動(dòng)態(tài)

• 發(fā)布了文章 2023-08-07 14:21

  inTEST熱流儀邏輯芯片 FPGA高低溫沖擊測(cè)試

  

  FPGA 芯片需要按照 JED22-A104 標(biāo)準(zhǔn)做溫度循環(huán) TC 測(cè)試, 讓其經(jīng)受極端高溫和低溫之間的快速轉(zhuǎn)換. 一般在?-55℃~150℃ 進(jìn)行測(cè)試, 傳統(tǒng)的環(huán)境箱因?yàn)樯禍厮俣仁芟? 無法滿足研發(fā)的快速循環(huán)測(cè)試需求. 上海伯東美國(guó) inTEST 熱流儀 ATS-710E 變溫速率約 10 s, 實(shí)現(xiàn) FPGA 芯片極端高溫和低溫之間的快速轉(zhuǎn)換測(cè)

  FPGA 測(cè)試 芯片 高低溫測(cè)試機(jī)

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• 發(fā)布了文章 2023-08-07 14:14

  上海伯東分子泵應(yīng)用于 LED 芯片退火合金爐

  

  LED 芯片退火合金爐屬于真空爐的一種, 需要在真空環(huán)境下實(shí)現(xiàn) LED 芯片的退火, 合金, 濕氧氧化, 歐姆電極燒結(jié)等工藝. 腔體真空度一般在 10-3 至 10-6 hPa 之間, 上海伯東德國(guó) Pfeiffer 分子泵憑借大抽速,高穩(wěn)定性廣泛應(yīng)用于退火合金爐設(shè)備.

  led 真空泵 芯片

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• 發(fā)布了文章 2023-08-07 14:08

  美國(guó)KRi 離子源光通信應(yīng)用, 助力5G技術(shù)發(fā)展

  

  光通信的信息載體是光波,?為了進(jìn)一步提高光通信系統(tǒng)中光信號(hào)的傳輸質(zhì)量,?滿足光通信系統(tǒng)的使用要求,??上海伯東美國(guó) KRi 離子源通過離子束濺射, 輔助薄膜沉積等工藝在離子束鍍膜系統(tǒng)中實(shí)現(xiàn)光模塊, 光器件等薄膜元件的精密加工. 離子源典型應(yīng)用例如, 在光纖連接面鍍 AR 增透膜 (減反射膜), 達(dá)到減少光纖對(duì)光的損耗, 增加光的透過率, 減少反射的工藝效果.

  5G 光纖器 光通訊 離子源 通信

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• 發(fā)布了產(chǎn)品 2023-07-11 10:13

  普發(fā)分流式分子泵 SplitFlow

  

  產(chǎn)品型號(hào)：SplitFlow 產(chǎn)地：德國(guó)

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• 發(fā)布了產(chǎn)品 2023-07-11 10:09

  普發(fā)分子泵 HiPace 80 Neo

  

  產(chǎn)品型號(hào)：HiPace 80 Neo 產(chǎn)地：德國(guó)

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• 發(fā)布了文章 2023-07-07 14:55

  美國(guó) KRi 考夫曼離子源應(yīng)用于雙腔室高真空等離子 ALD 系統(tǒng)

  

  上海伯東美國(guó) KRi 考夫曼離子源 KDC 40 應(yīng)用于雙腔室高真空等離子 ALD 系統(tǒng), 實(shí)現(xiàn)小規(guī)模試驗(yàn)中 2-4 英寸硅片等半導(dǎo)體襯底表面的清潔, 確保樣品表面清潔無污染, 滿足 TiN, ZnO, Al2O3, TiO2 等制備.

  離子源 系統(tǒng)

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• 發(fā)布了文章 2023-06-20 16:58

  Aston™ 質(zhì)譜儀 ALD 工藝控制的原位計(jì)量

  

  上海伯東 Aston? 質(zhì)譜分析儀是一款快速, 強(qiáng)大的化學(xué)特異性氣體質(zhì)譜儀, 提供 ALD 過程控制解決方案, 可在這些非等離子體（“l(fā)ights-off”）過程中提供原位計(jì)量和控制. 它可以實(shí)現(xiàn)快速, 化學(xué)特定的原位定量氣體分析, 低至十億分之幾的水平, 提供 ALD 過程控制所需的實(shí)時(shí)數(shù)據(jù).

  工藝控制 質(zhì)譜分析

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• 發(fā)布了文章 2023-06-20 16:49

  Aston 質(zhì)譜儀對(duì)小開口區(qū)域的蝕刻有更高的靈敏度

  

  上海伯東日本 Aston? 質(zhì)譜儀能夠進(jìn)行準(zhǔn)確且可操作的端點(diǎn)檢測(cè), OA% 是傳統(tǒng) OES 計(jì)量解決方案的一個(gè)數(shù)量級(jí)（1/10）. Aston? 質(zhì)譜儀解決方案適用于具有高蝕刻吞吐量和大量重復(fù)相同步驟的工藝中的實(shí)時(shí) EPD. 這是通過高信噪比 SNR 實(shí)現(xiàn)的, 從而避免了 OES 設(shè)備中常見的模棱兩可和復(fù)雜的多變量分析算法.

  刻蝕 檢測(cè) 蝕刻 質(zhì)譜儀

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• 發(fā)布了文章 2023-06-20 16:21

  Aston 過程質(zhì)譜應(yīng)用于 EUV 極紫外光源鹵化錫原位定量

  

  上海伯東日本 Atonarp Aston? 過程質(zhì)譜分析儀通過快速, 可操作, 高靈敏度的分子診斷數(shù)據(jù)實(shí)現(xiàn)了更佳的反射板鍍錫層清潔, 并且 Aston? 過程質(zhì)譜的實(shí)時(shí)氫氣 H2 監(jiān)測(cè)也降低了每個(gè) EUV 工具的氫氣消耗

  EUV EUV光刻機(jī) 晶圓

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• 發(fā)布了文章 2023-06-20 16:17

  Aston™ 質(zhì)譜分析儀保護(hù) CVD 工藝免受干泵故障的影響

  

  上海伯東代理日本 Atonarp 過程控制質(zhì)譜儀 Aston? 為半導(dǎo)體生產(chǎn)而設(shè)計(jì), 作為一個(gè)強(qiáng)大的平臺(tái), Aston? 可以取代多種傳統(tǒng)工具, 提供半導(dǎo)體制程中 ALD, CVD, 蝕刻, ALE 和腔室在大批量生產(chǎn)中的氣體偵測(cè)分析, 實(shí)現(xiàn)尾氣在線監(jiān)控, 診斷并在一系列應(yīng)用中提供更高的控制水平, 適用于光刻, 電介質(zhì)和導(dǎo)電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配

  CVD 半導(dǎo)體

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