一区二区三区三上|欧美在线视频五区|国产午夜无码在线观看视频|亚洲国产裸体网站|无码成年人影视|亚洲AV亚洲AV|成人开心激情五月|欧美性爱内射视频|超碰人人干人人上|一区二区无码三区亚洲人区久久精品

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

美系光刻膠是否能解救韓系半導(dǎo)體廠的危機(jī)?

旺材芯片 ? 來(lái)源:YXQ ? 2019-07-15 09:28 ? 次閱讀

近日,日本對(duì)韓國(guó)進(jìn)行出口限制,光刻膠材料赫然在列。據(jù)了解日本作為光刻膠材料大國(guó),占據(jù)了全球9成左右的光刻膠市場(chǎng)份額。而目前在高端芯片制造過(guò)程中KrF、ArF光源下使用的光刻膠也基本被美日企業(yè)所壟斷。此后,日本銷往韓國(guó)的光刻膠將有三個(gè)月的審核期,而韓國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)的材料庫(kù)存不夠三個(gè)月的使用量。在這期間,美系光刻膠產(chǎn)品能否解決韓國(guó)半導(dǎo)體廠商的燃眉之急?

投入研發(fā)短期內(nèi)難以出成果

韓媒3日?qǐng)?bào)道,韓國(guó)政府就日本限制對(duì)韓出口的應(yīng)對(duì)方案作出回應(yīng),將計(jì)劃每年投入1萬(wàn)億韓元(約合人民幣58.8億元),推進(jìn)對(duì)半導(dǎo)體材料、零部件和設(shè)備的研發(fā),正在對(duì)此進(jìn)行可行性調(diào)查。

不過(guò),光刻膠是國(guó)際上技術(shù)門檻最高的微電子化學(xué)品之一。其行業(yè)集中度高,龍頭企業(yè)市場(chǎng)份額高,行業(yè)利潤(rùn)水平高,且暫無(wú)潛在替代產(chǎn)品。又因?yàn)?,作為半?dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的上游產(chǎn)品部分,光刻膠產(chǎn)品的質(zhì)量直接影響下游芯片產(chǎn)品的質(zhì)量,因此下游行業(yè)企業(yè)對(duì)光刻膠產(chǎn)品的質(zhì)量和供貨能力十分重視,上下游的合作模式比較穩(wěn)固,新的供應(yīng)商較難加入供應(yīng)鏈。

另外,隨著半導(dǎo)體IC的集成度日漸提升,對(duì)光刻技術(shù)的精密性要求也不斷嚴(yán)格,半導(dǎo)體光刻膠也通過(guò)不斷縮短曝光波長(zhǎng)的方式來(lái)提高極限分辨率。據(jù)了解,光刻膠的曝光波長(zhǎng)由寬譜紫外向g線-i線-KrF-ArF-EUV(13.5nm)的方向移動(dòng)。當(dāng)前,半導(dǎo)體芯片市場(chǎng)對(duì)于g線和i線光刻膠使用量最大,KrF和ArF光刻膠技術(shù)被日本和美國(guó)企業(yè)壟斷,韓國(guó)和中國(guó)作為追趕者正在積極研發(fā)ArF193nm光刻膠技術(shù)。

美系光刻膠是否能解救韓系半導(dǎo)體廠的危機(jī)?

在全球光刻膠市場(chǎng),日本占有非常重要的位置。全球?qū)@植记笆墓?,?成是日本企業(yè)。其中,日本JSR和東京日化可量產(chǎn)市面上幾乎所有的光刻膠產(chǎn)品(EUV光源用光刻膠正在研發(fā)中),信越化工、富士電子、住友化工在當(dāng)下主流的半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域也有較突出的表現(xiàn)。

