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標(biāo)簽 > 濕法
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半導(dǎo)體濕法清洗工藝?? 隨著半導(dǎo)體器件尺寸的不斷縮小和精度要求的不斷提高,晶圓清洗工藝的技術(shù)要求也日益嚴苛。晶圓表面任何微小的顆粒、有機物、金屬離子或氧...
2025-02-20 標(biāo)簽:濕法半導(dǎo)體制造 1444 0
磷酸鐵鋰干法與濕法混料技術(shù)比較分析 磷酸鐵鋰的混料方式主要有兩種: (1)干法混料,將各種物料
濕法刻蝕是一種在半導(dǎo)體制造過程中常用的技術(shù),用于通過化學(xué)反應(yīng)溶解或腐蝕材料表面,以形成所需的紋理或結(jié)構(gòu)。 以下是濕法刻蝕的詳細工藝原理: 準備工作 在進...
至純科技:下半年訂單飆升,濕法設(shè)備市場領(lǐng)跑
至純科技旗下的至微科技是國內(nèi)濕法設(shè)備市場主流供應(yīng)商之一,在28納米節(jié)點實現(xiàn)了全覆蓋,全工藝機臺亦均有訂單。在更為尖端的制程中,至微科技已有部分工藝獲得訂單。
華海清科:12英寸超精密晶圓減薄機Versatile-GP300已獲得小批量訂單
在北京亦莊項目建設(shè)方面,華海清科據(jù)公司的子公司華海清科北京在北京經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)實行“華海清科集成電路高端裝備研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項目,用于公司開展化學(xué)機械拋光設(shè)...
大家知道芯片是一個要求極其嚴格的東西,為此我們生產(chǎn)中想盡辦法想要讓它減少污染,更加徹底去除污染物。那么,今天來說說,大家知道芯片濕法刻蝕殘留物到底用什么...
來源:《半導(dǎo)體芯科技》雜志 綠色目標(biāo)。黃色解決方案。 憑借二十年在批量噴涂及其硬件方面的經(jīng)驗,Siconnex已成長為可持續(xù)濕法工藝設(shè)備的領(lǐng)先供應(yīng)商???..
提高濕法刻蝕的選擇比,是半導(dǎo)體制造過程中優(yōu)化工藝、提升產(chǎn)品性能的關(guān)鍵步驟。選擇比指的是在刻蝕過程中,目標(biāo)材料與非目標(biāo)材料的刻蝕速率之比。一個高的選擇比意...
芯片濕法刻蝕方法主要包括各向同性刻蝕和各向異性刻蝕。為了讓大家更好了解這兩種方法,我們下面準備了詳細的介紹,大家可以一起來看看。 各向同性刻蝕 定義:各...
芯片濕法蝕刻工藝是一種在半導(dǎo)體制造中使用的關(guān)鍵技術(shù),主要用于通過化學(xué)溶液去除硅片上不需要的材料。 基本概念 濕法蝕刻是一種將硅片浸入特定的化學(xué)溶液中以去...
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