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      中科院半導體所

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      什么是溝道通孔？溝道通孔刻蝕需要考慮哪些方面？

      溝道通孔（Channel Hole）指的是從頂層到底層垂直于晶圓表面，穿過多層存儲單元的細長孔洞。
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-20 10:19 ?1996次閱讀
      什么是溝道通孔？溝道通孔刻蝕需要考慮哪些方面？

      探討三種超構(gòu)器件表面的加工方法

      超構(gòu)表面是近年來出現(xiàn)一種新型的光學器件，也被稱為超構(gòu)器件。
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-19 15:23 ?1522次閱讀
      探討三種超構(gòu)器件表面的加工方法

      MEMS工藝中快速退火的應用范圍和優(yōu)勢介紹

      在MEMS工藝中，常用的退火方法，如高溫爐管退火和快速熱退火（RTP）。RTP (Rapid The....
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-19 15:21 ?3649次閱讀
      MEMS工藝中快速退火的應用范圍和優(yōu)勢介紹

      有了2D NAND，為什么要升級到3D呢？

      2D NAND和3D NAND都是非易失性存儲技術(shù)（NVM Non-VolatileMemory），....
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-17 15:31 ?1628次閱讀
      有了2D NAND，為什么要升級到3D呢？

      電子束光刻的參數(shù)優(yōu)化及常見問題介紹

      本文從光刻圖案設(shè)計、特征尺寸、電鏡參數(shù)優(yōu)化等方面介紹電子束光刻的參數(shù)優(yōu)化，最后介紹了一些常見問題。
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-17 14:33 ?2010次閱讀
      電子束光刻的參數(shù)優(yōu)化及常見問題介紹

      波長與波數(shù)相互轉(zhuǎn)換的方法介紹

      光的“顏色”通常通過作為波長 λ 函數(shù)的功率或強度分布來識別。可見光的波長范圍為約 400 nm 至....
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-17 14:23 ?2580次閱讀
      波長與波數(shù)相互轉(zhuǎn)換的方法介紹

      FD-SOI與PD-SOI他們的區(qū)別在哪？

      本文簡單介紹了兩種常用的SOI晶圓——FD-SOI與PD-SOI。
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-17 10:10 ?3762次閱讀
      FD-SOI與PD-SOI他們的區(qū)別在哪？

      可以用鋁或多晶硅做柵極材料，是什么原因呢？

      柵（Gate）是一種控制元件，通常用于場效應晶體管（FET）中，比如金屬-氧化物-半導體場效應晶體管....
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-13 11:41 ?3015次閱讀
      可以用鋁或多晶硅做柵極材料，是什么原因呢？

      芯片內(nèi)部有多小呢？芯片內(nèi)部為什么能這么?。?/a>

      芯片藏身于城市中隨處可見的電子設(shè)備，智能手機、電腦、家電等都離不開它的控制。
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-12 10:25 ?969次閱讀
      芯片內(nèi)部有多小呢？芯片內(nèi)部為什么能這么??？

      CMOS工藝技術(shù)的概念、發(fā)展歷程、優(yōu)點以及應用場景介紹

      CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor， 互補金屬....
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-12 10:20 ?11374次閱讀
      CMOS工藝技術(shù)的概念、發(fā)展歷程、優(yōu)點以及應用場景介紹

      什么是超快激光？超快激光的應用有哪些呢？

      激光的原理早在 1916 年已經(jīng)由著名物理學家愛因斯坦（Albert Einstein）的受激輻射理....
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-11 14:36 ?2654次閱讀
      什么是超快激光？超快激光的應用有哪些呢？

      集成電路基礎(chǔ)知識介紹：從原子結(jié)構(gòu)到晶體管

      在19世紀末期，消費類產(chǎn)品包括照明、加熱、電話和電報等一些簡單的電路。但是無線電的發(fā)明和對于能夠整流....
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-11 14:32 ?1555次閱讀
      集成電路基礎(chǔ)知識介紹：從原子結(jié)構(gòu)到晶體管

      噪聲對相位解包裹的影響及其抑制方法研究

      當光學粗糙表面被擴展的激光束照射時，形成的圖像是斑點圖案（亮斑和暗斑）。噪聲對相位展開過程產(chǎn)生了災難....
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-11 10:04 ?1158次閱讀
      噪聲對相位解包裹的影響及其抑制方法研究

      半導體所研制出室溫連續(xù)功率4.6W的GaN基大功率紫外激光器

      氮化鎵（GaN）基材料被稱為第三代半導體，其光譜范圍覆蓋了近紅外、可見光和紫外全波段，在光電子學領(lǐng)域....
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-08 10:32 ?1369次閱讀
      半導體所研制出室溫連續(xù)功率4.6W的GaN基大功率紫外激光器

      在SPICE模擬器中應該調(diào)諧優(yōu)化哪些模型參數(shù)？需要全部調(diào)優(yōu)嗎？

      在SPICE模擬器中有幾十種標準的半導體器件模型，例如，用于GaN器件的最新ASM-HEMT模型有近....
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-06 10:37 ?1635次閱讀
      在SPICE模擬器中應該調(diào)諧優(yōu)化哪些模型參數(shù)？需要全部調(diào)優(yōu)嗎？