在韓國(guó),東進(jìn)化學(xué)、LG化學(xué)、錦湖化學(xué)、COTEM等也生產(chǎn)光刻膠材料,錦湖化學(xué)為SK海力士半導(dǎo)體供應(yīng)ArFDry產(chǎn)品以及部分ArF Immersion產(chǎn)品,東進(jìn)化學(xué)在半導(dǎo)體領(lǐng)域仍只供應(yīng)KrF以下等級(jí)部分產(chǎn)品。實(shí)際上,韓國(guó)本土光刻膠企業(yè)目前暫不具備量產(chǎn)KrF以上的光刻膠的能力。而韓國(guó)的半導(dǎo)體制造工廠的技術(shù)最高已經(jīng)達(dá)到7nm,三星電子和SK海力士均有ArF和EUV***設(shè)備。目前,在全球范圍內(nèi)能生產(chǎn)ArF光刻膠的企業(yè)主要以日美兩國(guó)企業(yè)為主,Euv光刻膠還在研發(fā)階段。如果日韓兩國(guó)的關(guān)系沒(méi)有及時(shí)得到修復(fù),庫(kù)存的材料用盡,新的材料又尚未走完審核流程的這段時(shí)間里,三星電子和SK海力士的一些產(chǎn)線將面臨停擺的風(fēng)險(xiǎn)。

日前,SK海力士發(fā)言人對(duì)媒體表示,如果兩國(guó)之間的問(wèn)題得不到妥善的解決,且不能追加半導(dǎo)體材料采購(gòu),未來(lái)或?qū)⒊霈F(xiàn)停產(chǎn)的情況。而在這個(gè)空缺期,美系光刻膠企業(yè)是否能成為韓系半導(dǎo)體廠商的“續(xù)命丹”?

美國(guó)陶氏化學(xué)具備量產(chǎn)市面上全線光刻膠產(chǎn)品的能力,韓國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)在被日本限制出口之后,它或?qū)⒊蔀樽罴堰x擇。不過(guò),與眾多日系光刻膠企業(yè)相比,陶氏化學(xué)的產(chǎn)能能否滿足韓國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)的需求,還是個(gè)問(wèn)題。

值得注意的是,韓國(guó)在日本宣布對(duì)其限制進(jìn)口之后才明確表示加大對(duì)半導(dǎo)體材料的研發(fā)力度,相信在韓方有所成績(jī)之前,該國(guó)的半導(dǎo)體廠商依舊需要購(gòu)買日方的材料。此前三星電子和SK海力士的光刻膠材料主要有日本企業(yè)供應(yīng),如果在這個(gè)節(jié)點(diǎn)轉(zhuǎn)向美系企業(yè)是否會(huì)順利?國(guó)際電子商情將持續(xù)關(guān)注。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    326

    瀏覽量

    30703
  • 陶氏電子
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    13

    瀏覽量

    9647

原文標(biāo)題:熱點(diǎn) | 美系光刻膠能否解決韓系半導(dǎo)體廠商的燃眉之急?

文章出處:【微信號(hào):wc_ysj,微信公眾號(hào):旺材芯片】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和
    的頭像 發(fā)表于 04-29 13:59 ?641次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性

    半導(dǎo)體材料介紹 | 光刻膠及生產(chǎn)工藝重點(diǎn)企業(yè)

    體。在光刻工藝過(guò)程中,用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料在表面加工時(shí),若采用適當(dāng)?shù)挠羞x擇性的光刻膠,可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負(fù)性兩大類
    的頭像 發(fā)表于 03-18 13:59 ?554次閱讀
    <b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>材料介紹 | <b class='flag-5'>光刻膠</b>及生產(chǎn)工藝重點(diǎn)企業(yè)

    光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料

    光刻膠半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料,在整個(gè)電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關(guān)鍵性能,增感劑有助于提高
    的頭像 發(fā)表于 12-19 13:57 ?697次閱讀

    光刻膠清洗去除方法

    光刻膠作為掩模進(jìn)行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時(shí)的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會(huì)導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
    的頭像 發(fā)表于 11-11 17:06 ?1309次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>清洗去除方法

