一区二区三区三上|欧美在线视频五区|国产午夜无码在线观看视频|亚洲国产裸体网站|无码成年人影视|亚洲AV亚洲AV|成人开心激情五月|欧美性爱内射视频|超碰人人干人人上|一区二区无码三区亚洲人区久久精品

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

半導(dǎo)體光刻膠重要性凸出,國(guó)產(chǎn)替代加速推進(jìn)

旺材芯片 ? 來源:芯榜 ? 2023-03-21 14:00 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

業(yè)內(nèi)消息稱,日本某光刻膠大廠已經(jīng)執(zhí)行美國(guó)“實(shí)體清單”的限制要求,對(duì)中國(guó)大陸某存儲(chǔ)晶圓廠斷供了KrF光刻膠。

另外值得關(guān)注的是,日本宣布將解除對(duì)韓半導(dǎo)體原料出口管制。日本官方宣布,將“盡快”舉行雙邊出口管理政策對(duì)話,協(xié)商解除日本對(duì)韓國(guó)的半導(dǎo)體材料出口管制令。消息還顯示,韓國(guó)總統(tǒng)尹錫悅可能將于3月訪問日本,與日本首相岸田雄舉行首腦會(huì)談。

不難看出。美日韓三方正在聯(lián)手,中國(guó)半導(dǎo)體空面臨空前壓力。

光刻膠相關(guān)概念股集體大漲

對(duì)于光刻膠行業(yè),面對(duì)美日供應(yīng)鏈的不穩(wěn)定趨勢(shì),這個(gè)行業(yè)經(jīng)過多年在底部的打磨,開始迎來了進(jìn)口替代的最大契機(jī),且相關(guān)的產(chǎn)業(yè)鏈條開始逐步地走向成熟。雖然短期存在著產(chǎn)品和原料供應(yīng)的諸多問題,但下游客戶進(jìn)行國(guó)產(chǎn)替代,實(shí)現(xiàn)供應(yīng)鏈絕對(duì)安全的訴求日益強(qiáng)烈,也給從業(yè)者帶來了非常好的發(fā)展機(jī)遇。

受該傳聞?dòng)绊?,今日下午,A股開盤后,光刻膠相關(guān)概念股集體大漲。截至收盤,容大感光上漲20%、南大光電上漲9.9%、晶瑞電材上漲6.42%、上海新陽上漲4.34%、彤程新材上漲4.03%、華懋科技上漲3.81%。

半導(dǎo)體光刻膠重要性凸出,國(guó)產(chǎn)替代加速推進(jìn)

光刻膠是IC制造的核心耗材,技術(shù)壁壘極高。根據(jù)TECHCET數(shù)據(jù),預(yù)計(jì)2022年全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到23億美元,同比增長(zhǎng)7.5%,2025年超過25億美元。光刻膠行業(yè)市場(chǎng)集中度較高,目前全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)基本被日本和美國(guó)企業(yè)壟斷,其中日本廠商技術(shù)和生產(chǎn)規(guī)模占絕對(duì)優(yōu)勢(shì)。半導(dǎo)體光刻膠根據(jù)波長(zhǎng)可進(jìn)一步分為G線光刻膠(436nm)、I線光刻膠(365nm)、KrF光刻膠(248nm)、ArF光刻膠(193nm)、EUV光刻膠(13.5nm)等分辨率逐步提升。 中國(guó)本土光刻膠整體技術(shù)水平與國(guó)際先進(jìn)水平存在較大差距,自給率不足10%,其中g(shù)線、I線光刻膠的自給率約為20%,KrF光刻膠的自給率不足5%,12英寸硅片用的ArF光刻膠尚無國(guó)內(nèi)企業(yè)可以大規(guī)模生產(chǎn)。國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主可控迫在眉睫,建議關(guān)注在半導(dǎo)體光刻膠布局較早的企業(yè):彤程新材/南大光電/華懋科技/晶瑞股份等。

EUV膠方面,北京科華已通過02專項(xiàng)驗(yàn)收。ArF膠方面,上海新陽、徐州博康正處于客戶測(cè)試階段,南大光電已獲部分客戶認(rèn)證;KrF膠方面,北京科華、上海新陽、徐州博康、晶瑞電材均具備量產(chǎn)能力。 根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域不同,光刻膠可分為PCB光刻膠、LCD光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠,技術(shù)門檻逐漸遞增。

