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標(biāo)簽 > 光刻機(jī)
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集成電路制造裝備用精密陶瓷結(jié)構(gòu)件的特點(diǎn)及產(chǎn)業(yè)格局
集成電路產(chǎn)業(yè)(即IC產(chǎn)業(yè))是關(guān)乎國家經(jīng)濟(jì)、政治和國防安全的戰(zhàn)略產(chǎn)業(yè),在IC產(chǎn)業(yè)中,集成電路制造裝備具有極其重要的戰(zhàn)略地位。
消息稱該特別版 DUV 光刻機(jī)基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系統(tǒng)改造,而 1980Di 是 10 年前推出的舊型號,不在本次官方禁...
ASML:沒向中國推出特別版光刻機(jī) 就是荷蘭出臺光刻機(jī)限制出口禁令后ASML給出了回應(yīng),ASML:沒向中國推出特別版光刻機(jī)。ASML表示ASML一致都遵...
2023-07-07 標(biāo)簽:光刻機(jī)ASMLEUV光刻機(jī) 1498 0
光刻機(jī)是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要設(shè)備之一。網(wǎng)傳荷蘭ASML(阿斯麥)試圖規(guī)避荷蘭新銷售許可禁令,向中國推出特別版DUV光刻機(jī),但ASML據(jù)報(bào)否認(rèn)這一行動,并指一...
今日看點(diǎn)丨ASML:沒有向中國市場推出特別版***;蘋果 iPhone 15 系列將于 8 月量產(chǎn)
1.ASML :沒有向中國市場推出特別版光刻機(jī) ? 近日消息人士稱,荷蘭推出并即將實(shí)施出口限制,ASML可能會發(fā)布其TWINSCAN NXT:1980系...
行業(yè)調(diào)研數(shù)據(jù)顯示,芯片行業(yè)的產(chǎn)值和營收一直在不斷提高,同時(shí)其地位受到大眾的關(guān)注。光刻機(jī)在芯片領(lǐng)域當(dāng)然獨(dú)占鰲頭,但一顆芯片的成功不只取決于光刻部分,測試對...
外交部回應(yīng)公布對鎵鍺出口管制 突發(fā),中國商務(wù)部正式宣布將在8月1日起,對鎵、鍺等半導(dǎo)體關(guān)鍵原材料實(shí)施出口管制。對此我國外交部回應(yīng)公布對鎵鍺出口管制是中方...
根據(jù)新出口管制條例規(guī)定,ASML需要向荷蘭政府申請出口許可證,方可發(fā)運(yùn)其最先進(jìn)的浸潤式DUV系統(tǒng)。
ASML強(qiáng)調(diào),這些新的出口管制條例針對對象為先進(jìn)的芯片制造技術(shù),包括最先進(jìn)的沉積設(shè)備和浸潤式光刻系統(tǒng),并非所有浸潤式DUV光刻系統(tǒng)。ASML表示其EUV...
荷蘭實(shí)施半導(dǎo)體出口管制 ASML***DUV系統(tǒng)需要許可證
荷蘭實(shí)施半導(dǎo)體出口管制 ASML光刻機(jī)DUV系統(tǒng)需要許可證 芯片戰(zhàn)愈演愈烈。荷蘭正式實(shí)施半導(dǎo)體出口管制條款,這將對光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)產(chǎn)生更多影...
日本和荷蘭簽署半導(dǎo)體合作備忘錄 共同推進(jìn)2nm***合作
據(jù)日本經(jīng)濟(jì)新聞報(bào)道,日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省和荷蘭經(jīng)濟(jì)和氣候政策省于6月21日簽署了促進(jìn)半導(dǎo)體領(lǐng)域等合作的合作備忘錄(MOC: Memorandum of Coo...
半導(dǎo)體光刻是生產(chǎn)計(jì)算機(jī)芯片的制造工藝,已有 70 年的歷史。它的起源故事很簡單,但今天的過程卻很復(fù)雜:這項(xiàng)技術(shù)始于 20 世紀(jì) 50 年代中期,當(dāng)時(shí)一位...
荷蘭宣布將在6月底或7月初實(shí)施出口管制,限制多款DUV高端型號設(shè)備的出貨,其中包括ASML光刻機(jī)。
日本與荷蘭簽署半導(dǎo)體合作備忘錄:采購 ASML ***,加強(qiáng)技術(shù)合作
報(bào)道稱,ASML 量產(chǎn)尖端半導(dǎo)體工藝所需的 EUV 光刻機(jī)。Rapidus 計(jì)劃利用經(jīng)產(chǎn)省提供的補(bǔ)貼,采購 EUV 光刻設(shè)備。IT之家注意到,EUV 光...
JSR 是全球僅有的四家 EUV 光刻膠供應(yīng)商之一,其產(chǎn)品是制造先進(jìn)芯片必不可少的原料。
2023-06-27 標(biāo)簽:光刻機(jī)EUVEUV光刻機(jī) 1279 0
***技術(shù)有多難搞?我國***發(fā)展現(xiàn)狀
搞光刻機(jī)必須要有搞核彈的精神,但只有這種精神是不夠的!光刻機(jī)畢竟不是核彈,光刻機(jī)從試驗(yàn)機(jī)改良成量產(chǎn)機(jī),需要與產(chǎn)線相結(jié)合試驗(yàn)生產(chǎn),這些步驟是不可能秘密進(jìn)行的。
euv極紫外光刻機(jī)是目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造設(shè)備,用于7納米以下工程的半導(dǎo)體制造。荷蘭對這種尖端設(shè)備實(shí)施出口控制,限制對中國的出口。據(jù)《日本經(jīng)濟(jì)新聞》報(bào)道...
2023-06-26 標(biāo)簽:光刻機(jī)半導(dǎo)體制造EUV 830 0
臺積電的7納米工藝產(chǎn)能利用率不如5納米工藝。5納米工藝的產(chǎn)能利用率從原來的50%多增加到70%至80%左右,而7納米工藝的產(chǎn)能利用率也從30%至40%的...
因此光刻機(jī)對芯片制造非常重要,它是影響芯片制造質(zhì)量和效率的重要因素??v觀全球光刻機(jī)市場,荷蘭ASML公司一家獨(dú)大,占據(jù)全球80%的光刻機(jī)市場份額,高端E...
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