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終端用戶通過TDDB和HTGB反制劣幣碳化硅MOSFET供應(yīng)商的做賊心虛

楊茜 ? 來源:jf_33411244 ? 作者:jf_33411244 ? 2025-04-10 08:25 ? 次閱讀
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針對(duì)部分國(guó)產(chǎn)碳化硅MOSFET廠商的閉口不談的柵氧可靠性隱患,終端用戶可通過TDDB(時(shí)變介質(zhì)擊穿)HTGB(高溫柵極偏壓)實(shí)驗(yàn)方法進(jìn)行檢驗(yàn),反制劣幣碳化硅MOSFET供應(yīng)商的做賊心虛,結(jié)合其他可靠性測(cè)試手段,篩選出符合要求的器件。小女子業(yè)務(wù)微信&手機(jī):132 6666 3313,歡迎一起交流,以下是具體檢驗(yàn)方法與策略:

一、TDDB測(cè)試:柵氧壽命評(píng)估的核心手段

測(cè)試原理與目的

TDDB測(cè)試通過施加高于額定值的電場(chǎng)應(yīng)力(如30-36V),加速柵氧化層的退化過程,預(yù)測(cè)其在正常工作條件下的壽命。

柵氧層在長(zhǎng)期電場(chǎng)下可能因陷阱電荷積累或局部電場(chǎng)集中導(dǎo)致?lián)舸?,TDDB可暴露此類缺陷。

測(cè)試步驟與關(guān)鍵參數(shù)

加速老化:在高溫(如150°C)下施加高電場(chǎng)(如10MV/cm),記錄擊穿時(shí)間,并通過阿倫尼烏斯模型推算壽命。

數(shù)據(jù)驗(yàn)證:要求供應(yīng)商提供擊穿場(chǎng)強(qiáng)(如接近10MV/cm)和壽命模型,并自主抽樣復(fù)測(cè)以驗(yàn)證數(shù)據(jù)真實(shí)性。

用戶策略

重點(diǎn)關(guān)注擊穿場(chǎng)強(qiáng)分布韋伯分布參數(shù)(如β值),判斷工藝一致性。

若供應(yīng)商僅提供單點(diǎn)測(cè)試數(shù)據(jù),需要求補(bǔ)充多批次、多電壓下的TDDB結(jié)果,避免數(shù)據(jù)片面性。

二、HTGB測(cè)試:高溫偏壓下柵氧穩(wěn)定性檢驗(yàn)

測(cè)試原理與目的

HTGB模擬器件在高溫175°C下長(zhǎng)期承受柵極偏壓如+22V或-10V的工況,監(jiān)測(cè)閾值電壓(Vth)漂移和漏電流變化,評(píng)估柵氧層與界面態(tài)的穩(wěn)定性。

正偏壓加速電子注入,負(fù)偏壓加速空穴注入,分別對(duì)應(yīng)Vth的正向或負(fù)向漂移。

測(cè)試條件與流程

標(biāo)準(zhǔn)條件:溫度175°C、偏壓+22V(SiC MOSFET典型值)、持續(xù)2000小時(shí)。

關(guān)鍵步驟

初始參數(shù)記錄(Vth、IGSS、RDS(on));

持續(xù)監(jiān)測(cè)漏電流,定期(如24小時(shí))復(fù)測(cè)參數(shù)漂移;

判定失效標(biāo)準(zhǔn):Vth偏移>10%或漏電流超標(biāo)。

用戶策略

要求供應(yīng)商提供3個(gè)批次零失效的測(cè)試報(bào)告(每批次77個(gè)器件),符合AEC-Q101標(biāo)準(zhǔn)。

結(jié)合動(dòng)態(tài)參數(shù)變化(如Vth漂移曲線)評(píng)估退化趨勢(shì),避免僅依賴最終數(shù)據(jù)。

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三、其他輔助測(cè)試與驗(yàn)證策略

第三方實(shí)驗(yàn)室復(fù)測(cè)

對(duì)抽樣器件委托獨(dú)立實(shí)驗(yàn)室復(fù)測(cè)TDDB和HTGB,重點(diǎn)驗(yàn)證擊穿時(shí)間、Vth漂移等關(guān)鍵參數(shù),防止供應(yīng)商數(shù)據(jù)造假。

應(yīng)用場(chǎng)景模擬測(cè)試

搭建實(shí)際電路(如高頻開關(guān)電路),在負(fù)載下長(zhǎng)期運(yùn)行并監(jiān)測(cè)參數(shù)變化(如RDS(on)增加、開關(guān)損耗上升),暴露潛在失效模式。

供應(yīng)鏈工藝審核

核查供應(yīng)商的柵氧生長(zhǎng)工藝(如均勻性控制)和鈍化層技術(shù)。

四、總結(jié)

通過TDDB和HTGB測(cè)試,終端用戶可系統(tǒng)評(píng)估國(guó)產(chǎn)碳化硅MOSFET的柵氧可靠性。核心策略包括:

數(shù)據(jù)驗(yàn)證:要求供應(yīng)商提供多批次測(cè)試報(bào)告,并抽樣復(fù)測(cè);

工藝審核:關(guān)注柵氧生長(zhǎng)與鈍化層技術(shù);

場(chǎng)景適配:根據(jù)應(yīng)用環(huán)境(高溫、高濕、高頻)選擇匹配的可靠性測(cè)試組合。
結(jié)合上述方法,可有效規(guī)避工藝缺陷風(fēng)險(xiǎn),確保器件長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行。

審核編輯 黃宇

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