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標(biāo)簽 > pvd
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蒸發(fā)鍍膜,是將膜料加熱蒸發(fā)為氣相后沉積到襯底表面,此種成膜方式?jīng)Q定了蒸發(fā)出的粒子能量只能在 0.1-0.3ev,原子動能太低,填充密度太低。
OPPO在新機(jī)的漸變色上推陳出新,漸變色怎么做出來的?
那么漸變色是怎么做出來的呢?PVD是英文Physical Vapor Deposition(物理氣相沉積)的縮寫,是指在真空條件下,采用低電壓、大電流的...
STM32內(nèi)部自帶PVD功能,用于對MCU供電電壓VDD進(jìn)行監(jiān)控。通過電源控制寄存器中的PLS[2:0]位可以用來設(shè)定監(jiān)控電壓的閥值,通過對外部電壓進(jìn)行...
2018-12-26 標(biāo)簽:pvdstm32單片機(jī) 1.3萬 0
手機(jī)外殼材料的變化,推動納米注塑技術(shù)的發(fā)展
第二部手機(jī)大家都很熟悉,前面在久久精工的演講里也說過,應(yīng)該是在此之前屏占比最高的一款手機(jī)——essential PHONE,這款手機(jī)也是用DSM的For...
TSV 是目前半導(dǎo)體制造業(yè)中最為先進(jìn)的技術(shù)之一,已經(jīng)應(yīng)用于很多產(chǎn)品生產(chǎn)。實(shí)現(xiàn)其制程的關(guān)鍵設(shè)備選擇與工藝選擇息息相關(guān), 在某種程度上直接決定了 TSV 的...
濕法刻蝕利用化學(xué)溶液溶解晶圓表面的材料,達(dá)到制作器件和電路的要求。濕法刻蝕化學(xué)反應(yīng)的生成物是氣體、液體或可溶于刻蝕劑的固體。
濺射鍍膜(Vacuum Sputtering)基本原理是充氬(Ar)氣的真空條件下,使氬氣進(jìn)行輝光放電,這時氬(Ar)原子電離成氬離子(Ar+),氬離子...
純化學(xué)刻蝕、純物理刻蝕及反應(yīng)式離子刻蝕介紹
刻蝕有三種:純化學(xué)刻蝕、純物理刻蝕,以及介于兩者之間的反應(yīng)式離子刻蝕(ReactiveIonEtch,RIE)。
2023-02-20 標(biāo)簽:PVD反應(yīng)離子刻蝕 4653 0
PVD篇 PVD是通過濺射或蒸發(fā)靶材材料來產(chǎn)生金屬蒸汽,然后將金屬蒸汽冷凝在晶圓表面上的過程。應(yīng)用材料公司在 PVD 技術(shù)開發(fā)方面擁有 25 年以上的豐...
隨著第三代SiC基功率模塊器件的功率密度和工作溫度不斷升高,器件對于封裝基板的散熱能力和可靠性也提出了更高的要求。
CMF是Color-Material-Finishing?的縮寫,也就是顏色、材料、表面處理的概括。即Color、Material?、Finish三者的...
與傳統(tǒng)濺射或熱蒸發(fā)技術(shù)相比,離子束輔助沉積有哪些優(yōu)勢?
離子束輔助沉積 (IBAD) 是一種薄膜沉積技術(shù),可與濺射或熱蒸發(fā)工藝一起使用,以獲得具有出色工藝控制和精度的最高質(zhì)量薄膜。
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