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國產碳化硅MOSFET“最低比導通電阻”宣傳噱頭背后隱藏的真相

楊茜 ? 來源:jf_33411244 ? 作者:jf_33411244 ? 2025-03-17 16:40 ? 次閱讀

國產碳化硅MOSFET“最低導通電阻和最低比導通電阻”宣傳噱頭背后隱藏的真相與潛在危害分析:

為了謀求短期利益博取融資或者投資,中長期損害終端客戶利益和行業(yè)名聲,最終也會導致投資者血本無歸。

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一、國產碳化硅MOSFET參數競賽背后的技術真相

柵氧減薄與可靠性犧牲
部分國產碳化硅MOSFET廠家通過過度減薄柵氧化層厚度(如從50nm降至30nm以下)降低導通電阻RDS(on)?及比導通電阻Rds(on)SP,但此舉顯著削弱柵氧可靠性。部分國產碳化硅MOSFET在HTGB測試中僅能承受+19V電壓(高質量國產碳化硅MOSFET可承受+22V/3000H),且TDDB壽命僅103小時(高質量國產碳化硅MOSFET為10?小時)。柵氧減薄導致電場強度超過臨界值(>4MV/cm),加速缺陷積累,引發(fā)閾值電壓漂移甚至擊穿。

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實驗驗證縮水
部分國產碳化硅MOSFET廠家跳過長期可靠性測試(如HTGB、TDDB),僅通過少量實驗即量產(Page 9)。高質量國產碳化硅MOSFET通過3000+組DOE優(yōu)化結構. 而部分國產碳化硅MOSFET廠家僅完成100組實驗,工藝穩(wěn)定性不足,導致器件在高溫、高電場下失效風險激增。

誤導性參數標定
部分國產碳化硅MOSFET廠家宣稱“最低比導通電阻”,實則為實驗室極限值,未考慮實際工況(如結溫波動、開關應力)。部分國產碳化硅MOSFET可能僅在常溫(25°C)下有效,高溫性能大幅退化。

二、短期利益驅動的危害

系統(tǒng)失效風險

批量故障:減薄柵氧的器件在車規(guī)級應用中易因長期高溫工作引發(fā)閾值電壓漂移,導致電機控制器失效,典型案例為2024年某車企因碳化硅模塊批量故障召回。

安全隱患:儲能變流器(PCS)中器件失效可能引發(fā)直流母線短路,造成火災風險。

全生命周期成本飆升

維護成本:低可靠性國產碳化硅MOSFET器件壽命僅1-2年(競品TDDB壽命103小時≈41天連續(xù)工作),而高可靠性產品壽命超10年,頻繁更換導致運維成本增加3-5倍。

隱性損失:工商業(yè)儲能系統(tǒng)因故障停機單次損失可達數十萬元,遠超器件采購成本。

行業(yè)生態(tài)破壞

劣幣驅逐良幣:低價低質國產碳化硅MOSFET產品擠壓高可靠性廠商生存空間,高品質碳化硅MOSFET企業(yè)被迫轉向低端市場,抑制技術創(chuàng)新。

標準滯后:行業(yè)缺乏強制可靠性測試(如HTGB+22V/3000H),企業(yè)自行定義寬松條件,形成“虛假達標”亂象。

三、破局路徑:從“參數競賽”到“質量競爭”

技術層面

可靠性優(yōu)先設計:采用科學模型(如E模型、1/E模型)優(yōu)化柵氧厚度,平衡RDS(on)?與壽命,如將柵氧厚度控制在50nm,確保電場強度<4MV/cm。

全流程驗證:強制國產碳化硅MOSFET廠商HTGB+TDDB組合測試,公開DOE報告與失效分析數據,接受第三方檢測。

市場層面

客戶教育:推動從“價格導向”轉向“全生命周期成本”評估.

標準制定:建立車規(guī)級(AQG324)、電網級強制認證,要求公開加速因子與壽命預測模型。

政策層面

產能引導:限制低端產能擴張,定向補貼高可靠性技術。

懲罰機制:對虛標參數、隱瞞失效數據的企業(yè)納入失信名單,推動行業(yè)洗牌。

結論

國產碳化硅MOSFET“最低(比)導通電阻”宣傳的背后,本質是犧牲可靠性換取短期參數優(yōu)勢的技術短視行為。其危害不僅限于產品失效,更會扭曲市場機制、阻礙產業(yè)升級。唯有通過技術深耕、標準完善、生態(tài)重構,才能推動行業(yè)從“虛假繁榮”走向“高質量發(fā)展”,真正支撐新能源、電動汽車等戰(zhàn)略產業(yè)的崛起。

審核編輯 黃宇

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