完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>
標(biāo)簽 > asml
文章:701個(gè) 瀏覽:41886次 帖子:3個(gè)
一文看懂a(chǎn)sml光刻機(jī)工作原理及基本構(gòu)造
在半導(dǎo)體芯片制造設(shè)備中,投資最大、也是最為關(guān)鍵的是光刻機(jī),光刻機(jī)同時(shí)也是精度與難度最高、技術(shù)最為密集、進(jìn)步最快的一種系統(tǒng)性工程設(shè)備。光學(xué)光刻技術(shù)與其它光...
asml光刻機(jī)股東是誰(shuí)_asml光刻機(jī)股東介紹
本文首先介紹了asml公司,其次介紹了關(guān)于asml公司的股東以及各個(gè)股東的簡(jiǎn)介,最后帶領(lǐng)大家了解一下荷蘭光刻機(jī)為什么受到青睞的厲害之處。
據(jù)悉,下一代EUV光刻機(jī)必須要升級(jí)下一代的高NA(數(shù)值孔徑)標(biāo)準(zhǔn),從現(xiàn)在的0.33 NA提升到0.55 NA,更高的NA意味著更分辨率更高,是3nm之后...
2022-11-30 標(biāo)簽:RAMASMLEUV光刻機(jī) 3.5萬(wàn) 0
節(jié)點(diǎn)的尺寸數(shù)值基本上和晶體管的長(zhǎng)寬成正比關(guān)系,每一個(gè)節(jié)點(diǎn)基本上是前一個(gè)節(jié)點(diǎn)的0.7倍。這樣以來(lái),由于0.7X0.7=0.49,所以每一代工藝節(jié)點(diǎn)上晶體管...
ASML光刻機(jī)的工作原理及關(guān)鍵技術(shù)解析
光刻機(jī)(Mask Aligner) 又名:掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類(lèi)似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)...
ASML 公司的成功案例表明了多物理場(chǎng)仿真對(duì)于計(jì)算機(jī)芯片行業(yè)的重要性,他們的寶貴經(jīng)驗(yàn)可能適用于所有制造商。
2018-11-19 標(biāo)簽:芯片計(jì)算機(jī)ASML 7863 0
光刻機(jī)市場(chǎng)簡(jiǎn)析 國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)今年能否進(jìn)入實(shí)際生產(chǎn)環(huán)節(jié)
中科院去年宣布進(jìn)軍光刻機(jī),相信在量子芯片、光子芯片、第三代半導(dǎo)體等領(lǐng)域中國(guó)可以實(shí)現(xiàn)彎道超車(chē)的。
EUV 光刻是以波長(zhǎng)為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術(shù),簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),就是以極紫外光作“刀”,對(duì)芯片上的晶圓進(jìn)行雕刻,讓芯片上的電路變成人...
ASML新一代EUV光刻機(jī)性能提升70%_2025年量產(chǎn)
2019-07-13 標(biāo)簽:ASMLEUV光刻機(jī) 5581 0
EUV曝光技術(shù)的未來(lái)藍(lán)圖逐漸“步入”我們的視野
技術(shù)節(jié)點(diǎn)的發(fā)展推動(dòng)著半導(dǎo)體曝光技術(shù)解像度(Half Pitch)的發(fā)展,ArF液浸曝光技術(shù)和EUV曝光技術(shù)等的解像度(R)和曝光波長(zhǎng)(λ)成正比,和光學(xué)...
EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光,涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會(huì)將圖案打印到晶圓上,用于微芯片設(shè)計(jì)過(guò)程中的后續(xù)步驟。
2023-10-30 標(biāo)簽:芯片設(shè)計(jì)光刻EUV 3361 0
ASML光刻小講堂 電子束量測(cè)中的透視眼 電壓襯度檢測(cè)
那這個(gè)電壓差異如何變成可以甄別的表面圖像明顯的明暗變化呢?大家應(yīng)該都知道電子被正電壓吸引,被負(fù)電壓排斥。如下圖所示,這兩塊地方因?yàn)榻饘倩ミB的差異產(chǎn)生了不...
ASML 稱(chēng)之為超數(shù)值孔徑的研發(fā)正在進(jìn)行中,因此更具體的光學(xué)器件,尚不清楚它是否會(huì)起作用。距生產(chǎn)還有 10 年的時(shí)間,但這正是研發(fā)已經(jīng)在進(jìn)行的地方,如果...
光刻各環(huán)節(jié)對(duì)應(yīng)的不同模型種類(lèi)
光學(xué)模型是基于霍普金斯(Hopkins)光學(xué)成像理論,預(yù)先計(jì)算出透射相交系數(shù)(TCCs),從而描述光刻機(jī)的光學(xué)成像。光學(xué)模型中,經(jīng)過(guò)優(yōu)化的光源,通過(guò)光刻...
2023-12-11 標(biāo)簽:晶圓光刻機(jī)器學(xué)習(xí) 2100 0
納米壓印技術(shù),即Nanoimprint Lithography(NIL),是一種新型的微納加工技術(shù)。該技術(shù)將設(shè)計(jì)并制作在模板上的微小圖形,通過(guò)壓印等技術(shù)...
用于碳化硅的Aehr測(cè)試系統(tǒng)的技術(shù)差距
Advantes和 Teradyne最知名的是自動(dòng)化測(cè)試設(shè)備。許多其他事情中,ATE工具取出探針卡,將它們與晶圓上的芯片完美對(duì)齊,并與晶圓上的電路進(jìn)行物...
2023-04-04 標(biāo)簽:SiCGaN半導(dǎo)體制造 1476 0
芯片制造的光刻支出如何隨著各種節(jié)點(diǎn)縮小演變歷程
單片設(shè)計(jì)每個(gè)晶圓有 30 個(gè)好的die,而小芯片 MCM 設(shè)計(jì)每個(gè)晶圓有 79 個(gè)好的die。假設(shè)所有有缺陷的die都必須扔進(jìn)垃圾桶。如果沒(méi)有芯片良率收...
編輯推薦廠商產(chǎn)品技術(shù)軟件/工具OS/語(yǔ)言教程專(zhuān)題
電機(jī)控制 | DSP | 氮化鎵 | 功率放大器 | ChatGPT | 自動(dòng)駕駛 | TI | 瑞薩電子 |
BLDC | PLC | 碳化硅 | 二極管 | OpenAI | 元宇宙 | 安森美 | ADI |
無(wú)刷電機(jī) | FOC | IGBT | 逆變器 | 文心一言 | 5G | 英飛凌 | 羅姆 |
直流電機(jī) | PID | MOSFET | 傳感器 | 人工智能 | 物聯(lián)網(wǎng) | NXP | 賽靈思 |
步進(jìn)電機(jī) | SPWM | 充電樁 | IPM | 機(jī)器視覺(jué) | 無(wú)人機(jī) | 三菱電機(jī) | ST |
伺服電機(jī) | SVPWM | 光伏發(fā)電 | UPS | AR | 智能電網(wǎng) | 國(guó)民技術(shù) | Microchip |
Arduino | BeagleBone | 樹(shù)莓派 | STM32 | MSP430 | EFM32 | ARM mbed | EDA |
示波器 | LPC | imx8 | PSoC | Altium Designer | Allegro | Mentor | Pads |
OrCAD | Cadence | AutoCAD | 華秋DFM | Keil | MATLAB | MPLAB | Quartus |
C++ | Java | Python | JavaScript | node.js | RISC-V | verilog | Tensorflow |
Android | iOS | linux | RTOS | FreeRTOS | LiteOS | RT-THread | uCOS |
DuerOS | Brillo | Windows11 | HarmonyOS |