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國產(chǎn)碳化硅MOSFET解決LLC功率調(diào)整時(shí)的硬開關(guān)損耗痛點(diǎn)

楊茜 ? 來源:jf_33411244 ? 作者:jf_33411244 ? 2025-03-07 07:30 ? 次閱讀

LLC諧振轉(zhuǎn)換器的核心優(yōu)勢(shì)在于軟開關(guān)實(shí)現(xiàn)的高效率、寬輸入適應(yīng)性及高功率密度,其典型應(yīng)用涵蓋消費(fèi)電子、工業(yè)電源、新能源、醫(yī)療等高要求領(lǐng)域。與SiC MOSFET結(jié)合后,LLC在高頻、高溫、高可靠性場景中的性能進(jìn)一步提升,成為下一代高效電源系統(tǒng)的關(guān)鍵技術(shù)。

LLC諧振轉(zhuǎn)換器的最大應(yīng)用痛點(diǎn)可歸結(jié)為:復(fù)雜的設(shè)計(jì)與參數(shù)優(yōu)化、輕載效率與動(dòng)態(tài)響應(yīng)的平衡、高頻高功率下的元器件可靠性及成本壓力。先在通過器件創(chuàng)新-比如應(yīng)用BASiC基本半導(dǎo)體(BASiC Semiconductor)國產(chǎn)第三代碳化硅MOSFET、控制算法優(yōu)化和系統(tǒng)集成技術(shù),逐步突破這些瓶頸,進(jìn)一步拓展其在高效能源轉(zhuǎn)換領(lǐng)域的應(yīng)用。

下面著重談一下:

應(yīng)用場景及核心痛點(diǎn)

電動(dòng)汽車充電機(jī)OBC輸入電壓范圍寬(200-800V),輕載時(shí)硬開關(guān)損耗大,動(dòng)態(tài)響應(yīng)需匹配電池快速充放電需求。利用國產(chǎn)碳化硅MOSFET比如BASiC基本半導(dǎo)體(BASiC Semiconductor)的高頻低損耗特性,擴(kuò)展LLC的軟開關(guān)范圍,降低輕載損耗。在硬開關(guān)不可避免的瞬態(tài)工況(如負(fù)載突變)中,SiC器件如BASiC基本半導(dǎo)體(BASiC Semiconductor)顯著降低損耗,彌補(bǔ)LLC的局限性。

服務(wù)器電源 高頻磁性元件成本高,散熱設(shè)計(jì)復(fù)雜,需在密閉機(jī)柜中維持高效冷卻。國產(chǎn)碳化硅MOSFET比如BASiC基本半導(dǎo)體(BASiC Semiconductor)的高導(dǎo)熱性和高溫穩(wěn)定性,使LLC在高溫環(huán)境等場景中保持高效可靠。

光伏逆變器 輸入電壓波動(dòng)劇烈(隨光照變化),諧振參數(shù)需兼顧全工況效率,系統(tǒng)穩(wěn)定性要求高。國產(chǎn)碳化硅MOSFET比如BASiC基本半導(dǎo)體(BASiC Semiconductor)高雪崩耐量(UIS)提升系統(tǒng)魯棒性。

在LLC諧振轉(zhuǎn)換器中,輸出功率調(diào)整過程中出現(xiàn)硬開關(guān)的主要原因及碳化硅(SiC)MOSFET取代超結(jié)MOSFET的優(yōu)勢(shì)如下:


一、LLC輸出功率調(diào)整中出現(xiàn)硬開關(guān)的原因

頻率偏離諧振區(qū)域
LLC通過調(diào)節(jié)開關(guān)頻率實(shí)現(xiàn)功率調(diào)整。當(dāng)頻率高于或低于諧振頻率時(shí),諧振腔的電流可能不足以完成開關(guān)管的零電壓(ZVS)或零電流(ZCS)切換,導(dǎo)致硬開關(guān):

輕載或空載時(shí):開關(guān)頻率升高至諧振頻率以上,原邊電流減小,無法為開關(guān)管的寄生電容充放電,導(dǎo)致硬開通。

重載或瞬態(tài)調(diào)整時(shí):頻率可能低于諧振頻率,諧振電流相位滯后,關(guān)斷時(shí)存在剩余電流,引發(fā)硬關(guān)斷。

輸入電壓或負(fù)載突變
快速變化的工況可能導(dǎo)致控制環(huán)路響應(yīng)延遲,暫時(shí)脫離軟開關(guān)范圍。

死區(qū)時(shí)間設(shè)計(jì)不當(dāng)
死區(qū)時(shí)間過長或過短會(huì)導(dǎo)致體二極管導(dǎo)通損耗或反向恢復(fù)問題,破壞軟開關(guān)條件。


二、碳化硅(SiC)MOSFET取代超結(jié)MOSFET的根本優(yōu)勢(shì)

BASiC基本股份(BASiC Semiconductor) G3.5系列(650V)

常溫及高溫下的開關(guān)損耗(Etotal)顯著低于S*和W*量產(chǎn)競品,高頻應(yīng)用效率更高。

BASiC基本股份(BASiC Semiconductor) 650V碳化硅MOSFET動(dòng)態(tài)特性優(yōu)勢(shì)

