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中科院半導體所

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半導體在集成電路中的應(yīng)用

本文旨在剖析這個半導體領(lǐng)域的核心要素,從最基本的晶體結(jié)構(gòu)開始,逐步深入到半導體在集成電路中的應(yīng)用。
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 10-18 14:24 ?1803次閱讀

半導體外延生長方式介紹

本文簡單介紹了幾種半導體外延生長方式。
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 10-18 14:21 ?1697次閱讀
半導體外延生長方式介紹

如何利用Verilog-A開發(fā)器件模型

Verilog-A對緊湊型模型的支持逐步完善,在模型的實現(xiàn)上扮演越來越重要的角色,已經(jīng)成為緊湊模型開....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 10-18 14:16 ?1368次閱讀
如何利用Verilog-A開發(fā)器件模型

諧波的概念及應(yīng)用

本文簡單介紹了諧波的概念及應(yīng)用。
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 10-18 14:14 ?1306次閱讀
諧波的概念及應(yīng)用

為什么采用30.72MHz作為最小采樣率

本文介紹了為什么采用30.72MHz作為最小采樣率。
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 08-07 17:35 ?1133次閱讀
為什么采用30.72MHz作為最小采樣率

芯片失效分析中常見的測試設(shè)備及其特點

在芯片失效分析中,常用的測試設(shè)備種類繁多,每種設(shè)備都有其特定的功能和用途,本文列舉了一些常見的測試設(shè)....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 08-07 17:33 ?1923次閱讀
芯片失效分析中常見的測試設(shè)備及其特點

激光雷達芯片技術(shù)發(fā)展 激光雷達在無人駕駛中的應(yīng)用

激光雷達的工作原理是向目標發(fā)射探測信號(激光束),然后將接收到的從目標反射回來的信號(目標回波)與發(fā)....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 05-27 11:31 ?1871次閱讀
激光雷達芯片技術(shù)發(fā)展 激光雷達在無人駕駛中的應(yīng)用

用于芯片制造的襯底類型有哪些,分別用在哪些產(chǎn)品中?

襯底(substrate)是由半導體單晶材料制造而成的晶圓片,襯底可以直接進入晶圓制造環(huán)節(jié)生產(chǎn)半導體....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 05-23 11:49 ?4404次閱讀

開關(guān)電容加法器的電路詳解

根據(jù)電荷守恒原理,在一個孤立回路中,電荷代數(shù)和總是相等不變。
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 05-23 11:14 ?2270次閱讀
開關(guān)電容加法器的電路詳解

用交叉雙像素扭曲光電二極管實現(xiàn)更快地對焦

自動對焦是相機系統(tǒng)中的重要組成部分,其作用是在拍攝圖像時自動調(diào)整相機鏡頭使圖像達到最清晰的效果。
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 05-23 11:12 ?841次閱讀
用交叉雙像素扭曲光電二極管實現(xiàn)更快地對焦

碳化硅襯底片比較重要的參數(shù)有哪些?

Lattice Parameters:晶格參數(shù)。確保襯底的晶格常數(shù)與將要生長的外延層相匹配,以減少缺....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 05-19 11:38 ?1431次閱讀
碳化硅襯底片比較重要的參數(shù)有哪些?

如何使用GaN HEMT抽取Self-heating效應(yīng)和Trapping效應(yīng)模型參數(shù)?

氮化鎵(GaN)技術(shù)在5G基站、衛(wèi)星通信、國防系統(tǒng)和其他應(yīng)用中的迅速普及提高了晶體管建模的門檻。
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 05-19 10:01 ?1692次閱讀
如何使用GaN HEMT抽取Self-heating效應(yīng)和Trapping效應(yīng)模型參數(shù)?

熱氧化與PECVD生成氧化硅的方式比較

熱氧化是在高溫下通過化學反應(yīng)在硅表面生成氧化硅的方式。
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 05-19 09:59 ?2688次閱讀

CP,F(xiàn)T,WAT都是與芯片的測試有關(guān),他們有什么區(qū)別呢?如何區(qū)分?

CP是把壞的Die挑出來,可以減少封裝和測試的成本。
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 05-09 11:43 ?4430次閱讀

如何制造光纖布拉格光柵?用在什么地方呢?

光柵是通過將光纖暴露在紫外線下來寫入的。紫外線(244nm)能夠?qū)π镜恼凵渎蔬M行永久性的改變。
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 05-06 16:10 ?1286次閱讀
如何制造光纖布拉格光柵?用在什么地方呢?

芯片的類別和封裝形式都有哪些呢?

集成電路是一種電子元件的集合:電阻、晶體管、電容等,所有這些都塞進一個小芯片中,并連接在一起以實現(xiàn)一....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 05-06 11:31 ?2221次閱讀
芯片的類別和封裝形式都有哪些呢?

