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標(biāo)簽 > CMP
CMP指令是由美國(guó)斯坦福大學(xué)提出的,英文名稱是Chip multiprocessors,翻譯成中文就是單芯片多處理器,也指多核心其思想是將大規(guī)模并行處理器中的SMP(對(duì)稱多處理器)集成到同一芯片內(nèi),各個(gè)處理器并行執(zhí)行不同的進(jìn)程。與CMP比較, SMT處理器結(jié)構(gòu)的靈活性比較突出。
CMP指令是由美國(guó)斯坦福大學(xué)提出的,英文名稱是Chip multiprocessors,翻譯成中文就是單芯片多處理器,也指多核心其思想是將大規(guī)模并行處理器中的SMP(對(duì)稱多處理器)集成到同一芯片內(nèi),各個(gè)處理器并行執(zhí)行不同的進(jìn)程。與CMP比較, SMT處理器結(jié)構(gòu)的靈活性比較突出。
在微型計(jì)算機(jī)的匯編語(yǔ)言中,CMP(compare)是其中一條指令,叫做比較指令。cmp的功能相當(dāng)于減法指令,只是對(duì)操作數(shù)之間運(yùn)算比較,不保存結(jié)果。cmp指令執(zhí)行后,將對(duì)標(biāo)志寄存器產(chǎn)生影響。其他相關(guān)指令通過(guò)識(shí)別這些被影響的標(biāo)志寄存器位來(lái)得知比較結(jié)果。
當(dāng)比較指令的操作數(shù)不完整,(如只指定一個(gè)或二個(gè)操作數(shù)),指定的操作數(shù)不符合要求(如把X D T C 指定為目標(biāo)操作數(shù)),或者指定的操作數(shù)的元件超出了允許...
CMP 主要負(fù)責(zé)對(duì)晶圓表面實(shí)現(xiàn)平坦化。晶圓制造前道加工環(huán)節(jié)主要包括7個(gè)相互獨(dú)立的工藝流程:光刻、刻蝕、薄膜生長(zhǎng)、擴(kuò)散、離子注入、化學(xué)機(jī)械拋光、金屬化 C...
CMP拋光材料的介紹和應(yīng)用領(lǐng)域及市場(chǎng)分析
1)在單晶硅片制造環(huán)節(jié),單晶硅片首先通過(guò)化學(xué)腐蝕減薄,此時(shí)粗糙度在 10-20μm,在進(jìn)行粗拋光、細(xì)拋光、精拋光等步驟,可將粗糙度控制在幾十個(gè) nm 以...
半導(dǎo)體行業(yè)中的化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)技術(shù)詳解
20世紀(jì)60年代以前,半導(dǎo)體基片拋光還大都沿用機(jī)械拋光,得到的鏡面表面損傷是極其嚴(yán)重的。1965年Walsh和Herzog提出SiO2溶膠和凝膠拋光后,...
SIMATIC S7-1500 PLC小于比較指令與大于等于比較指令簡(jiǎn)述
TIA博途軟件提供了豐富的比較指令,可以滿足用戶的各種需要。TIA博途軟件中的比較指令可以對(duì)如整數(shù)、雙整數(shù)、實(shí)數(shù)等數(shù)據(jù)類型的數(shù)值進(jìn)行比較。
在芯片制程中,很多金屬都能用等離子的方法進(jìn)行刻蝕,例如金屬Al,W等。但是唯獨(dú)沒(méi)有聽說(shuō)過(guò)干法刻銅工藝,聽的最多的銅互連工藝要數(shù)雙大馬士革工藝,為什么?
TSV 是目前半導(dǎo)體制造業(yè)中最為先進(jìn)的技術(shù)之一,已經(jīng)應(yīng)用于很多產(chǎn)品生產(chǎn)。實(shí)現(xiàn)其制程的關(guān)鍵設(shè)備選擇與工藝選擇息息相關(guān), 在某種程度上直接決定了 TSV 的...
化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)是晶圓制造的關(guān)鍵步驟,其作用在于減少晶圓表面的不平整,而拋光液、拋光墊是CMP技術(shù)的關(guān)鍵耗材,價(jià)值量較高,分別占CMP耗材49%和...
