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光刻技術(shù)

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隨著半導體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數(shù)量級（從毫米級到亞微米級），已從常規(guī)光學技術(shù)發(fā)展到應用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù)；使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃數(shù)量級范圍。光刻技術(shù)成為一種精密的微細加工技術(shù)。

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光刻技術(shù)技術(shù)

ASML光刻小講堂電子束量測中的透視眼電壓襯度檢測

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Mulith將激進光學技術(shù)擴展到原位計量

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2023-12-18 標簽：集成電路摩爾定律光刻機 2070 0

芯片背面供電網(wǎng)絡(luò)的三種實現(xiàn)方式通信

實現(xiàn)3nm以下微縮的關(guān)鍵技術(shù)之一涉及在芯片背面提供功率。這種新穎的方法增強了信號完整性并減少了路由擁塞，但它也帶來了一些新的挑戰(zhàn)，目前還沒有簡單的解決方案。

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一文解讀光刻膠的原理、應用及市場前景展望

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