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標(biāo)簽 > 光刻機(jī)
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中芯國(guó)際進(jìn)口大型光刻機(jī)年底實(shí)現(xiàn)N+1芯片工藝量產(chǎn)
相信大家都知道,在前一段時(shí)間,中芯國(guó)際成功量產(chǎn)14nm芯片的消息,也是瞬間傳遍祖國(guó)大江南北,而作為我國(guó)大陸目前最先進(jìn)、最大的晶圓代工廠,近日,中芯國(guó)際也...
新EUV光刻機(jī)售價(jià)超26億,Intel成為首位買家,將于2025年首次交付
在芯片研發(fā)的過(guò)程中,光刻機(jī)是必不可少的部分,而隨著芯片制程工藝的不斷發(fā)展,普通的光刻機(jī)已經(jīng)不能滿足先進(jìn)制程了,必須要用最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)才能完成7nm...
南大光電將建成光刻膠生產(chǎn)線,明年或光刻機(jī)進(jìn)場(chǎng)
今年7月17日,南大光電在互動(dòng)平臺(tái)透露,公司設(shè)立光刻膠事業(yè)部,并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”,全力推進(jìn)“ArF光刻膠開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”落...
上海微電子裝備公司的高亮度LED步進(jìn)投影光刻機(jī)入選“上海設(shè)計(jì)100+”
本次上海信息消費(fèi)節(jié)由上海市經(jīng)濟(jì)和信息化委員會(huì)、上海市商務(wù)委員會(huì)、上海市發(fā)展和改革委員會(huì)、上海市文化和旅游局聯(lián)合主辦,以“數(shù)字賦能消費(fèi)新時(shí)代”為主題,以“...
繼正式推出鴻蒙系統(tǒng)之后,近期,華為有大動(dòng)作,旗下公司哈勃入股了由中科院微電子所控股的北京科益虹源公司,認(rèn)繳金額達(dá)960萬(wàn)元,占股4.76%。
在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,光刻機(jī)是最核心的設(shè)備,同時(shí),也是研發(fā)難度最高的設(shè)備。
我國(guó)在石墨烯晶圓芯片的研發(fā)中走在世界最前列
目前世界上無(wú)論哪個(gè)國(guó)家,芯片的制作都離不開光刻機(jī),特別是高端工藝的芯片,普通的DUV光刻機(jī)還不足以支撐高端芯片的制造,必須使用到ASML公司的EUV光刻...
阿呆和5歲兒子的對(duì)話: 阿呆:中國(guó)是不是什么都能造? 小呆呆:芯片造不出來(lái),因?yàn)橹袊?guó)以前能買到造芯片的機(jī)器,以后外國(guó)人不賣給中國(guó)了。 中國(guó)最難買到,也是...
光刻機(jī)現(xiàn)狀:星星之火已點(diǎn)燃,國(guó)內(nèi)能否早日燎原?
近期,光刻機(jī)的相關(guān)消息鋪天蓋地,在國(guó)際貿(mào)易摩擦反復(fù)無(wú)常的環(huán)境背景下,業(yè)界對(duì)于仍處處受制于他國(guó)的光刻機(jī)設(shè)備格外關(guān)注。
2020-06-17 標(biāo)簽:光刻機(jī)半導(dǎo)體設(shè)備 7678 0
盤點(diǎn)國(guó)產(chǎn)光刻產(chǎn)業(yè)鏈的“星星之火”,十三年磨一劍背后的中國(guó)芯片業(yè)隱痛
2020-12-27 標(biāo)簽:芯片半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn) 7619 0
上海電氣澄清:光刻機(jī)并非公司經(jīng)營(yíng)業(yè)務(wù)
據(jù)媒體稱,上海電氣將承擔(dān)光刻機(jī)攻關(guān)任務(wù),該股早盤應(yīng)聲漲停。但在28萬(wàn)股東采烈之際,上海電氣盤后卻發(fā)布了澄清公告。值得注意的是,這并不是光刻機(jī)消息首次“帶...
光刻巨人去世 阿斯麥(ASML)光刻機(jī)巨頭聯(lián)合創(chuàng)始人去世
圈內(nèi)突發(fā)噩耗,光刻巨人去世; 阿斯麥(ASML)光刻機(jī)巨頭聯(lián)合創(chuàng)始人維姆?特羅斯特去世。 據(jù)外媒報(bào)道,在當(dāng)?shù)貢r(shí)間11日晚,荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML...
光刻機(jī)是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備,它能夠制造和維護(hù)需要高水平的光學(xué)和電子產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ),全球只有少數(shù)制造商掌握了這一基礎(chǔ)。 光刻機(jī)的作用是對(duì)芯片晶圓進(jìn)行掃...
臺(tái)積電將于2024年引進(jìn)ASML最新EUV光刻機(jī),主要用于相關(guān)研究
日前,在臺(tái)積電召開的會(huì)議上,有一名高管稱臺(tái)積電將于2024年引進(jìn)ASML正在研發(fā)的最新的High-NA EUV光刻機(jī)。 會(huì)議中,該高管稱:為了滿足客戶所...
關(guān)于國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的性能分析介紹
在他們的的報(bào)道原文里,標(biāo)題是《我國(guó)成功研制出世界首臺(tái)分辨力最高紫外超分辨光刻裝備》,這真的是世界上“首臺(tái)嗎”?至少我們從行內(nèi)人士嘴里聽(tīng)到的答案,是否定的...
EUV 產(chǎn)量到位了,是不是也該考慮良率了? ? 在當(dāng)前的半導(dǎo)體制程不斷往7nm以下發(fā)展時(shí),EUV光刻機(jī)就成了IDM和代工廠必不可少的工具之一。隨著臺(tái)積電...
2021-07-22 標(biāo)簽:三星電子光刻機(jī)EUV光刻機(jī) 7269 0
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