5月7日，至純科技發(fā)布《公開(kāi)發(fā)行A股可轉(zhuǎn)換公司債券預(yù)案》，擬公開(kāi)發(fā)行總額不超過(guò)人民幣3.56億元的可轉(zhuǎn)換公司債券，募集資金投資建設(shè)半導(dǎo)體濕法設(shè)備制造項(xiàng)目和晶圓再生基地項(xiàng)目。

根據(jù)可行性分析報(bào)告，半導(dǎo)體濕法設(shè)備制造項(xiàng)目計(jì)劃投資總額1.8億元，擬投入募集資金金額1.2億元。該項(xiàng)目主要開(kāi)展批次式半導(dǎo)體濕法清洗設(shè)備和單片式半導(dǎo)體濕法清洗設(shè)備的生產(chǎn)制造，建設(shè)周期為2年，達(dá)產(chǎn)后將實(shí)現(xiàn)年產(chǎn)批次式半導(dǎo)體濕法清洗設(shè)備30臺(tái)，單片式半導(dǎo)體濕法清洗設(shè)備10臺(tái)的生產(chǎn)能力。

據(jù)介紹，濕法清洗是芯片制造過(guò)程中最頻繁的步驟，通過(guò)化學(xué)藥液或去離子水去除制造過(guò)程中的顆粒、自然氧化層、有機(jī)物、金屬污染、拋光殘留物等物質(zhì)。

晶圓再生基地項(xiàng)目計(jì)劃投資總額為3.2億元，擬投入募集資金金額2.36億元，建設(shè)內(nèi)容主要包括生產(chǎn)車(chē)間建設(shè)及設(shè)備購(gòu)置。該項(xiàng)目主要開(kāi)展再生晶圓的加工服務(wù)，建設(shè)周期為2年，達(dá)產(chǎn)后將實(shí)現(xiàn)年產(chǎn)12英寸硅再生晶圓168萬(wàn)片的產(chǎn)出能力。

晶圓再生是對(duì)晶圓制程所需測(cè)試片和擋控片進(jìn)行回收加工，使得晶圓能循環(huán)再利用。晶圓廠(chǎng)為縮減成本通常會(huì)將使用過(guò)的控片、擋片委托給開(kāi)展晶圓再生服務(wù)的外部公司進(jìn)行加工，實(shí)現(xiàn)其循環(huán)再利用。

資料顯示，至純科技長(zhǎng)期從事于提供高純工藝系統(tǒng)的整體解決方案，主要產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于泛半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。2015年，至純科技開(kāi)始濕法工藝設(shè)備的研發(fā)，并于2017年成立半導(dǎo)體濕法事業(yè)部，致力于打造高端濕法設(shè)備制造開(kāi)發(fā)平臺(tái)。

至純科技分析認(rèn)為，我國(guó)不斷新建并逐步投產(chǎn)的晶圓廠(chǎng)拉動(dòng)了對(duì)半導(dǎo)體清洗設(shè)備需求的強(qiáng)勁增長(zhǎng)，該市場(chǎng)規(guī)模存在著廣闊的發(fā)展空間；基于降低不必要的損耗以及減少運(yùn)輸在途時(shí)間考慮，晶圓廠(chǎng)通常優(yōu)先選擇本地供應(yīng)商，進(jìn)一步刺激了國(guó)內(nèi)晶圓再生市場(chǎng)的持續(xù)增長(zhǎng)，我國(guó)晶圓再生的市場(chǎng)規(guī)模亦較為可觀。

由于缺乏相關(guān)工藝技術(shù)，目前半導(dǎo)體濕法設(shè)備制造及晶圓再生的國(guó)產(chǎn)化率較低，產(chǎn)業(yè)替代市場(chǎng)空間廣闊。隨著國(guó)家對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的各項(xiàng)政策順利落地實(shí)施，越來(lái)越多資本將逐漸參與到半導(dǎo)體濕法設(shè)備制造及晶圓再生服務(wù)領(lǐng)域，彌補(bǔ)市場(chǎng)空缺。