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      標(biāo)簽　>　光刻技術(shù)

      光刻技術(shù)

      +關(guān)注1人關(guān)注

      隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個(gè)數(shù)量級(jí)（從毫米級(jí)到亞微米級(jí)），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù)；使用波長已從4000埃擴(kuò)展到 0.1埃數(shù)量級(jí)范圍。光刻技術(shù)成為一種精密的微細(xì)加工技術(shù)。

      文章：144個(gè) 瀏覽：16156次 帖子：5個(gè)

      光刻技術(shù)資訊

      EUV光刻市場高速增長，復(fù)合年增長率21.8%

      EUV掩膜，也稱為EUV掩?；駿UV光刻掩膜，對于極紫外光刻（EUVL）這種先進(jìn)光刻技術(shù)至關(guān)重要。EUV光刻是一種先進(jìn)技術(shù)，用于制造具有更小特征尺寸和增...

      2023-08-07 標(biāo)簽：半導(dǎo)體器件光刻技術(shù)EUV 941 0

      193i光刻技術(shù)再次走向舞臺(tái)中心

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      與此相關(guān)的是打印弧形特征而不是直線特征的能力。Levinson說：”你用曲線特征得到的工藝窗口要比直線近似的好。有一些障礙，人們正在努力解決這些問題。但...

      2023-06-19 標(biāo)簽：芯片光刻技術(shù)EUV 1276 0

      GAA器件結(jié)構(gòu)工藝和挑戰(zhàn)

      GAA器件結(jié)構(gòu)工藝和挑戰(zhàn)

      中國科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對先進(jìn)光刻技術(shù)的理解，本學(xué)期集成電路學(xué)院開設(shè)了《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)...

      2023-06-13 標(biāo)簽：集成電路光刻技術(shù)GAA 1650 0

      中國的先進(jìn)封裝技術(shù)取得突破

      由于無法獲得尖端光學(xué)光刻技術(shù)，中國芯片的制造工程目前限制在14納米，為了獲得更小的芯片、更強(qiáng)的性能，突破尖端包裝技術(shù)更為重要。此前，toff micro...

      2023-06-01 標(biāo)簽：芯片封裝光刻技術(shù) 3361 0

      光刻技術(shù)再次升級(jí)了

      中國在半導(dǎo)體芯片制造方面仍落后于美國。早在上世紀(jì)60年代，美國就開始占據(jù)世界半導(dǎo)體市場的絕對主導(dǎo)地位。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展，半導(dǎo)體芯片的制造越來越精細(xì)化。...

      2023-06-01 標(biāo)簽：納米技術(shù)光刻技術(shù)半導(dǎo)體芯片 1043 0

      NVIDIA H100 GPU為2nm芯片加速計(jì)算光刻！

      現(xiàn)代工藝技術(shù)將晶圓廠設(shè)備要求推向極限，需要實(shí)現(xiàn)突破其物理極限的高分辨率，這正是計(jì)算光刻技術(shù)發(fā)揮作用的地方。計(jì)算光刻就是為芯片生產(chǎn)制作光掩模的技術(shù)，它結(jié)合...

      2023-04-26 標(biāo)簽：芯片NVIDIA光刻技術(shù) 1610 0

      淺談光刻技術(shù)

      在整個(gè)芯片制造過程中，幾乎每一道工序的實(shí)施都離不開光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。

      2023-04-26 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶圓芯片制造 1829 0

      中國科學(xué)院大學(xué)在近場光學(xué)鄰近效應(yīng)研究中獲得進(jìn)展

      為滿足集成電路中對納米結(jié)構(gòu)器件的尺寸及質(zhì)量的高性能要求，有效地解決表面等離子體光刻技術(shù)中存在的near-field OPE問題，中國科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)...

      2023-04-18 標(biāo)簽：集成電路光刻技術(shù)結(jié)構(gòu)器件 1072 0

      AI輔助制芯技術(shù)，將計(jì)算光刻提速40倍

      黃仁勛稱，英偉達(dá)經(jīng)過與臺(tái)積電、ASML、Synopsys（新思科技）三大半導(dǎo)體巨頭的多年合作，終于推出了這一技術(shù)，大大降低芯片代工廠在這一工序上所消耗的...

      2023-03-24 標(biāo)簽：AI光刻技術(shù)英偉達(dá) 2239 0

      GTC 2023：NVIDIA cuLitho將加速計(jì)算引入計(jì)算光刻技術(shù)領(lǐng)域的突破性成果

      GTC 2023：NVIDIA cuLitho將加速計(jì)算引入計(jì)算光刻技術(shù)領(lǐng)域的突破性成果

      GTC 大會(huì)：NVIDIA cuLitho將加速計(jì)算引入計(jì)算光刻技術(shù)領(lǐng)域的突破性成果 在摩爾定律接近物理極限之際，半導(dǎo)體行業(yè)要怎么做？借助AI？ 現(xiàn)在半...

      2023-03-22 標(biāo)簽：摩爾定律NVIDIA光刻技術(shù) 1.1萬 0

      納米壓印光刻，能讓國產(chǎn)繞過ASML嗎？

      日本最寄望于納米壓印光刻技術(shù)，并試圖靠它再次逆襲，日經(jīng)新聞網(wǎng)也稱，對比EUV光刻工藝，使用納米壓印光刻工藝制造芯片，能夠降低將近四成制造成本和九成電量，...

      2023-03-22 標(biāo)簽：芯片光刻技術(shù)ASML 3268 0

      下一代EUV***，關(guān)鍵技術(shù)拆解！

      但imec先進(jìn)成像、工藝和材料高級(jí)副總裁斯蒂芬·希爾（Steven Scheer）在接受采訪時(shí)非常理性地指出，要經(jīng)濟(jì)高效地引入High NA EUV光刻...