      MCU、DSP、PLC三者的比較和分析

      PLC廣泛應用于工業(yè)自動化控制系統(tǒng)中，包括機床控制、流水線控制、機器人控制、電力系統(tǒng)控制等領(lǐng)域。PL....
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-04 14:51 ?3846次閱讀

      如何在芯片中減少光刻膠的使用量

      光刻膠不能太厚或太薄，需要按制程需求來定。比如對于需要長時間蝕刻以形成深孔的應用場景，較厚的光刻膠層....
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-04 10:49 ?1336次閱讀
      如何在芯片中減少光刻膠的使用量

      基于SEM的電子束光刻技術(shù)開發(fā)及研究

      電子束光刻（e-beam lithography，EBL）是無掩膜光刻的一種，它利用波長極短的聚焦電....
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 03-04 10:19 ?3091次閱讀
      基于SEM的電子束光刻技術(shù)開發(fā)及研究

      光學巴比涅原理及應用

      巴比涅原理???，也譯作巴俾涅原理，指在點光源照射下，一個不透光物體產(chǎn)生的衍射圖樣和一個帶有與該物體....
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 02-29 14:39 ?3403次閱讀
      光學巴比涅原理及應用

      在芯片級的薄膜電阻和板級的厚膜電阻都是如何進行修調(diào)呢？

      在MEMS某些器件設(shè)計中，常常需要用到可調(diào)電阻，在板級電路上可以通過電位器對貼片電阻進行調(diào)阻，但在芯....
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 02-29 10:44 ?1685次閱讀
      在芯片級的薄膜電阻和板級的厚膜電阻都是如何進行修調(diào)呢？

      雙頻激光干涉測量的原理是什么？

      雙頻激光干涉儀是在單頻激光干涉儀的基礎(chǔ)上發(fā)展的一種外差式干涉儀。
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 02-28 11:10 ?2442次閱讀
      雙頻激光干涉測量的原理是什么？

      薄膜和厚膜的區(qū)別以及不同的制備工藝介紹

      相對于塊體材料，膜一般為二維材料。薄膜和厚膜從字面上區(qū)分，主要是厚度。薄膜一般厚度為5nm至2.5μ....
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 02-28 11:08 ?4783次閱讀

      提拉法生長晶體的概念和應用

      在外加電場作用下折射率發(fā)生變化，從而使通過晶體的一束激光分解為兩束偏振方向相互垂直的偏振光，并產(chǎn)生一....
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 02-27 11:09 ?2548次閱讀
      提拉法生長晶體的概念和應用

      多晶硅的塊狀破碎過程解析

      人工破碎就是工人用碳化鎢錘多晶硅棒進行錘擊達到粉碎的目的。碳化鎢的硬度僅次于鉆石，能夠保持鋒利的邊緣....
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 02-27 10:17 ?1943次閱讀
      多晶硅的塊狀破碎過程解析

      多層石墨烯中的分數(shù)量子霍爾效應解析

      霍爾效應在普通的導體中是線性的，即霍爾電阻和磁場強度成正比。但是，在一些特殊的材料中，當磁場很強時，....
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 02-26 09:54 ?1121次閱讀

      腦機接口的物理原理與技術(shù)探索

      在電磁波譜中，近紅外光(NIR)的波長在700—1400 nm之間，只要功率密度控制在每平方厘米毫瓦....
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 02-25 11:48 ?1601次閱讀

      如何調(diào)控BOSCH工藝深硅刻蝕？影響深硅刻蝕的關(guān)鍵參數(shù)有哪些？

      影響深硅刻蝕的關(guān)鍵參數(shù)有：氣體流量、上電極功率、下電極功率、腔體壓力和冷卻器。
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 02-25 10:44 ?4381次閱讀
      如何調(diào)控BOSCH工藝深硅刻蝕？影響深硅刻蝕的關(guān)鍵參數(shù)有哪些？

      什么是薄膜與厚膜？薄膜與厚膜有什么區(qū)別？

      在半導體制造領(lǐng)域，我們經(jīng)常聽到“薄膜制備技術(shù)”，“薄膜區(qū)”，“薄膜工藝”等詞匯，那么有厚膜嗎？答案是....
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 02-25 09:47 ?6916次閱讀
      什么是薄膜與厚膜？薄膜與厚膜有什么區(qū)別？

      die，device和chip的定義和區(qū)別

      在半導體行業(yè)中，“die”，“device”，和“chip”這三個術(shù)語都可以用來指代芯片。
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 02-23 18:26 ?12143次閱讀

      量子世界能否被經(jīng)典計算機所模擬？

      量子和計算，兩者聽起來似乎風馬牛不相及，為何要“聯(lián)姻”呢？
      的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 02-23 11:21 ?1041次閱讀
      量子世界能否被經(jīng)典計算機所模擬？