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標(biāo)簽 > HEMT
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氮化鎵高電子遷移率晶體管GaN HEMT(High Electron Mobility Transistors)作為寬禁帶(WBG)功率半導(dǎo)體器件的代表...
關(guān)態(tài)漏電是制約HEMT器件性能提升的重要因素之一,采用絕緣柵HEMT器件結(jié)構(gòu)可以有效減小器件關(guān)態(tài)漏電。圖1給出了S-HEMT、MIS-HEMT、MOS-...
已經(jīng)為基于 GaN 的高電子遷移率晶體管 (HEMT)的增強(qiáng)模式開發(fā)了兩種不同的結(jié)構(gòu)。這兩種模式是金屬-絕緣體-半導(dǎo)體 (MIS) 結(jié)構(gòu),2具有由電壓驅(qū)...
絕緣柵和肖特基柵HEMT器件結(jié)構(gòu)如圖1所示, AlGaN/GaN異質(zhì)結(jié)采用MOCVD技術(shù)在2英寸c面藍(lán)寶石襯底上外延得到,由下往上依次為180nm高溫A...
AIN/AIGaN/GaN MIS異質(zhì)結(jié)構(gòu)C-V分析
C-V測(cè)試是研究絕緣柵HEMT器件性能的重要方法,采用Keithley 4200半導(dǎo)體表征系統(tǒng)的CVU模塊測(cè)量了肖特基柵和絕緣柵異質(zhì)結(jié)構(gòu)的C-V特性。
由于GaN和AlGaN材料中擁有較強(qiáng)的極化效應(yīng),AlGaN/GaN異質(zhì)結(jié)無需進(jìn)行調(diào)制摻雜就能在界面處形成高濃度的二維電子氣(2DEG),在此基礎(chǔ)上發(fā)展而...
Al2O3/AIN/AIGaN/GaN MIS-HEMT器件結(jié)構(gòu)與特性
通過AlN柵介質(zhì)層MIS-HEMT和Al2O3柵介質(zhì)層MOS-HEMT器件對(duì)比研究發(fā)現(xiàn),PEALD沉積AlN柵絕緣層可以大幅改善絕緣柵器件的界面和溝道輸...
TP65H035G4WS場(chǎng)效應(yīng)管英文手冊(cè)立即下載
類別:IC datasheet pdf 2022-03-31 標(biāo)簽:場(chǎng)效應(yīng)管HEMT 980 0
使用ADS系統(tǒng)設(shè)計(jì)35GHz HEMT壓控振蕩器立即下載
類別:模擬數(shù)字論文 2010-05-17 標(biāo)簽:ADSHEMT 971 0
CG2H80015D氮化鎵(GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)規(guī)格書立即下載
類別:IC datasheet pdf 2024-09-04 標(biāo)簽:晶體管氮化鎵HEMT 563 0
QPD1026L采用SiC HEMT的1300W(PsdB)分立GaN器件管英文手冊(cè)立即下載
類別:IC datasheet pdf 2024-07-31 標(biāo)簽:GaNHEMT 155 0
HEMT(High Electron Mobility Transistor),高電子遷移率晶體管。這是一種異質(zhì)結(jié)場(chǎng)效應(yīng)晶體管,又稱為調(diào)制摻雜場(chǎng)效應(yīng)晶體...
GaN HEMT正加速成為儲(chǔ)能市場(chǎng)主流
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)氮化鎵高電子遷移率晶體管(GaN HEMT)作為新一代的半導(dǎo)體材料,因其禁帶寬度大、臨界擊穿電場(chǎng)高、飽和電子漂移速度高等特...
首款面向衛(wèi)星通信應(yīng)用的GaN HEMT MMIC高功率放大器(HPA)
科銳公司日前在巴爾的摩舉行的 2011 年 IEEE 國際微波研討會(huì)上展出業(yè)界首款面向衛(wèi)星通信應(yīng)用的 GaN HEMT MMIC 高功率放大器 (HPA)
射頻GaN需求飆升,專利申請(qǐng)戰(zhàn)全面啟動(dòng)
RF GaN已被工業(yè)公司認(rèn)可并成為主流。從知識(shí)產(chǎn)權(quán)的角度來看,美國和日本主導(dǎo)著整個(gè)RF GaN知識(shí)產(chǎn)權(quán)系統(tǒng)。
新的GaN技術(shù)簡(jiǎn)化了驅(qū)動(dòng)基于GaN的HEMT
雖然乍一看似乎比較簡(jiǎn)單,但這些器件的柵極驅(qū)動(dòng)器電路需要仔細(xì)設(shè)計(jì)。首先,通常關(guān)閉的基于 GaN 的 HEMT 需要負(fù)電壓來將其關(guān)閉并將其保持在關(guān)閉狀態(tài),從...
已經(jīng)為基于 GaN 的高電子遷移率晶體管(HEMT)的增強(qiáng)模式開發(fā)了兩種不同的結(jié)構(gòu)。這兩種模式是金屬-絕緣體-半導(dǎo)體 (MIS) 結(jié)構(gòu),2具有由電壓驅(qū)動(dòng)...
下一代GaN功率IC可以共同集成肖特基二極管和耗盡型HEMT
納米電子和數(shù)字技術(shù)研究與創(chuàng)新中心 Imec 在 2021 年國際電子器件會(huì)議(IEEE IEDM 2021)上展示了其最新研究成果。通過在基于 p 型氮...
當(dāng)硅和寬禁帶器件(如碳化硅和垂直 GaN)的溫度下降時(shí),會(huì)出現(xiàn)兩個(gè)重要現(xiàn)象,如文章中所述:載流子遷移率隨著高性能參數(shù)電子-聲子相互作用的降低而上升。此外...
GaN HEMT為什么不能做成低壓器件? GaN HEMT(氮化鎵高電子遷移率晶體管)是一種迅速嶄露頭角的高頻功率器件,具有很高的電子遷移率、大的電子飽...
利用 HEMT 和 PHEMT 改善無線通信電路中的增益、速度和噪聲
利用 HEMT 和 PHEMT 改善無線通信電路中的增益、速度和噪聲
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