SIMATIC S7-1500 PLC等于比較指令與不等于比較指令簡(jiǎn)述
TIA博途軟件提供了豐富的比較指令,可以滿足用戶的各種需要。TIA博途軟件中的比較指令可以對(duì)如整數(shù)、雙整數(shù)、實(shí)數(shù)等數(shù)據(jù)類型的數(shù)值進(jìn)行比較。
類別:C語(yǔ)言|源代碼 2016-12-14 標(biāo)簽:CMPGD32170C
半導(dǎo)體行業(yè)超具發(fā)展?jié)摿Φ?0種材料
半導(dǎo)體作為信息技術(shù)產(chǎn)業(yè)的核心,是支撐我國(guó)社會(huì)經(jīng)濟(jì)發(fā)展和保障國(guó)家安全的戰(zhàn)略性、基礎(chǔ)性和先導(dǎo)性產(chǎn)業(yè)。
化學(xué)機(jī)械拋光工藝(Chemical Mechanical Polishing,CMP)
CMP 所采用的設(shè)備及耗材包括拋光機(jī)、拋光液(又稱研磨液)、拋光墊、拋光后清洗設(shè)備、拋光終點(diǎn)(End Point)檢測(cè)及工藝控制設(shè)備、廢物處理和檢測(cè)設(shè)備等。
本文我們就來(lái)簡(jiǎn)單介紹一下關(guān)于芯片制造過(guò)程圖解。芯片的制造包含數(shù)百個(gè)步驟,整個(gè)過(guò)程中,空氣質(zhì)量和溫度都受到嚴(yán)格控制,下面我們就來(lái)看看芯片制造過(guò)程。
如何利用STM32G474芯片的高精度定時(shí)器實(shí)現(xiàn)兩對(duì)互補(bǔ)輸出
有人利用STM32G474芯片的高精度定時(shí)器實(shí)現(xiàn)兩對(duì)互補(bǔ)輸出,即用到TIMA和TIMB兩個(gè)定時(shí)單元分別輸出兩對(duì)互補(bǔ)信號(hào)。 可是他發(fā)現(xiàn)兩個(gè)定時(shí)器單元輸出的...
手機(jī)芯片是什么材料制成的 手機(jī)芯片排名前十名榜單
手機(jī)芯片通常是指應(yīng)用于手機(jī)通訊功能的芯片,包括基帶、處理器、協(xié)處理器、RF、觸摸屏控制器芯片、Memory、無(wú)線IC和電源管理IC等。 手機(jī)電腦的芯片原...
打破壟斷局面!華海清科、眾硅等國(guó)產(chǎn)CMP設(shè)備廠商逐一崛起
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/莫婷婷)近期,SEMI 發(fā)布報(bào)告表示,半導(dǎo)體制造設(shè)備全球總銷售額預(yù)計(jì)將在2022 年達(dá)到 1175 億美元(約 7907.75 億...
電科裝備自主研發(fā)的00mmCMP設(shè)備使中國(guó)芯片高端裝備再添利器
半導(dǎo)體行業(yè)觀察:日前,中電科電子裝備集團(tuán)有限公司(以下簡(jiǎn)稱電科裝備)傳來(lái)好消息,自主研發(fā)的國(guó)內(nèi)首臺(tái)中束流離子注入機(jī)在中芯國(guó)際大生產(chǎn)線上穩(wěn)定流片逾200萬(wàn)
英偉達(dá)第一季度業(yè)績(jī)?cè)賱?chuàng)新高,CMP挖礦卡賺了1.5億
美國(guó)時(shí)間5月26日,英偉達(dá)發(fā)布了2022年第一季度的財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)。該季度的收入達(dá)到56.6億美元?jiǎng)?chuàng)下歷史新高,與去年同期相比增長(zhǎng)了84%。其中游戲業(yè)務(wù)收入達(dá)...
探究國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備核心零部件依賴進(jìn)口是有何困境
據(jù)華海清科披露,報(bào)告期內(nèi),由于公司生產(chǎn)規(guī)模快速增長(zhǎng),對(duì)原材料需求增長(zhǎng)較快,可批量采購(gòu)令價(jià)格更優(yōu)惠,導(dǎo)致原材料價(jià)格呈下降趨勢(shì)。此外,隨著CMP設(shè)備的設(shè)計(jì)和...
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