在雙脈沖測試中,BASiC基本股份(BASiC Semiconductor) 650V碳化硅MOSFET 開關(guān)損耗(Eon/Eoff) 在常溫和高溫下均優(yōu)于C*、O*等競品,得益于SiC MOSFET的高速開關(guān)特性(低寄生電容、低反向恢復(fù)電荷)。

Ciss/Crss 倍率 設(shè)計(jì)優(yōu)化了驅(qū)動(dòng)效率,降低開關(guān)損耗。

高頻與高溫穩(wěn)定性

支持高頻應(yīng)用(MHz級(jí)別),同時(shí)高溫(175°C)下導(dǎo)通電阻僅增長至常溫的約1.8倍(從13mΩ增至24mΩ),優(yōu)于傳統(tǒng)硅基器件。

材料導(dǎo)熱系數(shù)高(SiC導(dǎo)熱性是硅的3倍),高溫下性能更穩(wěn)定。

更低的開關(guān)損耗

SiC MOSFET的開關(guān)速度更快(得益于高電子飽和漂移速度),且寄生電容更小,顯著降低硬開關(guān)時(shí)的能量損耗(如 Eoss? 和 Esw?)。

反向恢復(fù)電荷(Qrr)極低:SiC體二極管的反向恢復(fù)特性優(yōu)于硅基超結(jié)MOSFET,硬開關(guān)時(shí)反向恢復(fù)損耗減少80%以上。

高頻性能優(yōu)勢(shì)

SiC器件支持更高開關(guān)頻率(MHz級(jí)別),允許LLC設(shè)計(jì)更緊湊的磁性元件,同時(shí)在高頻硬開關(guān)場景下仍保持高效率。

高溫穩(wěn)定性

SiC的導(dǎo)熱系數(shù)是硅的3倍,且導(dǎo)通電阻(Rds(on))隨溫度變化小,高溫下性能更穩(wěn)定,適合LLC可能出現(xiàn)的局部硬開關(guān)工況。

降低系統(tǒng)復(fù)雜性

在硬開關(guān)不可避免的寬范圍調(diào)功場景中,SiC的高效表現(xiàn)減少了對(duì)復(fù)雜軟開關(guān)輔助電路的需求,簡化了設(shè)計(jì)。

BASiC基本股份(BASiC Semiconductor)工藝與可靠性優(yōu)勢(shì)

高性能平面工藝平臺(tái)

BASiC基本股份(BASiC Semiconductor)基于自研的平面型SiC MOSFET工藝,實(shí)現(xiàn)高一致性低工藝缺陷率(通過Epi缺陷Mapping、光致發(fā)光Mapping等嚴(yán)格檢測)。

BASiC基本股份(BASiC Semiconductor)晶圓級(jí)老化(WLBI)篩選早期失效芯片,結(jié)合Known Good Die(KGD)測試,確保車規(guī)級(jí)可靠性。

車規(guī)級(jí)可靠性認(rèn)證

BASiC基本股份(BASiC Semiconductor)已通過AEC-Q101認(rèn)證,6款產(chǎn)品滿足車用主驅(qū)芯片要求。

關(guān)鍵可靠性測試覆蓋 HTRB(高溫反偏)、HTGB(高溫柵偏)、UIS(雪崩耐量)、短路測試 等,確保極端工況下的穩(wěn)定性。

BASiC基本股份(BASiC Semiconductor)缺陷控制與篩選技術(shù)

BASiC基本股份(BASiC Semiconductor) WLBI晶圓級(jí)老化:通過高溫高壓應(yīng)力加速篩選工藝缺陷,結(jié)合Weibull分布模型預(yù)測壽命,優(yōu)化良率。

BASiC基本股份(BASiC Semiconductor) KGD測試:對(duì)裸Die進(jìn)行大功率測試(DC/AC/雪崩/短路),分Bin篩選出符合車規(guī)要求的芯片。

BASiC基本股份的SiC MOSFET技術(shù)核心優(yōu)勢(shì)在于:

性能對(duì)標(biāo)國際頭部廠商:低開關(guān)損耗、優(yōu)異高溫特性實(shí)現(xiàn)高效能;

車規(guī)級(jí)可靠性:嚴(yán)格的WLBI和KGD篩選流程確保芯片一致性及壽命;

工藝自主可控:平面工藝平臺(tái)結(jié)合缺陷控制技術(shù),支撐高良率與定制化能力。
這些優(yōu)勢(shì)使其在電動(dòng)汽車、工業(yè)電源等高端市場具備與國際大廠競爭的潛力。


總結(jié)

LLC的硬開關(guān)問題源于功率調(diào)整時(shí)的頻率偏移和動(dòng)態(tài)工況,而國產(chǎn)SiC MOSFET比如BASiC基本半導(dǎo)體(BASiC Semiconductor)憑借超低開關(guān)損耗、優(yōu)異高頻特性及高溫穩(wěn)定性,在硬開關(guān)場景中大幅提升效率和可靠性,成為替代超結(jié)MOSFET的理想選擇。其根本優(yōu)勢(shì)在于**“高頻硬開關(guān)下的損耗控制能力”**,為高功率密度和高效率電源設(shè)計(jì)提供了關(guān)鍵支持。

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