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標簽 > asml
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7月17日,蔚來汽車宣布其在挪威首都奧斯陸成功設立了第50座換電站,這一里程碑事件標志著蔚來在歐洲的充換電網絡布局邁入了全新的發(fā)展階段。
近日,全球光刻機巨頭ASML的首席執(zhí)行官Christophe Fouquet在接受外媒采訪時,發(fā)表了一系列引人深思的言論。他指出,盡管由于復雜的地緣政治...
7月4日,荷蘭權威媒體NOS發(fā)布消息稱,由多家領先半導體企業(yè)組成的利益聯盟ChipNL,已正式致函由首相迪克·斯霍夫執(zhí)掌的新一屆荷蘭政府,強烈呼吁加大對...
ASML、恩智浦等半導體企業(yè)尋求荷蘭新一屆內閣強化芯片投資;歌爾股份撤訴,與敏芯股份5年專利拉鋸戰(zhàn)落幕
? 傳感新品 【南京郵電大學:高靈敏度和高線性度的可拉伸應變傳感器的分層結構設計】 對柔性電子設備日益增長的需求使得開發(fā)具有高靈敏度和高線性度的傳感器更...
荷蘭半導體產業(yè)再啟新篇章:ChipNL呼吁政府加大投資力度
在7月4日這一天,荷蘭半導體行業(yè)迎來了一個重大轉折點。由荷蘭半導體行業(yè)的領軍者組成的利益集團ChipNL,正式向新任首相迪克·斯霍夫領導的新一屆荷蘭內閣...
ASML擬于2030年推出Hyper-NA EUV光刻機,將芯片密度限制再縮小
ASML再度宣布新光刻機計劃。據報道,ASML預計2030年推出的Hyper-NA極紫外光機(EUV),將縮小最高電晶體密度芯片的設計限制。 ASML前...
電子發(fā)燒友網報道(文/周凱揚)隨著去年年底首臺高NA EUV光刻系統(tǒng)正式交貨給英特爾,ASML這條新的產品線似乎即將開啟新一輪的先進晶圓制造設備統(tǒng)治。可...
2024-06-18 標簽:光刻機ASML光刻系統(tǒng) 2827 0
當地時間6月11日,光刻機巨頭ASML在 領英 平臺發(fā)文悼念公司創(chuàng)始人之一Wim Troost(維姆·特羅斯)離世。 據百能云芯電.子元器.件商.城了解...
2024-06-14 標簽:ASML 1166 0
光刻巨人去世 阿斯麥(ASML)光刻機巨頭聯合創(chuàng)始人去世
圈內突發(fā)噩耗,光刻巨人去世; 阿斯麥(ASML)光刻機巨頭聯合創(chuàng)始人維姆?特羅斯特去世。 據外媒報道,在當地時間11日晚,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML...
來源:EETOP,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 從ASML社交帳號得知,ASML創(chuàng)始人之一維姆·特羅斯(Wim Troost) 離世。 ASML 在...
2024-06-13 標簽:ASML 502 0
阿斯麥(ASML)與比利時微電子(IMEC)聯合打造的High-NA EUV光刻實驗室正式啟用
近日,全球領先的半導體制造設備供應商阿斯麥(ASML)與比利時微電子研究中心(IMEC)共同宣布,位于荷蘭費爾德霍芬的High-NAEUV光刻實驗室正式...
今日看點丨ASML今年將向臺積電、三星和英特爾交付High-NA EUV;理想 L9 出事故司機質疑 LCC,產品經理回應
1. ASML 今年將向臺積電、三星和英特爾交付High-NA EUV ? 根據報道,芯片制造設備商ASML今年將向臺積電、英特爾、三星交付最新的高數值...
近日,比利時微電子研究中心(IMEC)與全球光刻技術領軍企業(yè)阿斯麥(ASML)共同宣布,在荷蘭費爾德霍芬正式啟用聯合High-NA EUV光刻實驗室。
ASML創(chuàng)下新的EUV芯片制造密度記錄,提出Hyper-NA的激進方案
ASML在imec的ITF World 2024大會上宣布,其首臺High-NA(高數值孔徑)設備已經打破了之前創(chuàng)下的記錄,再次刷新了芯片制造密度的標準。
臺積電魏哲家與ASML高層會面,是否有意購買高數值孔徑極紫外光機臺?
此前,該公司首席執(zhí)行官魏哲家曾明確表示,過早引入High-NA EUV并無太大經濟效益,直到日前其秘密訪問ASML總部,使市場猜測臺積電是否因此事發(fā)生重大轉變。
臺積電轉變態(tài)度?秘密訪問ASML總部引發(fā)行業(yè)關注
宿敵英特爾則積極投身于新興高數值孔徑超紫外光刻領域,已有數臺設備投入其芯片制造部門使用。據透露,英特爾正計劃在即將推出的18A(1.8納米)工藝節(jié)點中試...
Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意,未采用高NA EUV光刻機
在全球四大先進制程代工巨頭(包括臺積電、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機進行大規(guī)模生產。
來源:國芯網,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 5月22日消息,據外媒報道,臺積電從ASML購買的EUV極紫外光刻機,暗藏后門,可以在必要的時候執(zhí)行遠程...
ASML聯手荷蘭埃因霍溫理工大學投入1.8億歐元研發(fā)半導體技術
自成立以來,ASML一直在尋求新的發(fā)展機會,并不斷審視荷蘭埃因霍溫總部的人才資源及基礎設施是否能滿足其擴張需求。因此,ASML與埃因霍溫理工大學的合作不...
范登布林克指出,更高的數值孔徑能提高光刻分辨率。他進一步解釋說,Hyper NA 光刻機將簡化先進制程生產流程,避免因使用 High NA 光刻機進行雙...
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