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光刻機(jī)

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光刻機(jī)資訊

光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)、半導(dǎo)體生產(chǎn)涂膠機(jī)高精度測(cè)溫儀簡(jiǎn)介

智測(cè)電子1611A系列多通道測(cè)溫采集儀,滿(mǎn)足《JJF1527-2015聚合酶鏈反應(yīng)分析儀校準(zhǔn)規(guī)范》。按連接傳感器的不同,可分為鉑電阻、熱敏電阻和熱電偶三...

2022-09-19 標(biāo)簽:半導(dǎo)體測(cè)溫儀光刻機(jī) 2547 0

傳臺(tái)積電計(jì)劃關(guān)閉EUV光刻機(jī)來(lái)減少產(chǎn)能

一臺(tái)EUV光刻機(jī)工作一天大概需要耗電3萬(wàn)度。如果關(guān)閉1臺(tái)EUV光刻機(jī),一天就能省下3萬(wàn)度電。臺(tái)灣目前工業(yè)用電價(jià)格約為2.45新臺(tái)幣(約合人民幣0.55元...

2022-09-08 標(biāo)簽:臺(tái)積電光刻機(jī)EUV 1629 0

佳能發(fā)售半導(dǎo)體光刻機(jī)解決方案Lithography Plus

來(lái)源:佳能集團(tuán) 通過(guò)技術(shù)與數(shù)據(jù)優(yōu)勢(shì),提升光刻機(jī)的生產(chǎn)效率 佳能將于2022年9月5日起發(fā)售解決方案平臺(tái)“Lithography Plus1”服務(wù)(以下簡(jiǎn)...

2022-09-06 標(biāo)簽:半導(dǎo)體光刻機(jī) 1849 0

芯片市場(chǎng)萎靡,臺(tái)積電計(jì)劃年底關(guān)停部分EUV

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)近日,產(chǎn)業(yè)鏈傳來(lái)消息稱(chēng),受先進(jìn)制程產(chǎn)能利用率下滑影響,臺(tái)積電正在考慮從今年年底開(kāi)始,關(guān)閉部分EUV光刻機(jī),以節(jié)省能耗。 就...

2022-09-04 標(biāo)簽:臺(tái)積電光刻機(jī)3nm 6330 0

光刻機(jī)到底是臺(tái)什么樣的機(jī)器?中國(guó)在這方面又該如何突破?

為何只有荷蘭能造頂級(jí)光刻機(jī)?就連米國(guó)都不行,中國(guó)芯片如何突破 1光刻機(jī)到底是臺(tái)什么樣的機(jī)器? 如果你在路上看見(jiàn)寫(xiě)著AMSL的集箱貨車(chē),就算你開(kāi)勞斯萊斯,...

2022-08-21 標(biāo)簽:光刻機(jī) 5702 0

高NA EUVL:光刻的下一個(gè)主要步驟

高NA EUVL:光刻的下一個(gè)主要步驟

2019 年是極紫外 (EUV) 光刻技術(shù)的重要里程碑。當(dāng)年,EUV圖案化技術(shù)首次用于7nm技術(shù)一代邏輯芯片的量產(chǎn)。插入以圖案化芯片后端 (BEOL) ...

2022-07-26 標(biāo)簽:光刻機(jī) 2507 0

芯片是怎么被“光刻”出來(lái)的

首先光刻膠成分復(fù)雜,一瓶光刻膠需要光引發(fā)劑、光增感劑、光致產(chǎn)酸劑、樹(shù)脂、稀釋劑、溶劑、助劑這些材料組成,而且配方都是保密的。

2022-07-25 標(biāo)簽:光刻機(jī)光刻膠 4827 0

外媒:美國(guó)施壓ASML斷供中國(guó)DUV光刻機(jī)

溫彼得此番言論是出于營(yíng)收考慮?還是真的擔(dān)心全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)供應(yīng)鏈中斷?我們根據(jù)幾項(xiàng)數(shù)據(jù)事實(shí)來(lái)深入分析一下。

2022-07-25 標(biāo)簽:半導(dǎo)體光刻機(jī)ASML 2997 0

ASML警告美國(guó):對(duì)中國(guó)斷供DUV光刻機(jī)半導(dǎo)體供應(yīng)鏈將中斷,真是如此嗎?

