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標(biāo)簽 > 半導(dǎo)體制造
半導(dǎo)體制造,是用于制造半導(dǎo)體器件的過(guò)程,通常是日常電氣和電子設(shè)備中使用的集成電路(IC)芯片中使用的金屬-氧化物-半導(dǎo)體(MOS)器件。
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伯努利吸盤(pán)的應(yīng)用場(chǎng)景、原理及優(yōu)勢(shì)
伯努利吸盤(pán)是一種基于伯努利原理而工作的非接觸式吸盤(pán)。伯努利原理是流體動(dòng)力學(xué)中的一個(gè)基本概念,由18世紀(jì)的瑞士科學(xué)家丹尼爾·伯努利提出。伯努利原理指出,在...
2023-12-27 標(biāo)簽:晶圓砷化鎵半導(dǎo)體制造 3594 0
薄膜沉積技術(shù)主要分為CVD和PVD兩個(gè)方向。 PVD主要用來(lái)沉積金屬及金屬化合物薄膜,分為蒸鍍和濺射兩大類,目前的主流工藝為濺射。CVD主要用于介質(zhì)/半...
2023-12-05 標(biāo)簽:半導(dǎo)體工藝半導(dǎo)體制造 6294 0
在半導(dǎo)體芯片制造過(guò)程中,需要采用切割工藝對(duì)晶圓進(jìn)行劃片,然而傳統(tǒng)的金剛石切割、砂輪切割會(huì)對(duì)半導(dǎo)體材料造成較為嚴(yán)重的損傷,導(dǎo)致半導(dǎo)體晶圓碎裂、芯片性能下降...
光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來(lái)。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見(jiàn)光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖...
2023-12-04 標(biāo)簽:半導(dǎo)體光刻機(jī)半導(dǎo)體制造 4810 0
?cmp工藝是什么?化學(xué)機(jī)械研磨工藝操作的基本介紹
化學(xué)機(jī)械研磨工藝操作的基本介紹以及其比單純物理研磨的優(yōu)勢(shì)介紹。
在芯片制造中,單純的物理研磨是不行的。因?yàn)閱渭兊奈锢硌心?huì)引入顯著的機(jī)械損傷,如劃痕和位錯(cuò),且無(wú)法達(dá)到所需的平整度,因此不適用于芯片制造。
2023-11-29 標(biāo)簽:集成電路控制系統(tǒng)芯片制造 3109 0
汽車半導(dǎo)體分類及產(chǎn)品結(jié)構(gòu)
去年因汽車半導(dǎo)體供應(yīng)短缺而陷入嚴(yán)重“新車交付危機(jī)”的汽車行業(yè),現(xiàn)在正面臨半導(dǎo)體庫(kù)存過(guò)剩的擔(dān)憂,汽車半導(dǎo)體需求的減少被認(rèn)為是根本原因。
2023-11-16 標(biāo)簽:恩智浦功率半導(dǎo)體半導(dǎo)體制造 991 0
芯片流片后經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)哪些問(wèn)題?如何解決這些問(wèn)題呢?
芯片流片是半導(dǎo)體制造中一個(gè)非常重要的步驟,是將設(shè)計(jì)好的芯片圖案刻印到硅片上,從而制造出成品芯片。
2023-10-07 標(biāo)簽:半導(dǎo)體制造芯片制程 2086 0
在半導(dǎo)體制造中,刻蝕工序是必不可少的環(huán)節(jié)。而刻蝕又可以分為干法刻蝕與濕法刻蝕,這兩種技術(shù)各有優(yōu)勢(shì),也各有一定的局限性,理解它們之間的差異是至關(guān)重要的。
2023-09-26 標(biāo)簽:mems晶圓半導(dǎo)體制造 8718 1
定向去除微污染物,可助力半導(dǎo)體制造高效除污,確保材料純度
幾乎所有進(jìn)入晶圓廠的物質(zhì),包括液體、氣體和環(huán)境空氣,都有可能攜帶污染物,會(huì)對(duì)晶圓和器件的性能造成不利影響。每個(gè)制程區(qū)域?qū)γ糠N污染物的敏感度各不相同。在不...
