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      標(biāo)簽　>　光刻機(jī)

      光刻機(jī)

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      文章：1110個(gè) 瀏覽：48198次 帖子：5個(gè)

      光刻機(jī)資訊

      不用光刻機(jī)也能制造芯片?

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      2021-01-19 標(biāo)簽：芯片半導(dǎo)體控制器 1.7萬(wàn) 0

      又一中國(guó)刻蝕機(jī)巨頭崛起,領(lǐng)先世界

      芯片制造有三大核心環(huán)節(jié)：薄膜沉積、光刻與刻蝕。其中，光刻環(huán)節(jié)成本最高，其次便是刻蝕環(huán)節(jié)。光刻是將電路圖畫在晶圓之上，刻蝕則是沿著這一圖案進(jìn)行雕刻。這一過...

      2021-01-18 標(biāo)簽：芯片半導(dǎo)體光刻機(jī) 4620 0

      大族激光表示：在研光刻機(jī)項(xiàng)目分辨率為3-5μm，且已實(shí)現(xiàn)小批量銷售

      集微網(wǎng)消息，1月14日，大族激光在互動(dòng)平臺(tái)表示，目前公司在研光刻機(jī)項(xiàng)目分辨率為3-5μm，主要聚焦在5G通訊配套分立器件、LED、Mini/Micro-...

      2021-01-15 標(biāo)簽：光刻機(jī)5G大族激光 3394 0

      為何EUV光刻機(jī)會(huì)這么耗電呢

      EUV（極紫外光）光刻機(jī)，是目前半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已投入規(guī)模生產(chǎn)使用的最先進(jìn)光刻機(jī)類型。近來，有不少消息都指出，EUV光刻機(jī)耗電量非常大，甚至它還成為困擾臺(tái)積電...

      2021-02-14 標(biāo)簽：晶圓光刻機(jī)EUV 4487 0

      三星1nm時(shí)代光刻機(jī)體積將增加

      近日，在日本東京舉辦的ITF論壇上，與ASML合作研發(fā)光刻機(jī)的比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC公布了3nm及以下制程在微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。

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      芯源微發(fā)布期接受機(jī)構(gòu)調(diào)研的活動(dòng)記錄表

      天眼查信息顯示，芯源微成立于2002年，是由中科院沈陽(yáng)自動(dòng)化研究所創(chuàng)建的國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)，專業(yè)從事半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與服務(wù)，致力于為客戶提...

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      ASML并不是一個(gè)家喻戶曉的名字，但他是現(xiàn)代技術(shù)的關(guān)鍵。它使我們每天使用的電子設(shè)備成為可能。該集團(tuán)在阿姆斯特丹和紐約雙重上市，稱自己是“您從未聽說過的最...

      2021-01-10 標(biāo)簽：芯片光刻機(jī)ASML 1673 0

      上海電氣澄清:光刻機(jī)并非公司經(jīng)營(yíng)業(yè)務(wù)

      據(jù)媒體稱，上海電氣將承擔(dān)光刻機(jī)攻關(guān)任務(wù)，該股早盤應(yīng)聲漲停。但在28萬(wàn)股東采烈之際，上海電氣盤后卻發(fā)布了澄清公告。值得注意的是，這并不是光刻機(jī)消息首次“帶...

      2021-01-10 標(biāo)簽：電氣光刻機(jī) 7467 0

      臺(tái)積電談實(shí)現(xiàn)5nm的關(guān)鍵技術(shù)

      ? ? 進(jìn)入最近幾年，每當(dāng)我們引入一個(gè)新的先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)，大家都把絕大多數(shù)注意力集中在光刻更新上。引用的常用指標(biāo)是每平方毫米的晶體管或（高密度）SRAM位...

      2021-01-08 標(biāo)簽：臺(tái)積電sram光刻機(jī) 3886 0

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