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標(biāo)簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。是對(duì)半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進(jìn)行開(kāi)孔,以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。
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半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)最上游是IC設(shè)計(jì)公司與硅晶圓制造公司,IC設(shè)公司計(jì)依客戶的需求設(shè)計(jì)出電路圖,硅晶圓制造公司則以多晶硅為原料制造出硅晶圓。中游的IC制造公司主要...
關(guān)于光刻的原理、光刻設(shè)備等知識(shí)點(diǎn)集合
最近光博會(huì)上看到一本關(guān)于光刻的小冊(cè)子,里面有一點(diǎn)內(nèi)容,分享給大家。 關(guān)于光刻的原理、光刻設(shè)備、光刻膠的種類(lèi)和選擇等。 開(kāi)篇 光刻的原理 表面處理:一般的...
多層PCB內(nèi)層的光刻工藝每個(gè)階段需要做什么
多層PCB內(nèi)層的光刻工藝包括幾個(gè)階段,接下來(lái)詳細(xì)為大家介紹多層PCB內(nèi)層的光刻工藝每個(gè)階段都需要做什么。 PART.1 在第一階段,內(nèi)層穿過(guò)化學(xué)制劑生產(chǎn)...
我們已經(jīng)從前兩篇的文章中了解了半導(dǎo)體制造的前幾大步驟,包括晶圓加工、氧化、光刻、刻蝕和薄膜沉積。 ? 在今天的推文中,我們將繼續(xù)介紹最后三個(gè)步驟:互連、...
2021-08-02 標(biāo)簽:光刻半導(dǎo)體制造 1.8萬(wàn) 1
華為哈勃投資入股了長(zhǎng)光華芯,有望進(jìn)入華為激光雷達(dá)產(chǎn)業(yè)鏈
在近日發(fā)布的長(zhǎng)光華芯招股說(shuō)明書(shū)中,我們可以發(fā)現(xiàn)華為哈勃投資入股了長(zhǎng)光華芯,持有其4.98%股份。華為布局激光雷達(dá)產(chǎn)業(yè)鏈的目的不言而喻,也使得長(zhǎng)光華芯有望...
2021年,半導(dǎo)體制造所需的光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將同比增長(zhǎng)11%
按照應(yīng)用領(lǐng)域分類(lèi),光刻膠主要包括印制電路板(PCB)光刻膠專(zhuān)用化學(xué)品(光引發(fā)劑和樹(shù)脂)、液晶顯示器(LCD)光刻膠光引發(fā)劑、半導(dǎo)體光刻膠光引發(fā)劑和其他用...
經(jīng)常聽(tīng)到別人說(shuō)7納米光刻機(jī)、5納米光刻機(jī),但其實(shí)嚴(yán)格意義上來(lái)說(shuō)并不存在7納米光刻機(jī),5納米光刻機(jī),我為什么會(huì)這樣說(shuō)呢?
幾種典型的光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)方式及精度
? 光刻對(duì)準(zhǔn)技術(shù)由最初的明場(chǎng)和暗場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)發(fā)展到后來(lái)的干涉全息或外差干涉全息對(duì)準(zhǔn)、混合匹配、由粗略到精細(xì)對(duì)準(zhǔn)技術(shù)等。對(duì)準(zhǔn)精度也由原來(lái)的微米級(jí)提高到納米級(jí),極...
盤(pán)點(diǎn)國(guó)產(chǎn)光刻產(chǎn)業(yè)鏈的“星星之火”,十三年磨一劍背后的中國(guó)芯片業(yè)隱痛
2020-12-27 標(biāo)簽:芯片半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn) 7618 0
MEMS全稱(chēng)Micro Electromechanical System(微機(jī)電系統(tǒng)),是一種通常在硅晶圓上以IC工藝制備的微機(jī)電系統(tǒng),微機(jī)械結(jié)構(gòu)的制備...
1995年,華裔科學(xué)家周郁(Stephen Chou)教授首次提出納米壓印概念,從此揭開(kāi)了納米壓印制造技術(shù)的研究序幕。納米壓印技術(shù)是當(dāng)今最具前景的納米制...
昨夜晚間,寧波南大光電發(fā)表公告稱(chēng),公司自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產(chǎn)品 近日成功通過(guò)客戶的使用認(rèn)證。
在芯片的生產(chǎn)過(guò)程中,光刻機(jī)是關(guān)鍵設(shè)備,而光刻則是必不可少的核心環(huán)節(jié)。光刻技術(shù)的精度水平?jīng)Q定了芯片的性能強(qiáng)弱,也代表了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的完善程度。我們國(guó)內(nèi)一直希...
光刻技術(shù)的發(fā)展現(xiàn)狀、趨勢(shì)及挑戰(zhàn)分析
近兩年來(lái),芯片制造成為了半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的焦點(diǎn)。芯片制造離不開(kāi)光刻機(jī),而光刻技術(shù)則是光刻機(jī)發(fā)展的重要推動(dòng)力。在過(guò)去數(shù)十載的發(fā)展中,光刻技術(shù)也衍生了多個(gè)分支...
在集成電路的制造過(guò)程中,有一個(gè)重要的環(huán)節(jié)光刻,正因?yàn)橛辛怂?,我們才能在微小的芯片上?shí)現(xiàn)功能。 根據(jù)維基百科的定義,光刻是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步...
光刻設(shè)備廠商芯碁微裝科創(chuàng)板IPO過(guò)會(huì)
文|James 集微網(wǎng)消息,10月27日,據(jù)上交所發(fā)布科創(chuàng)板上市委2020年第93次審議會(huì)議結(jié)果顯示,合肥芯碁微電子裝備股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng)芯碁微裝)...
在我們今天看來(lái),晶體管發(fā)明以后,集成電路的出現(xiàn)一直到今天超大規(guī)模集成電路的出現(xiàn),似乎是一件水到渠成的事情。但是如果回到半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)初興的歷史現(xiàn)場(chǎng),我們就會(huì)...
全球首臺(tái)!蘇大維格光刻設(shè)備投入運(yùn)行;臺(tái)積電上半年專(zhuān)利申請(qǐng)數(shù)量375件奪冠…
7月28日,中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)有關(guān)單位公布統(tǒng)計(jì)指出,受到疫情影響,今年上半年中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)專(zhuān)利申請(qǐng)件數(shù)為33,954件,與去年同期相比下降4%;發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)人中...
上海博康光刻設(shè)備及光刻材料項(xiàng)目投資13億落戶高陵
(綜合自瀟湘晨報(bào) 西安網(wǎng) 財(cái)聯(lián)社)日前,總投資13億元的上海博康項(xiàng)目正式簽約落戶高陵,標(biāo)志著該區(qū)引進(jìn)國(guó)家戰(zhàn)略新興產(chǎn)業(yè)、推動(dòng)高質(zhì)量發(fā)展取得新突破。記者了解...
ASML表示設(shè)備訂單依然強(qiáng)勁 需求前景暫沒(méi)有變化
由于擔(dān)心新型冠狀病毒疫情帶來(lái)的不確定性,三星和臺(tái)積電的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商ASML宣布撤回2020年第二季度的業(yè)績(jī)預(yù)期。不過(guò),這家生產(chǎn)極紫外線(EUV)光刻...
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