2023-09-25 標(biāo)簽:晶圓廠模型半導(dǎo)體制造 720 0
極紫外 (EUVL) 光刻設(shè)備技術(shù)應(yīng)用分析
歐洲極紫外光刻(EUVL)技術(shù)利用波長(zhǎng)為13.5納米的光子來(lái)制造集成電路。產(chǎn)生這種光的主要來(lái)源是使用強(qiáng)大激光器產(chǎn)生的熱錫等離子體。激光參數(shù)被調(diào)整以產(chǎn)生大...
PH? 是常用的n型摻雜氣體。什么是n型摻雜?硅是四價(jià)元素,每個(gè)硅原子與四個(gè)鄰近的硅原子共享電子形成共價(jià)鍵。當(dāng)將五價(jià)的磷引入到硅晶體中時(shí),其中一個(gè)價(jià)電子...
2023-09-18 標(biāo)簽:晶體芯片制造半導(dǎo)體制造 3540 0
半導(dǎo)體封裝是半導(dǎo)體制造工藝的后道工序,是指將通過(guò)測(cè)試的晶圓加工得到獨(dú)立芯片的過(guò)程,即將制作好的半導(dǎo)體器件放入具有支持、保護(hù)的塑料、陶瓷或金屬外殼中,并與...
2023-09-29 標(biāo)簽:SiP芯片設(shè)計(jì)CSP 2793 0
EUV光刻膠開(kāi)發(fā)面臨哪些挑戰(zhàn)?
EUV光刻膠材料是光敏物質(zhì),當(dāng)受到EUV光子照射時(shí)會(huì)發(fā)生化學(xué)變化。這些材料在解決半導(dǎo)體制造中的各種挑戰(zhàn)方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用,包括提高靈敏度、控制分辨率、減...
2023-09-11 標(biāo)簽:顯示器car半導(dǎo)體制造 1024 0
半導(dǎo)體制造關(guān)鍵流程中的常見(jiàn)技術(shù)難題有哪些
在光刻、晶圓探測(cè)、測(cè)試、安裝以及切割過(guò)程中,視覺(jué)對(duì)位的準(zhǔn)確性至關(guān)重要。不精準(zhǔn)的對(duì)位可能導(dǎo)致頻繁的人工干預(yù),嚴(yán)重時(shí)損壞成千上萬(wàn)塊晶圓。性能低下的視覺(jué)系統(tǒng)可...
請(qǐng)問(wèn)一下在芯片制造中如何測(cè)薄膜的厚度呢?
在半導(dǎo)體制造業(yè)中,薄膜的厚度對(duì)器件的性能和質(zhì)量有重要影響。
2023-08-17 標(biāo)簽:電阻器探測(cè)器芯片設(shè)計(jì) 1029 0
半導(dǎo)體制造中的清洗工藝技術(shù)改進(jìn)方法
隨著晶體管尺寸的不斷微縮,晶圓制造工藝日益復(fù)雜,對(duì)半導(dǎo)體濕法清洗技術(shù)的要求也越來(lái)越高。
2023-08-01 標(biāo)簽:芯片設(shè)計(jì)晶體管半導(dǎo)體制造 5493 0
半導(dǎo)體是醫(yī)療設(shè)備內(nèi)部工作的一個(gè)組成部分,有助于非導(dǎo)體和導(dǎo)體之間的導(dǎo)電性以控制電流。反過(guò)來(lái),制造完美半導(dǎo)體的組裝過(guò)程非常詳細(xì),尤其是現(xiàn)在設(shè)備變得越來(lái)越小。
2023-07-15 標(biāo)簽:激光器醫(yī)療設(shè)備半導(dǎo)體制造 1991 0
芯片廠為什么要使用超純水? 普通的水中含有氯,硫等雜質(zhì),會(huì)腐蝕芯片中的金屬。如果水中有Na,K等金屬雜質(zhì),會(huì)造成MIC(可動(dòng)離子污染)等問(wèn)題。因此芯片制...
2023-06-29 標(biāo)簽:芯片制造半導(dǎo)體器件半導(dǎo)體制造 2398 0
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