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標(biāo)簽 > 半導(dǎo)體制造

半導(dǎo)體制造

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半導(dǎo)體制造,是用于制造半導(dǎo)體器件的過程,通常是日常電氣和電子設(shè)備中使用的集成電路(IC)芯片中使用的金屬-氧化物-半導(dǎo)體(MOS)器件。

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半導(dǎo)體制造技術(shù)

光刻工藝流程示意圖:半導(dǎo)體制造的核心環(huán)節(jié)

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光刻材料一般特指光刻膠,又稱為光刻抗蝕劑,是光刻技術(shù)中的最關(guān)鍵的功能材料。這類材料具有光(包括可見光、紫外光、電子束等)反應(yīng)特性,經(jīng)過光化學(xué)反應(yīng)后,其溶...

2024-03-31 標(biāo)簽:集成電路光刻技術(shù)半導(dǎo)體制造 4778 0

半導(dǎo)體制造在patterning的挑戰(zhàn) OPC模型的基本原理

在半導(dǎo)體制造,是一個(gè)不斷向前快速發(fā)展推進(jìn)的領(lǐng)域。我們通常聽到的從14nm技術(shù)到7 nm技術(shù)指的就是的工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)的進(jìn)步。

2022-11-25 標(biāo)簽:OPC半導(dǎo)體制造 4759 0

一文讀懂NRAM技術(shù) NRAM原理大揭秘

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一種名為NRAM的新技術(shù)或可取代現(xiàn)有的NAND閃存,為固態(tài)硬盤帶來近乎無限的使用壽命。

2021-01-12 標(biāo)簽:RFID存儲(chǔ)技術(shù)化學(xué)傳感器 4755 0

先進(jìn)制程中晶圓清洗工藝技術(shù)解析

清洗質(zhì)量的好壞將直接影響到器件的成品率、性能和可靠性,國(guó)內(nèi)外各大公司、研究機(jī)構(gòu)等對(duì)清洗工藝的研究從未停止,但一些特殊問題仍未得到徹底解決。

2022-12-08 標(biāo)簽:晶圓半導(dǎo)體制造 4544 0

半導(dǎo)體的制造工序介紹 干法刻蝕設(shè)備溫度控制原理

清洗硅晶片,在其上形成諸如金屬或絕緣膜的薄膜,并且通過光刻形成用于電路圖案的抗蝕劑掩模。然后,通過干法蝕刻進(jìn)行實(shí)際加工,去除并清洗不需要的抗蝕劑,并檢查...

2023-01-05 標(biāo)簽:冷水機(jī)半導(dǎo)體制造自動(dòng)駕駛 4278 0

揭秘半導(dǎo)體制造全流程(下篇)

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在今天的推文中,我們將繼續(xù)介紹最后三個(gè)步驟:互連、測(cè)試和封裝,以完成半導(dǎo)體芯片的制造。

2022-08-01 標(biāo)簽:晶圓半導(dǎo)體制造刻蝕 4246 0

伯努利吸盤的應(yīng)用場(chǎng)景、原理及優(yōu)勢(shì)

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伯努利吸盤是一種基于伯努利原理而工作的非接觸式吸盤。伯努利原理是流體動(dòng)力學(xué)中的一個(gè)基本概念,由18世紀(jì)的瑞士科學(xué)家丹尼爾·伯努利提出。伯努利原理指出,在...

2023-12-27 標(biāo)簽:晶圓砷化鎵半導(dǎo)體制造 4150 0

半導(dǎo)體封裝的基本定義和內(nèi)涵 電子封裝的工程的六個(gè)階段

半導(dǎo)體器件制作工藝分為前道和后道工序,晶圓制造和測(cè)試被稱為前道(Front End)工序,而芯片的封裝、測(cè)試及成品入庫(kù)則被稱為后道(Back End)工...

2022-12-21 標(biāo)簽:半導(dǎo)體制造半導(dǎo)體工藝 4015 0

磷化氫在半導(dǎo)體工藝中的用途

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PH? 是常用的n型摻雜氣體。什么是n型摻雜?硅是四價(jià)元素,每個(gè)硅原子與四個(gè)鄰近的硅原子共享電子形成共價(jià)鍵。當(dāng)將五價(jià)的磷引入到硅晶體中時(shí),其中一個(gè)價(jià)電子...

2023-09-18 標(biāo)簽:晶體芯片制造半導(dǎo)體制造 3826 0

高K金屬柵極的結(jié)構(gòu)、材料、優(yōu)勢(shì)以及工藝流程

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本文簡(jiǎn)單介紹了高K金屬柵極的結(jié)構(gòu)、材料、優(yōu)勢(shì)以及工藝流程。 ? High-K Metal Gate(HKMG)技術(shù)是現(xiàn)代半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵技術(shù)之一,廣泛...