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/吳子鵬)近日,針對(duì)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)廣泛關(guān)注的美國(guó)施壓ASML斷供中國(guó)DUV光刻機(jī)一事,ASML首席執(zhí)行官(CEO)溫彼得正式回應(yīng)稱(chēng),...

2022-07-25 標(biāo)簽:光刻機(jī)ASMLDUV 4577 0

EUV光刻技術(shù)相關(guān)的材料

與此同時(shí),在ASML看來(lái),下一代高NA EUV光刻機(jī)為光刻膠再度帶來(lái)了挑戰(zhàn),更少的隨機(jī)效應(yīng)、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負(fù)膠肯定是沒(méi)法用了...

2022-07-22 標(biāo)簽:芯片半導(dǎo)體光刻機(jī) 2950 0

Techinsights對(duì)存儲(chǔ)器未來(lái)的發(fā)展分析

而主要的 NAND 制造商正在競(jìng)相增加垂直 3D NAND 門(mén)的數(shù)量,并推出了 1yyL 3D NAND 設(shè)備。例如,三星 V7 V-NAND、鎧俠和西...

2022-07-13 標(biāo)簽:存儲(chǔ)器晶體管光刻機(jī) 4208 0

可潤(rùn)濕表面圖案化的簡(jiǎn)便無(wú)掩模限制蝕刻策略

據(jù)麥姆斯咨詢(xún)報(bào)道,鑒于此,四川大學(xué)王玉忠院士和宋飛教授開(kāi)發(fā)了一種用于本征可潤(rùn)濕表面圖案化的簡(jiǎn)便無(wú)掩模限制蝕刻策略。使用常見(jiàn)的印刷技術(shù)和隨后的位置限制化學(xué)...

2022-07-11 標(biāo)簽:傳感器印刷技術(shù)光刻機(jī) 1665 0

光刻機(jī)為什么這么難呢

芯片想必大家都很熟悉,光刻機(jī)是是制造芯片的核心裝備,并且光刻機(jī)只有一小部分國(guó)家擁有,那么光刻機(jī)為什么這么難呢? 據(jù)說(shuō)越小的東西,建造起來(lái)就越困難。 這句...

2022-07-10 標(biāo)簽:光刻機(jī) 9603 0

euv光刻機(jī)用途是什么

光刻機(jī)是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備,其技術(shù)含量和價(jià)值含量都很高。那么euv光刻機(jī)用途是什么呢?下面我們就一起來(lái)看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)...

2022-07-10 標(biāo)簽:光刻機(jī)EUV 4318 0

euv光刻機(jī)原理是什么

euv光刻機(jī)原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī),是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備,對(duì)芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生...

2022-07-10 標(biāo)簽:光刻機(jī)EUV 1.7萬(wàn) 0

duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是什么

目前,光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù),EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。E...

2022-07-10 標(biāo)簽:光刻機(jī)EUVDUV 8.5萬(wàn) 0

euv光刻機(jī)是干什么的

光刻機(jī)是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備,它能夠制造和維護(hù)需要高水平的光學(xué)和電子產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ),全球只有少數(shù)制造商掌握了這一基礎(chǔ)。 光刻機(jī)的作用是對(duì)芯片晶圓進(jìn)行掃...

2022-07-10 標(biāo)簽:光刻機(jī)EUV 7306 0

euv光刻機(jī)是哪個(gè)國(guó)家的

說(shuō)到芯片,估計(jì)每個(gè)人都知道它是什么,但說(shuō)到光刻,許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒(méi)有光刻機(jī)的話,就無(wú)法生產(chǎn)芯片,因此每個(gè)人都知道...

2022-07-10 標(biāo)簽:光刻機(jī)EUV 7966 0

euv光刻機(jī)出現(xiàn)時(shí)間 ASML研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)

EUV光刻機(jī)是在2018年開(kāi)始出現(xiàn),并在2019年開(kāi)始大量交付,而臺(tái)積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。

2022-07-07 標(biāo)簽:光刻機(jī)ASMLEUV光刻機(jī) 5086 0

euv光刻機(jī)難在哪里

 在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,光刻機(jī)是最核心的設(shè)備,同時(shí),也是研發(fā)難度最高的設(shè)備。

2022-07-07 標(biāo)簽:光刻機(jī)EUV 7717 0

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