    一文看懂光刻膠的堅(jiān)膜工藝及物理特性和常見(jiàn)光刻膠

    共讀好書關(guān)于常用光刻膠型號(hào)也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號(hào)資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識(shí)星球,領(lǐng)取公眾號(hào)資料
    的頭像 發(fā)表于 11-01 11:08 ?2016次閱讀

    光刻膠的使用過(guò)程與原理

    本文介紹了光刻膠的使用過(guò)程與原理。
    的頭像 發(fā)表于 10-31 15:59 ?1097次閱讀

    國(guó)產(chǎn)光刻膠通過(guò)半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證

    來(lái)源:太紫微公司 近日,光谷企業(yè)在半導(dǎo)體專用光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)重大突破:武漢太紫微光電科技有限公司(以下簡(jiǎn)稱“太紫微公司”)推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品,已通過(guò)半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證,實(shí)現(xiàn)配方全自主
    的頭像 發(fā)表于 10-17 13:22 ?506次閱讀
    國(guó)產(chǎn)<b class='flag-5'>光刻膠</b>通過(guò)<b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>工藝量產(chǎn)驗(yàn)證

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠

    在微流控PDMS芯片加工的過(guò)程中,需要使用烘臺(tái)或者烤設(shè)備對(duì)SU-8光刻膠或PDMS聚合物進(jìn)行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進(jìn)行2-3次。本文簡(jiǎn)要介紹SU-8
    的頭像 發(fā)表于 08-27 15:54 ?597次閱讀

    導(dǎo)致光刻膠變色的原因有哪些?

    存儲(chǔ)時(shí)間 正和圖形反轉(zhuǎn)在存儲(chǔ)數(shù)月后會(huì)變暗,而且隨著儲(chǔ)存溫度升高而加速。因?yàn)樵擃愋?b class='flag-5'>光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見(jiàn)光譜的部分具有很強(qiáng)的吸收能力,對(duì)紫外靈敏度沒(méi)有任何影響。這種變色過(guò)程
    的頭像 發(fā)表于 07-11 16:07 ?984次閱讀

    光刻膠涂覆工藝—旋涂

    為了確保光刻工藝的可重復(fù)性、可靠性和可接受性,必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠。光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中,是一種高粘度材料。根據(jù)工藝要求,有許多工藝可用于涂覆光刻膠。 旋涂是用
    的頭像 發(fā)表于 07-11 15:46 ?1416次閱讀

    光刻膠的硬烘烤技術(shù)

    根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽?duì)已顯影的光刻膠結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來(lái)實(shí)現(xiàn)整個(gè)光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),稱為硬烘烤或者堅(jiān)膜。或通過(guò)低劑量紫外線輻照
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:46 ?1524次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的硬烘烤技術(shù)

    光刻膠的一般特性介紹

    評(píng)價(jià)一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指標(biāo)。
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:43 ?1166次閱讀

    光刻膠后烘技術(shù)

    后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過(guò)程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說(shuō)還未閉合,PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進(jìn)行。前面的文章中我們?cè)?/div>
    的頭像 發(fā)表于 07-09 16:08 ?2143次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>后烘技術(shù)

    光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)工藝

    圖形反轉(zhuǎn)是比較常見(jiàn)的一種紫外光刻膠,它既可以當(dāng)正使用又可以作為負(fù)使用。相比而言,負(fù)工藝更被人們所熟知。本文重點(diǎn)介紹其負(fù)
    的頭像 發(fā)表于 07-09 16:06 ?1062次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的圖形反轉(zhuǎn)工藝

    光刻膠的保存和老化失效

    通常要考慮光刻膠是否過(guò)期失效了。接下來(lái)我們將介紹一下光刻膠保存和老化失效的基礎(chǔ)知識(shí)。 光刻膠的保存 光刻膠對(duì)光敏感,在光照或高溫條件下其性能
    的頭像 發(fā)表于 07-08 14:57 ?1804次閱讀