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標(biāo)簽 > cmp
CMP指令是由美國(guó)斯坦福大學(xué)提出的,英文名稱是Chip multiprocessors,翻譯成中文就是單芯片多處理器,也指多核心其思想是將大規(guī)模并行處理器中的SMP(對(duì)稱多處理器)集成到同一芯片內(nèi),各個(gè)處理器并行執(zhí)行不同的進(jìn)程。與CMP比較, SMT處理器結(jié)構(gòu)的靈活性比較突出。
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CMP設(shè)備供應(yīng)商晶亦精微科創(chuàng)板IPO新動(dòng)態(tài)
CMP設(shè)備供應(yīng)商北京晶亦精微傳來科創(chuàng)板IPO的新動(dòng)態(tài),引發(fā)行業(yè)關(guān)注。晶亦精微作為國(guó)內(nèi)領(lǐng)先的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商,專注于化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)...
臺(tái)灣力成將量產(chǎn)HBM芯片封測(cè)業(yè)務(wù),預(yù)計(jì)今年年底客戶驗(yàn)證完成
蔡篤恭指出,力成深諳硅通孔(TSV)工藝已長(zhǎng)達(dá)十年之久,過去這一技術(shù)曾用于CIS,而現(xiàn)在也可以服務(wù)于HBM,特別是面對(duì)日益縮小的晶圓和更高精度的研磨要求...
SK海力士研發(fā)可重復(fù)使用CMP拋光墊技術(shù),降低成本并加強(qiáng)ESG管理
CMP技術(shù)指的是在化學(xué)和機(jī)械的協(xié)同作用下,使得待拋光原料表面達(dá)到指定平面度的過程?;瘜W(xué)藥水與原料接觸后,生成易于拋光的軟化層,隨后利用拋光墊以及研磨顆粒...
2023-12-28 標(biāo)簽:半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)CMPSK海力士 1368 0
SK海力士近日研發(fā)出了可重復(fù)使用的CMP拋光墊技術(shù)
12月27日消息,根據(jù)韓媒報(bào)道,SK海力士近日研發(fā)出了可重復(fù)使用的 CMP拋光墊技術(shù),不僅可以降低成本,而且可以增強(qiáng) ESG(環(huán)境、社會(huì)、治理)管理。
2023-12-27 標(biāo)簽:CMP 1031 1
SK海力士研發(fā)可重復(fù)使用CMP拋光墊技術(shù)
需要指出的是,CMP 技術(shù)通過化學(xué)與機(jī)械作用使得待拋光材料表面達(dá)到所需平滑程度。其中,拋光液中化學(xué)物質(zhì)與材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成易于拋光的軟化層。拋光...
磨削和研磨等磨料處理是生產(chǎn)半導(dǎo)體芯片的必要方式,然而研磨會(huì)導(dǎo)致芯片表面的完整性變差。因此,拋光的一致性、均勻性和表面粗糙度對(duì)生產(chǎn)芯片來說是十分重要的。
2023-12-21 標(biāo)簽:CMP碳化硅半導(dǎo)體芯片 2346 0
眾硅科技榮獲知識(shí)產(chǎn)權(quán)年度創(chuàng)新大獎(jiǎng)
緣于高強(qiáng)度研發(fā)投入及知識(shí)產(chǎn)權(quán)布局,眾硅科技成功實(shí)現(xiàn)了6英寸至12英寸CMP產(chǎn)品全系列開發(fā),其設(shè)備已成功運(yùn)用于眾多知名集成電路芯片及第三代化合物半導(dǎo)體客戶...
2023-12-18 標(biāo)簽:集成電路CMP半導(dǎo)體設(shè)備 948 0
華海清科:首臺(tái)12英寸單片終端清洗機(jī)HSC-F3400發(fā)貨
hsc-f3400機(jī)種是針對(duì)大型硅芯片終端清掃市場(chǎng)的特殊要求,華海清科開發(fā)的高性能裝備。安裝了新型清潔模塊,干燥模塊及粒子和金屬污染控制系統(tǒng),可高效清潔...