41dd8168-bf48-11ed-bfe3-dac502259ad0.png

2022年光刻膠全球市場(chǎng)預(yù)計(jì)突破26億美元

下游數(shù)據(jù)中心服務(wù)器及新能源汽車等行業(yè)的快速擴(kuò)張驅(qū)動(dòng)全球晶圓代工廠積極擴(kuò)產(chǎn),從而為上游半導(dǎo)體光刻膠提供了持久的增長(zhǎng)動(dòng)力。 SEMI數(shù)據(jù)顯示,2021年全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)約為24.71億美元,中國(guó)大陸市場(chǎng)約4.93億美元,下游晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)有望推動(dòng)國(guó)內(nèi)KrF和ArF膠市場(chǎng)擴(kuò)容;工藝節(jié)點(diǎn)進(jìn)步和存儲(chǔ)技術(shù)升級(jí),光刻層數(shù)提升,推動(dòng)單位面積光刻膠價(jià)值量增長(zhǎng),隨著中國(guó)大陸12寸晶圓產(chǎn)線陸續(xù)開出,價(jià)值含量更高的KrF和ArF(ArFi)光刻膠使用頻率提升、價(jià)值量占比提升。 根據(jù)SEMI數(shù)據(jù),單位面積光刻膠價(jià)值含量由2015年的約0.120美元/平方英寸上漲至2021年的0.174美元/平方英寸。得益于晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)以及市場(chǎng)需求結(jié)構(gòu)性升級(jí),我們測(cè)算2022年全球半導(dǎo)體***市場(chǎng)將超過26億美元。 半導(dǎo)體光刻膠主要用于晶圓制造環(huán)節(jié),我國(guó)晶圓廠建設(shè)將迎來高速增長(zhǎng)期,這將為光刻膠帶來廣闊成長(zhǎng)空間。據(jù)芯榜(icrankcn)統(tǒng)計(jì),截至2019年,我國(guó)6、8、12英寸晶圓制造廠裝機(jī)產(chǎn)能分別為229.1、98.5、89.7萬片/月,預(yù)計(jì)到2024年將達(dá)292、187、273萬片/月,年均復(fù)合增速分別高達(dá)5%、14%和25%。90%以上市場(chǎng)為海外巨頭壟斷,國(guó)內(nèi)廠商機(jī)遇與挑戰(zhàn)并存

日本掌握最領(lǐng)先的光刻膠配方和工藝

東京電子、JSR、富士、信越化學(xué)、住友化學(xué)等日本廠商占據(jù)80%以上市場(chǎng)份額。國(guó)內(nèi)廠商主要有北京科華、徐州博康、南大光電、蘇州瑞紅、上海新陽等,具體來看,G線國(guó)產(chǎn)化率較高,I線、KrF、ArF國(guó)產(chǎn)化率仍較低,目前部分國(guó)內(nèi)企業(yè)已實(shí)現(xiàn)KrF膠量產(chǎn),打破國(guó)外壟斷,少數(shù)廠商已實(shí)現(xiàn)ArF光刻膠自主技術(shù)的突破。

425bfc64-bf48-11ed-bfe3-dac502259ad0.png

光刻膠,國(guó)內(nèi)企業(yè)逐步突破

我國(guó)光刻膠行業(yè)發(fā)展面臨的主要問題有光刻膠關(guān)鍵原料單體、樹脂、光敏劑等進(jìn)口依賴較強(qiáng),對(duì)應(yīng)的測(cè)試驗(yàn)證設(shè)備***資源緊張,海外廠商先發(fā)優(yōu)勢(shì)顯著,國(guó)內(nèi)企業(yè)盡管在KrF膠上實(shí)現(xiàn)部分料號(hào)量產(chǎn)但覆蓋面仍較窄。

