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標(biāo)簽 > 光刻技術(shù)
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2~3個(gè)數(shù)量級(jí)(從毫米級(jí)到亞微米級(jí)),已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù);使用波長(zhǎng)已從4000埃擴(kuò)展到 0.1埃數(shù)量級(jí)范圍。光刻技術(shù)成為一種精密的微細(xì)加工技術(shù)。
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本文是A. N. BROERS關(guān)于掃描電鏡在微納加工中應(yīng)用的研究回顧,重點(diǎn)記錄了他從1960年代開(kāi)始參與電子束加工技術(shù)開(kāi)發(fā)的歷程。文章詳細(xì)記錄了EBL技...
自對(duì)準(zhǔn)雙重圖案化技術(shù)的優(yōu)勢(shì)與步驟
在芯片制造中,光刻技術(shù)在硅片上刻出納米級(jí)的電路圖案。然而,當(dāng)制程進(jìn)入7納米以下,傳統(tǒng)光刻的分辨率已逼近物理極限。這時(shí), 自對(duì)準(zhǔn)雙重圖案化(SADP) 的...
定向自組裝光刻技術(shù)的基本原理和實(shí)現(xiàn)方法
定向自組裝光刻技術(shù)通過(guò)材料科學(xué)與自組裝工藝的深度融合,正在重構(gòu)納米制造的工藝組成。主要內(nèi)容包含圖形結(jié)構(gòu)外延法、化學(xué)外延法及圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)。
隨著極紫外光刻(EUV)技術(shù)面臨光源功率和掩模缺陷挑戰(zhàn),X射線光刻技術(shù)憑借其固有優(yōu)勢(shì),在特定領(lǐng)域正形成差異化競(jìng)爭(zhēng)格局。
? ? ? 本文介紹了什么是光罩(Mask)。 光罩(Mask),也稱(chēng)為掩膜版,是集成電路(IC)制造過(guò)程中核心且關(guān)鍵的元件之一。作為光刻技術(shù)的核心工具...
用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)介紹
? 本文介紹了用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進(jìn) 過(guò)去半個(gè)多世紀(jì),摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,但當(dāng)光刻機(jī)的光源波長(zhǎng)...
一文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望
光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán),而光刻膠,又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展,對(duì)微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強(qiáng),光刻膠的需求...
電子束光刻技術(shù)實(shí)現(xiàn)對(duì)納米結(jié)構(gòu)特征的精細(xì)控制
電子束光刻技術(shù)使得對(duì)構(gòu)成多種納米技術(shù)基礎(chǔ)的納米結(jié)構(gòu)特征實(shí)現(xiàn)精細(xì)控制成為可能。納米結(jié)構(gòu)制造與測(cè)量的研究人員致力于提升納米尺度下的光刻精度,并開(kāi)發(fā)了涵蓋從光...
分辨率增強(qiáng)及技術(shù)(Resolution Enhancement Technique, RET)實(shí)際上就是根據(jù)已有的掩膜版設(shè)計(jì)圖形,通過(guò)模擬計(jì)算確定最佳光...
半導(dǎo)體光刻技術(shù)及設(shè)備的發(fā)展趨勢(shì)立即下載
類(lèi)別:半導(dǎo)體技術(shù)論文 2011-10-31 標(biāo)簽:半導(dǎo)體光刻技術(shù) 1081 0
ASML發(fā)布2024年財(cái)報(bào),業(yè)績(jī)強(qiáng)勁增長(zhǎng)
阿斯麥(ASML)近日發(fā)布了其2024年第四季度及全年財(cái)報(bào),數(shù)據(jù)顯示公司業(yè)績(jī)繼續(xù)保持強(qiáng)勁增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)。 在2024年第四季度,ASML實(shí)現(xiàn)了93億歐元的凈銷(xiāo)...
2025-02-10 標(biāo)簽:光刻技術(shù)ASML季度財(cái)報(bào) 555 0
本文介紹了7納米工藝面臨的各種挑戰(zhàn)與解決方案。 一、什么是7納米工藝? 在談?wù)?納米工藝之前,我們先了解一下“納米”是什么意思。納米(nm)是一個(gè)長(zhǎng)度單...
隨著科技的飛速發(fā)展,CMOS技術(shù)也在不斷進(jìn)步,以滿(mǎn)足日益增長(zhǎng)的性能需求。從最初的簡(jiǎn)單邏輯門(mén)到現(xiàn)在的復(fù)雜集成電路,CMOS技術(shù)已經(jīng)成為推動(dòng)數(shù)字革命的關(guān)鍵力...
美投資8.25億美元建設(shè)NSTC關(guān)鍵設(shè)施,重點(diǎn)發(fā)展EUV光刻技術(shù)
拜登政府已宣布一項(xiàng)重大投資決策,計(jì)劃在紐約州的奧爾巴尼市投入8.25億美元,用于建設(shè)國(guó)家半導(dǎo)體技術(shù)中心(NSTC)的核心設(shè)施。據(jù)美國(guó)商務(wù)部透露,奧爾巴尼...
日本大學(xué)研發(fā)出新極紫外(EUV)光刻技術(shù)
近日,日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)院大學(xué)(OIST)發(fā)布了一項(xiàng)重大研究報(bào)告,宣布該校成功研發(fā)出一種突破性的極紫外(EUV)光刻技術(shù)。這一創(chuàng)新技術(shù)超越了當(dāng)前半導(dǎo)體...
來(lái)源: ASML阿斯麥光刻 人類(lèi)每天都在推動(dòng)技術(shù)進(jìn)步,不斷拓展可到達(dá)的技術(shù)邊界,而這些新科技的實(shí)現(xiàn)背后離不開(kāi)芯片技術(shù)的支持。如今風(fēng)靡全世界的人工智能、數(shù)...
阿斯麥和IMEC聯(lián)合光刻實(shí)驗(yàn)室啟用
近日,比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)與全球光刻技術(shù)領(lǐng)軍企業(yè)阿斯麥(ASML)共同宣布,在荷蘭費(fèi)爾德霍芬正式啟用聯(lián)合High-NA EUV光刻實(shí)驗(yàn)室。
臺(tái)積電轉(zhuǎn)變態(tài)度?秘密訪問(wèn)ASML總部引發(fā)行業(yè)關(guān)注
宿敵英特爾則積極投身于新興高數(shù)值孔徑超紫外光刻領(lǐng)域,已有數(shù)臺(tái)設(shè)備投入其芯片制造部門(mén)使用。據(jù)透露,英特爾正計(jì)劃在即將推出的18A(1.8納米)工藝節(jié)點(diǎn)中試...
三星電子有望在美國(guó)獲得超過(guò) 60 億美元的補(bǔ)貼
據(jù)彭博社3月15日?qǐng)?bào)道,三星電子有望從美國(guó)政府獲得逾60億美元的《CHIP》法案補(bǔ)貼。該公司目前正在美國(guó)得克薩斯州新建一座工廠,此前計(jì)劃于今年7月開(kāi)始...
納米壓印光刻技術(shù)應(yīng)用在即,能否掀起芯片制造革命?
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/李寧遠(yuǎn))提及芯片制造,首先想到的自然是光刻機(jī)和光刻技術(shù)。而眾所周知,EUV光刻機(jī)產(chǎn)能有限而且成本高昂,業(yè)界一直都在探索不完全依賴(lài)于...
2024-03-09 標(biāo)簽:光刻技術(shù) 4830 0
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