CMP拋光液市場(chǎng)高速增長(zhǎng),到2023年市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到25億美元
得益于半導(dǎo)體業(yè)界的繁榮,世界cmp拋光液市場(chǎng)正在經(jīng)歷明顯的增長(zhǎng)。cmp拋光液是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵成分,在實(shí)現(xiàn)集成電路制造的精度和效率方面發(fā)揮了關(guān)鍵作用。...
2023-09-14 標(biāo)簽:CMP半導(dǎo)體制造拋光 1618 0
紅外探測(cè)器可將不可見的紅外輻射轉(zhuǎn)換為可測(cè)量的電信號(hào)。作為中波紅外探測(cè)的主流,銻化銦紅外探測(cè)器具有穩(wěn)定的器件性能以及高可靠性,占據(jù)了大量的市場(chǎng)份額。
2023-09-08 標(biāo)簽:轉(zhuǎn)換器紅外探測(cè)器CMP 2517 0
華海清科首臺(tái)12英寸單片終端清洗機(jī)HSC-F3400機(jī)臺(tái)出機(jī)
華海清科首臺(tái)12英寸單片終端清洗機(jī)HSC-F3400機(jī)臺(tái)出機(jī) 華海清科股份有限公司是一家擁有核心自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的高端半導(dǎo)體設(shè)備制造商,公司主要產(chǎn)品包括CM...
如何實(shí)現(xiàn)CMP步驟的仿真?廣立微重磅發(fā)布CMPEXP建模工具
近日,為填補(bǔ)國(guó)內(nèi)集成電路市場(chǎng)上產(chǎn)業(yè)化CMP建模工具的空白,滿足芯片設(shè)計(jì)公司和晶圓制造廠的需求,廣立微正式推出CMP EXPLORER(簡(jiǎn)稱“CMPEXP...
2023-08-28 標(biāo)簽:EDA工具芯片設(shè)計(jì)CMP 2281 0
先進(jìn)封裝已經(jīng)成為半導(dǎo)體的“新戰(zhàn)場(chǎng)”
2022年到2028年先進(jìn)封裝市場(chǎng)年復(fù)合增長(zhǎng)率將達(dá)10.6%。
AMD、Intel與Qualcomm如何思考chiplet?
Chiplet與異構(gòu)集成即將改變電子系統(tǒng)的設(shè)計(jì)、測(cè)試和制造方式。芯片行業(yè)的“先知”們相信這個(gè)未來是不可避免的。
陶氏化學(xué)工廠爆炸 牽動(dòng)半導(dǎo)體關(guān)鍵耗材生產(chǎn)
陶氏化學(xué)公司是粘合劑,輔助劑等在內(nèi)的多種材料提供的高純度化學(xué)產(chǎn)品生產(chǎn)線的半導(dǎo)體核心化學(xué)材料的主要供應(yīng)商,也供應(yīng)全球重要的CMP材料包括拋光墊、拋光液等。
晶亦精微沖刺科創(chuàng)板IPO 為國(guó)內(nèi)唯一8英寸CMP設(shè)備境外供應(yīng)商
CMP設(shè)備供應(yīng)商北京晶亦精微科技有限公司沖刺IPO,系國(guó)內(nèi)唯一實(shí)現(xiàn)8英寸CMP設(shè)備境外批量銷售的設(shè)備供應(yīng)商。 近日北京晶亦精微科技股份有限公司(后簡(jiǎn)稱為...
2023-07-14 標(biāo)簽:半導(dǎo)體技術(shù)CMP 1141 0
晶亦精微科創(chuàng)板IPO獲受理!主打8英寸CMP設(shè)備,募資16億研發(fā)及擴(kuò)產(chǎn)
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/劉靜)近日,北京晶亦精微科技股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱:晶亦精微)科創(chuàng)板IPO獲上交所受理,保薦機(jī)構(gòu)為中信證券。 晶亦精微成立于201...
2023-07-11 標(biāo)簽:CMP 2082 0
國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體材料 邊補(bǔ)短板邊“掘金”
根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)顯示,2022年全球半導(dǎo)體材料市場(chǎng)年增長(zhǎng)率為8.9%,營(yíng)收達(dá)727億美元,超越2021年創(chuàng)下668億美元的市場(chǎng)最高紀(jì)錄。
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