2024-11-25 標(biāo)簽:HKMG半導(dǎo)體制造金屬柵極 3531 0

半導(dǎo)體制造工藝中的主要設(shè)備及材料【三】

設(shè)備功能:將兩片晶圓互相結(jié)合,并使表面原子互相反應(yīng),產(chǎn)生共價(jià)鍵合,合二為一,是實(shí)現(xiàn)3D晶圓堆疊的重要設(shè)備。

2023-02-07 標(biāo)簽:晶圓半導(dǎo)體制造 3417 0

化學(xué)機(jī)械研磨(cmp)工藝操作的基本介紹

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在芯片制造中,單純的物理研磨是不行的。因?yàn)閱渭兊奈锢硌心?huì)引入顯著的機(jī)械損傷,如劃痕和位錯(cuò),且無法達(dá)到所需的平整度,因此不適用于芯片制造。

2023-11-29 標(biāo)簽:集成電路控制系統(tǒng)芯片制造 3350 0

半導(dǎo)體制造黃光微影制程(相片蝕刻制程)說明

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目前最先進(jìn)的黃光微影制程中,使用ArF準(zhǔn)分子雷射(λ=193nm)作為光源。nm為nano-meter,代表10的負(fù)九次方。

2024-04-10 標(biāo)簽:電路圖晶圓半導(dǎo)體制造 3118 0

半導(dǎo)體真空腔體:精密工藝鑄就科技基石

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在當(dāng)今科技日新月異的時(shí)代,半導(dǎo)體行業(yè)作為信息技術(shù)的基石,其重要性不言而喻。隨著人工智能、物聯(lián)網(wǎng)、5G通信等新興技術(shù)的快速發(fā)展,對(duì)半導(dǎo)體芯片的性能、穩(wěn)定性...

2024-07-24 標(biāo)簽:半導(dǎo)體精密半導(dǎo)體制造 3099 0

Chiplet與SoC、SiP的比較

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半導(dǎo)體封裝是半導(dǎo)體制造工藝的后道工序,是指將通過測(cè)試的晶圓加工得到獨(dú)立芯片的過程,即將制作好的半導(dǎo)體器件放入具有支持、保護(hù)的塑料、陶瓷或金屬外殼中,并與...

2023-09-29 標(biāo)簽:SiP芯片設(shè)計(jì)CSP 3083 0

深入探索晶圓缺陷:科學(xué)分類與針對(duì)性解決方案

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隨著半導(dǎo)體技術(shù)的飛速發(fā)展,晶圓作為半導(dǎo)體制造的基礎(chǔ)材料,其質(zhì)量對(duì)最終芯片的性能和可靠性至關(guān)重要。然而,在晶圓制造過程中,由于多種因素的影響,晶圓表面和內(nèi)...

2024-10-17 標(biāo)簽:芯片晶圓半導(dǎo)體制造 2981 0

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更高集成度和更強(qiáng)大的半導(dǎo)體制造工藝的總體趨勢(shì)使設(shè)備制造商能夠開發(fā)單芯片解決方案以進(jìn)行離線功率轉(zhuǎn)換。

2021-02-11 標(biāo)簽:直流電源半導(dǎo)體制造電氣隔離器 2939 0

芯片良率相關(guān)知識(shí)點(diǎn)詳解

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芯片良率(或成品率)是指在芯片制造過程中,從一片晶圓上生產(chǎn)出的芯片中,能正常工作的比例,即合格芯片數(shù)量與總芯片數(shù)量的比率。良率的高低反映了生產(chǎn)工藝的成熟...

2024-12-30 標(biāo)簽:芯片半導(dǎo)體制造 2903 0

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電子束技術(shù)在半導(dǎo)體制造行業(yè)一直是重要的應(yīng)用技術(shù)。本文就電子束技術(shù)作一個(gè)簡(jiǎn)單的圖文介紹。

2024-04-30 標(biāo)簽:光刻電子束半導(dǎo)體制造 2737 0

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傳統(tǒng)驅(qū)動(dòng)過程的問題在于它只允許噴射稀薄的墨水,然后由于它們的高流體含量而被壓平在基材上。驅(qū)動(dòng)的液滴不小于噴射它們的噴嘴的尺寸。這種傳統(tǒng)的推動(dòng)概念在物理上...

2022-05-09 標(biāo)簽:半導(dǎo)體制造3D打印 2713 0

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    羅德與施瓦茨
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線性穩(wěn)壓器 LDO 開關(guān)穩(wěn)壓器 DC/DC 降壓轉(zhuǎn)換器 電源模塊 MOSFET IGBT
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