當(dāng)前半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈逆全球化趨勢(shì)正在形成,半導(dǎo)體供應(yīng)鏈安全至關(guān)重要,光刻膠作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)核心原材料,技術(shù)壁壘高,原料自主可控尤為關(guān)鍵。同時(shí)我們認(rèn)為,國(guó)內(nèi)廠商也具備一定發(fā)展優(yōu)勢(shì),首先是國(guó)產(chǎn)晶圓廠商逆周期擴(kuò)產(chǎn)新增大量光刻膠需求,國(guó)產(chǎn)替代空間廣闊,客戶替代意愿強(qiáng)。 第二,國(guó)內(nèi)光刻膠廠商具備本土化優(yōu)勢(shì),與客戶聯(lián)系更緊密、反饋溝通更便捷。面對(duì)當(dāng)前困境,我們認(rèn)為國(guó)內(nèi)晶圓廠應(yīng)當(dāng)加強(qiáng)與國(guó)產(chǎn)光刻膠廠商聯(lián)系、及時(shí)提供測(cè)試反饋,加快產(chǎn)品驗(yàn)證與導(dǎo)入速度,給光刻膠國(guó)產(chǎn)化以更好的成長(zhǎng)環(huán)境。

4276d296-bf48-11ed-bfe3-dac502259ad0.png

智研咨詢的數(shù)據(jù)還顯示,受益于半導(dǎo)體、顯示面板、PCB產(chǎn)業(yè)東移的趨勢(shì),自 2011年至今,光刻膠中國(guó)本土供應(yīng)規(guī)模年華增長(zhǎng)率達(dá)到11%,高于全球平均 5%的增速。2019年中國(guó)光刻膠市場(chǎng)本土企業(yè)銷售規(guī)模約70億元,全球占比約 10%,發(fā)展空間巨大。目前,中國(guó)本土光刻膠以PCB用光刻膠為主,平板顯示、半導(dǎo)體用光刻膠供應(yīng)量占比極低。中國(guó)本土光刻膠企業(yè)生產(chǎn)結(jié)構(gòu)可以如圖所示。

429481d8-bf48-11ed-bfe3-dac502259ad0.png

(中國(guó)本土光刻膠企業(yè)生產(chǎn)結(jié)構(gòu))

日本宣布將解除對(duì)韓半導(dǎo)體原料出口管制

3月8日消息,據(jù)韓國(guó)媒體The Elec報(bào)導(dǎo),韓國(guó)政府3月6日表示,在二戰(zhàn)期間遭日本企業(yè)強(qiáng)迫勞動(dòng)的韓國(guó)受害者,將通過韓國(guó)當(dāng)?shù)仄髽I(yè)資助的公共基金提供賠償,徹底改變了此前要求日本企業(yè)負(fù)責(zé)賠償責(zé)任的強(qiáng)硬態(tài)度。

△韓國(guó)總統(tǒng)尹錫悅

隨著韓國(guó)對(duì)日態(tài)度的軟化,日韓關(guān)系迎來破冰。日本官方宣布,將“盡快”舉行雙邊出口管理政策對(duì)話,協(xié)商解除日本對(duì)韓國(guó)的半導(dǎo)體材料出口管制令。消息還顯示,韓國(guó)總統(tǒng)尹錫悅可能將于3月訪問日本,與日本首相岸田雄舉行首腦會(huì)談。

報(bào)道稱,韓國(guó)科技業(yè)界人士普遍樂見這項(xiàng)消息,因?yàn)榇伺e大大消除潛在風(fēng)險(xiǎn),并減少不確定性。但也有部分人士擔(dān)心,這將提升韓國(guó)半導(dǎo)體供應(yīng)鏈擺脫依賴國(guó)外技術(shù)的難度,不利于落實(shí)半導(dǎo)體關(guān)鍵材料的自主化與國(guó)產(chǎn)化。

編輯:黃飛

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1167

    瀏覽量

    48198
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    339

    瀏覽量

    30949

原文標(biāo)題:不難看出。

文章出處:【微信號(hào):wc_ysj,微信公眾號(hào):旺材芯片】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    國(guó)產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動(dòng)

    量產(chǎn)到ArF浸沒式驗(yàn)證,從樹脂國(guó)產(chǎn)化到EUV原料突破,一場(chǎng)靜默卻浩蕩的技術(shù)突圍戰(zhàn)已進(jìn)入深水區(qū)。 ? 例如在248nm波長(zhǎng)的KrF光刻膠武漢太紫微的T150A
    的頭像 發(fā)表于 07-13 07:22 ?2753次閱讀

