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標簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔,以便進行雜質(zhì)的定域擴散的一種加工技術。
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ADI 數(shù)據(jù)采集解決方案在先進光刻芯片制造領域大放異彩l
作者:Pete Bartolik 投稿人:DigiKey 北美編輯 在半導體芯片銷售額從 2022 年的 6000 億美元增至 2030 年的 1 萬億...
2025-05-25 標簽:芯片ADI數(shù)據(jù)采集 206 0
類別:模擬數(shù)字論文 2022-06-29 標簽:光刻蝕刻GaAs 603 0
用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關鍵環(huán)節(jié)。銅布線在制程中廣泛應用,但傳統(tǒng)光刻膠剝離液易對銅產(chǎn)生腐蝕,影響器件性能。同時,光刻...
低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在半導體制造過程中,光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMF)雖在光刻膠剝離方面表現(xiàn)出色,但因其高含量使用帶來的成...
進入過無塵間光刻區(qū)的朋友,應該都知道光刻區(qū)里用的都是黃燈,這個看似很簡單的問題的背后卻蘊含了很多鮮為人知的道理,那為什么實驗室光刻要用黃光呢? 光刻是微...
2025-06-16 標簽:光刻 131 0
TFT-LCD 顯示屏光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在 TFT-LCD 顯示屏制造工藝中,光刻膠剝離是關鍵工序之一,其效果直接影響顯示屏的質(zhì)量與性能。隨著 TFT-LCD 技術向高分辨率、窄邊框方向...
一、光刻工藝概述 光刻工藝是半導體制造的核心技術,通過光刻膠在特殊波長光線或者電子束下發(fā)生化學變化,再經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程,將設計在掩膜上的圖...
引言 在半導體制造和微納加工領域,光刻膠剝離是光刻工藝的重要環(huán)節(jié)。水平式光刻膠剝離工藝憑借其獨特優(yōu)勢在工業(yè)生產(chǎn)中占據(jù)一席之地,而準確測量光刻圖形對保障工...
引言 在半導體制造與微納加工領域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時,精準測量光刻圖形對把控工藝質(zhì)...
納米壓印制備硅基 OLED 微型顯示器的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 硅基 OLED 微型顯示器憑借高分辨率、高對比度等優(yōu)勢,在虛擬現(xiàn)實、增強現(xiàn)實等領域應用廣泛。納米壓印技術為其制備提供了新方向,而精確測量光刻圖形是...
Micro OLED 陽極像素定義層制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
? 引言 ? Micro OLED 作為新型顯示技術,在微型顯示領域極具潛力。其中,陽極像素定義層的制備直接影響器件性能與顯示效果,而光刻圖形的精準測量...
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