      2023-03-17 標(biāo)簽：光刻機(jī)光刻技術(shù)EUV 1738 0

      超精細(xì)石墨烯圖案的雙光束超快激光直寫制作技術(shù)

      最近，基于超分辨率熒光顯微技術(shù)這一諾貝爾獎(jiǎng)級(jí)成果，科學(xué)家報(bào)道了一種應(yīng)用于光刻膠的雙光束激光光刻技術(shù)。這里使用一道甜甜圈形狀的環(huán)形光束，來抑制寫入光束所觸...

      2023-02-15 標(biāo)簽：激光石墨烯光刻技術(shù) 1844 0

      一種通過軟光刻技術(shù)制造剛性微流控器件的詳細(xì)方案

      軟光刻技術(shù)可通過在可變形彈性體（例如聚二甲基硅氧烷（PDMS））上使用光刻圖形化模具，實(shí)現(xiàn)具有精確特征的微流控器件快速成型（rapid prototyp...

      2023-02-14 標(biāo)簽：壓力傳感器光刻技術(shù)PDMS薄膜 3540 0

      EUV光刻的兩大挑戰(zhàn)者，誰扛大旗？

      過去二十年見證了193 nm以下波長光刻技術(shù)的發(fā)展。在使用 F2 準(zhǔn)分子激光器開發(fā)基于 157 納米的光刻技術(shù)方面付出了一些努力，但主要關(guān)注點(diǎn)是使用 1...

      2023-02-02 標(biāo)簽：摩爾定律光刻技術(shù)EUV 3468 0

      數(shù)十年的光刻技術(shù)，High-NA EUV或成為終點(diǎn)？

      盡管EUV的生產(chǎn)力還沒有達(dá)到客戶的預(yù)期，但幾年來，EUV 已經(jīng)成為世界上最先進(jìn)芯片的生產(chǎn)過程中不可或缺的一部分。

      2022-09-28 標(biāo)簽：光刻技術(shù)EUV 962 0

      光刻技術(shù)的原理及其難點(diǎn)分別是什么

      光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光。

      2022-09-13 標(biāo)簽：集成電路光刻技術(shù)EUV 7091 0

      一種3D打印新工藝——3D打印高性能的碳微晶格電池電極

      當(dāng)人們意識(shí)到汽油動(dòng)力機(jī)器和車輛對環(huán)境的負(fù)面影響時(shí)，似乎只要改用電池就可以解決這些問題了。從那時(shí)起，似乎沒有人質(zhì)疑這種新的、所謂完全環(huán)保的選擇。然而，沒過...

      2022-08-23 標(biāo)簽：電極光刻技術(shù)3D打印機(jī) 1128 0

      ASML下一代EUV光刻機(jī)High-NA來了！

      對于3nm后的節(jié)點(diǎn)，ASML及其合作伙伴正在研究一種全新的EUV工具——Twinscan EXE:5000系列，具有0.55 NA(High-NA)透鏡...

      2022-08-17 標(biāo)簽：分辨率光刻技術(shù)ASML 2604 0

      光刻的基礎(chǔ)內(nèi)容

      負(fù)性光刻膠。樹脂是聚異戊二烯，一種天然的橡膠；溶劑是二甲苯；感光劑是一種經(jīng)過曝光后釋放出氮?dú)獾墓饷魟?，產(chǎn)生的自由基在橡膠分子間形成交聯(lián)。從而變得不溶于顯...

      2022-06-22 標(biāo)簽：光刻技術(shù)光刻膠 1876 0

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        　　手機(jī)拆解過程，展示手機(jī)內(nèi)部零件及結(jié)構(gòu)。一輛報(bào)廢汽車的廢電瓶、廢油液進(jìn)行無害化處理，再拆解出可以利用的零部件后，整個(gè)車架被送進(jìn)一個(gè)巨大的破碎“神器”內(nèi)，瞬間進(jìn)行拆解破碎。
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        3D打?。?DP）即快速成型技術(shù)的一種，它是一種以數(shù)字模型文件為基礎(chǔ)，運(yùn)用粉末狀金屬或塑料等可粘合材料，通過逐層打印的方式來構(gòu)造物體的技術(shù)。
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        貿(mào)澤電子是一家全球知名的半導(dǎo)體和電子元器件授權(quán)分銷商，分銷1100多家品牌制造商的產(chǎn)品。貿(mào)澤電子專注于快速引入新產(chǎn)品和新技術(shù)，為設(shè)計(jì)工程師和采購人員提供引領(lǐng)潮流的選擇。
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        EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了，EUV已經(jīng)遇到了一些延遲，將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段，本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī)，EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用，EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場問題，國產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。
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        醫(yī)用機(jī)器人，是指用于醫(yī)院、診所的醫(yī)療或輔助醫(yī)療的機(jī)器人。是一種智能型服務(wù)機(jī)器人，它能獨(dú)自編制操作計(jì)劃，依據(jù)實(shí)際情況確定動(dòng)作程序，然后把動(dòng)作變?yōu)椴僮鳈C(jī)構(gòu)的運(yùn)動(dòng)。
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        瑞芯微
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        瑞芯微電子有限公司（Fuzhou Rockchips Electronics CO., Ltd）主要致力于數(shù)字音視頻和廣播領(lǐng)域，為消費(fèi)品生產(chǎn)廠家提供從芯片到系統(tǒng)SoC軟件的整體解決方案。主要產(chǎn)品線包括：數(shù)字音視頻處理芯片、語言復(fù)讀機(jī)主控芯片以及數(shù)字電調(diào)諧收音機(jī)控制芯片。
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