硅片和soi這兩種材料,他們的不同之處是什么呢?

硅片是半導體制造的基礎(chǔ),絕大多數(shù)的芯片都是在硅片上制造的。SOI(silicon on insula....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 05-06 09:29 ?1714次閱讀
硅片和soi這兩種材料,他們的不同之處是什么呢?

電子束技術(shù)的原理與應(yīng)用概覽

電子束技術(shù)在半導體制造行業(yè)一直是重要的應(yīng)用技術(shù)。本文就電子束技術(shù)作一個簡單的圖文介紹。
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 04-30 14:32 ?2872次閱讀
電子束技術(shù)的原理與應(yīng)用概覽

光刻膠旋轉(zhuǎn)涂膠的原因

光刻膠是一種有機化合物,它受紫外線曝光后在顯影液中的溶解度發(fā)生顯著變化,而未曝光的部分在顯影液中幾乎....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 04-30 12:45 ?1230次閱讀

ICP-RIE機臺的原理是什么樣的?

ICP-RIE全稱是電感耦合等離子體刻蝕機,是半導體芯片微納加工過程中必不可少的設(shè)備,可加工微米級納....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 04-30 12:43 ?2416次閱讀
ICP-RIE機臺的原理是什么樣的?

1GW產(chǎn)能所需的硅料、硅片及電池數(shù)量介紹

1GW(吉瓦)是光伏產(chǎn)業(yè)中常用的裝機容量單位,而硅料、硅片、電池片、組件是光伏產(chǎn)業(yè)鏈中不同階段的產(chǎn)品....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 04-28 11:23 ?11720次閱讀

基于微機電系統(tǒng)的智能手表

微機電系統(tǒng)采用的是梳狀驅(qū)動式致動器。要理解其工作原理,可以設(shè)想兩個梳齒間隔很大的梳子,它們面對面擺放....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 04-28 11:18 ?1043次閱讀

負折射率介質(zhì)界面光束傳播特性及超材料應(yīng)用探索

負折射率材料特殊的電磁學特性受到廣泛關(guān)注,在各向同性介質(zhì)中,電場 E、磁場H和波矢k滿足右手定則, ....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 04-27 12:04 ?2346次閱讀
負折射率介質(zhì)界面光束傳播特性及超材料應(yīng)用探索

費米氣體和超導是什么關(guān)系呢?費米子的代碼讓電阻消失了?

金屬里面自由電子構(gòu)成的特殊氣體,叫做“費米氣體”。那么,費米氣體和超導是什么關(guān)系呢?
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 04-26 10:41 ?1090次閱讀
費米氣體和超導是什么關(guān)系呢?費米子的代碼讓電阻消失了?

微米、納米級制造技術(shù)介紹

沉積法是在基板材料上再附加材料的過程。通常是通過沉積一系列的涂層來完成,可以再使用蝕刻法對沉積層進行....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 04-25 14:28 ?1894次閱讀

N型少子壽命為何超越P型的原因解析

N型硅片通常需要更高純度的硅料,這意味著它們含有的金屬雜質(zhì)較少,這些金屬雜質(zhì)可能會作為復(fù)合中心降低少....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 04-25 11:46 ?2282次閱讀
N型少子壽命為何超越P型的原因解析

單晶硅片出貨前需通過哪些檢測指標?

單晶硅可以用于二極管級、整流器件級、電路級以及太陽能電池級單晶產(chǎn)品的生產(chǎn)和深加工制造,其后續(xù)產(chǎn)品集成....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 04-25 11:41 ?1270次閱讀
單晶硅片出貨前需通過哪些檢測指標?

一文讀懂半導體工藝制程的光刻膠

光刻膠按照種類可以分為正性的、負性的。正膠受到紫外光照射的部分在顯影時被去除,負膠受到紫外光曝光的地....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 04-24 11:37 ?4307次閱讀
一文讀懂半導體工藝制程的光刻膠

爐管設(shè)備內(nèi)部構(gòu)造的深入剖析與解讀

半導體爐管設(shè)備是用于半導體材料熱處理的設(shè)備,包括電阻加熱式和感應(yīng)加熱式兩種形式。爐管是核心部件,將半....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 04-24 11:27 ?6536次閱讀
爐管設(shè)備內(nèi)部構(gòu)造的深入剖析與解讀

光刻33%法則是什么意思

光刻膠的性能:光刻膠的性能對套刻精度有顯著影響。它決定了圖形的套刻分辨率和邊緣清晰度,光刻膠的收縮和....
的頭像 中科院半導體所 發(fā)表于 04-22 12:45 ?1392次閱讀