    低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在半導(dǎo)體制造過程中,光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMF)雖在光刻膠剝離方面表現(xiàn)出色,但因其高含量使用帶來的成本、環(huán)保等問題備受關(guān)注。同時(shí),光刻
    的頭像 發(fā)表于 06-17 10:01 ?241次閱讀
    低含量 NMF <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液和制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離是重要工序。傳統(tǒng)剝離液常對(duì)金屬層產(chǎn)生過度刻蝕,影響器件性能。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量也是確保制造質(zhì)量的關(guān)鍵。本文聚焦金屬低刻蝕的
    的頭像 發(fā)表于 06-16 09:31 ?137次閱讀
    金屬低刻蝕的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其應(yīng)用及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    減少光刻膠剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    ? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對(duì)器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量對(duì)于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少
    的頭像 發(fā)表于 06-14 09:42 ?300次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí),精準(zhǔn)測(cè)量光刻圖形
    的頭像 發(fā)表于 05-29 09:38 ?241次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠。本文介紹了
    的頭像 發(fā)表于 04-29 13:59 ?2315次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性

    半導(dǎo)體材料介紹 | 光刻膠及生產(chǎn)工藝重點(diǎn)企業(yè)

    體。在光刻工藝過程中,用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料在表面加工時(shí),若采用適當(dāng)?shù)挠羞x擇光刻膠,可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖
    的頭像 發(fā)表于 03-18 13:59 ?1075次閱讀
    <b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>材料介紹 | <b class='flag-5'>光刻膠</b>及生產(chǎn)工藝重點(diǎn)企業(yè)

    晶圓表面光刻膠的涂覆與刮邊工藝的研究

    隨著半導(dǎo)體器件的應(yīng)用范圍越來越廣,晶圓制造技術(shù)也得到了快速發(fā)展。其中,光刻技術(shù)在晶圓制造過程中的地位尤為重要。光刻膠光刻工藝中必不可少的材
    的頭像 發(fā)表于 01-03 16:22 ?676次閱讀

    光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料

    光刻膠半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料,在整個(gè)電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關(guān)鍵性能,增
    的頭像 發(fā)表于 12-19 13:57 ?989次閱讀

    一文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望

    光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán),而光刻膠,又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展,對(duì)微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強(qiáng),光刻膠的需求也水漲船高,在微電子制造和納米技
    的頭像 發(fā)表于 11-11 10:08 ?1909次閱讀
    一文解讀<b class='flag-5'>光刻膠</b>的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望

    一文看懂光刻膠的堅(jiān)膜工藝及物理特性和常見光刻膠

    共讀好書關(guān)于常用光刻膠型號(hào)也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號(hào)資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識(shí)星球,領(lǐng)取公眾號(hào)資料
    的頭像 發(fā)表于 11-01 11:08 ?2493次閱讀

    光刻膠的使用過程與原理

    本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。
    的頭像 發(fā)表于 10-31 15:59 ?1584次閱讀

    國(guó)產(chǎn)光刻膠通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證

    來源:太紫微公司 近日,光谷企業(yè)在半導(dǎo)體專用光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)重大突破:武漢太紫微光電科技有限公司(以下簡(jiǎn)稱“太紫微公司”)推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品,已通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證,實(shí)現(xiàn)配方全自主
    的頭像 發(fā)表于 10-17 13:22 ?658次閱讀
    <b class='flag-5'>國(guó)產(chǎn)</b><b class='flag-5'>光刻膠</b>通過<b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>工藝量產(chǎn)驗(yàn)證

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠?

    在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘臺(tái)或者烤設(shè)備對(duì)SU-8光刻膠或PDMS聚合物進(jìn)行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進(jìn)行2-3次。本文簡(jiǎn)要介紹SU-8
    的頭像 發(fā)表于 08-27 15:54 ?802次閱讀

    如何成功的旋涂微流控SU-8光刻膠

    ? 基底上SU-8光刻膠的圖層可以通過若干種技術(shù)來完成。最常用的技術(shù)是旋涂技術(shù),該技術(shù)是在旋轉(zhuǎn)的基底上放置一小灘SU-8光刻膠。旋轉(zhuǎn)速度、加速度和SU-8光刻膠的黏度將會(huì)決定SU-8
    的頭像 發(fā)表于 08-26 14:16 ?853次閱讀