內(nèi)部制作直徑5-50μm的垂直導(dǎo)電通道,實(shí)現(xiàn)層間直接電氣連接。英特爾的Foveros技術(shù)采用10μm級(jí)TSV,使互連密度達(dá)到傳統(tǒng)鍵合的100倍。
混合鍵合(Hybrid Bonding):通過(guò)銅-銅直接鍵合實(shí)現(xiàn)1μm以下間距互連,臺(tái)積電的SoIC技術(shù)已將此工藝良率提升至99.4%,顯著降低RC延遲。
轉(zhuǎn)接板:從硅基轉(zhuǎn)接板(如CoWoS的1700mm2超大尺寸)到玻璃基板(TGV),材料選擇直接影響信號(hào)完整性和熱膨脹匹配。
2.2 典型實(shí)現(xiàn)方案對(duì)比
2.3關(guān)鍵技術(shù)挑戰(zhàn)
熱管理:堆疊結(jié)構(gòu)導(dǎo)致熱流密度激增,AMD的3D V-Cache采用非對(duì)稱布局將熱點(diǎn)溫度控制在85℃以下。
機(jī)械應(yīng)力:TSV引起的局部應(yīng)力可達(dá)200MPa,需通過(guò)應(yīng)力緩沖層和環(huán)形柵結(jié)構(gòu)補(bǔ)償。
測(cè)試策略:采用IEEE 1838標(biāo)準(zhǔn)構(gòu)建邊界掃描鏈,實(shí)現(xiàn)95%以上的堆疊前芯片篩選率。
三、系統(tǒng)級(jí)封裝(SiP)的技術(shù)演進(jìn)
3.1 技術(shù)定義與架構(gòu)創(chuàng)新
SiP通過(guò)三維異質(zhì)集成將處理器、存儲(chǔ)器、傳感器等不同制程/材料的元件整合于單一封裝。高通的Snapdragon 8 Gen1將8核CPU、GPU、5G基帶等10+芯片集成,封裝體積縮減30%的同時(shí)功耗降低22%。
關(guān)鍵技術(shù)突破點(diǎn):
1.埋置式結(jié)構(gòu):將無(wú)源器件嵌入有機(jī)基板,村田的0402尺寸電感集成度提升5倍。
2.扇出型封裝:臺(tái)積電InFO技術(shù)實(shí)現(xiàn)4μm RDL線寬,支持5000+ I/O的處理器封裝。
3.柔性互連:應(yīng)用液態(tài)金屬互連技術(shù),彎曲半徑可達(dá)3mm仍保持10^8次循環(huán)可靠性
3.2 典型應(yīng)用場(chǎng)景分析
結(jié)語(yǔ)
從3D封裝帶來(lái)的垂直革命到SiP實(shí)現(xiàn)的系統(tǒng)級(jí)創(chuàng)新,先進(jìn)封裝技術(shù)正在書(shū)寫(xiě)半導(dǎo)體行業(yè)的第二增長(zhǎng)曲線。隨著混合鍵合、光子集成等技術(shù)的成熟,封裝已從單純的保護(hù)功能進(jìn)化為決定系統(tǒng)性能的核心要素。未來(lái)十年,3D/SiP技術(shù)將與AI、量子計(jì)算等前沿領(lǐng)域深度耦合,推動(dòng)電子系統(tǒng)向更高維度演進(jìn),最終實(shí)現(xiàn)"封裝即芯片"的產(chǎn)業(yè)新范式。
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原文標(biāo)題:3D封裝與系統(tǒng)級(jí)封裝概述
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