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      標(biāo)簽　>　光刻技術(shù)

      光刻技術(shù)

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      隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個(gè)數(shù)量級(jí)（從毫米級(jí)到亞微米級(jí)），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù)；使用波長(zhǎng)已從4000埃擴(kuò)展到 0.1埃數(shù)量級(jí)范圍。光刻技術(shù)成為一種精密的微細(xì)加工技術(shù)。

      文章：144個(gè) 瀏覽：16156次 帖子：5個(gè)

      光刻技術(shù)技術(shù)

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      中國科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對(duì)先進(jìn)光刻技術(shù)的理解，本學(xué)期集成電路學(xué)院開設(shè)了《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)...

      2023-05-17 標(biāo)簽：集成電路制造工藝光刻技術(shù) 736 0

      ChatGPT是怎么看EUV光刻的呢？

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      EUV光刻膠需要具有足夠的耐刻蝕性，以便在后續(xù)的刻蝕過程中保護(hù)圖案。為了提高耐刻蝕性，研究人員正在開發(fā)新型刻蝕抑制劑和交聯(lián)劑，以增強(qiáng)光刻膠的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。

      2023-05-08 標(biāo)簽：人工智能光刻技術(shù)EUV 935 0

      什么是光刻技術(shù)

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      光刻技術(shù)簡(jiǎn)單來講，就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程，是大規(guī)模集成電路的基礎(chǔ)。目前市場(chǎng)上主流技術(shù)是193nm沉浸式光刻技術(shù)，CPU所謂30nm工藝或者22...

      2023-04-25 標(biāo)簽：cpu硅片光刻技術(shù) 4145 0

      什么是*** ***實(shí)現(xiàn)真的很難嗎

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      **什么是光刻機(jī)** 光刻-Photolithography，也叫做光刻技術(shù)或者是UV光刻技術(shù)，利用光纖（準(zhǔn)確的來說波長(zhǎng)極短的不可見光）將幾何圖案從光...

      2023-02-20 標(biāo)簽：芯片光刻機(jī)光刻技術(shù) 1.3萬 0

      芯片背面供電網(wǎng)絡(luò)的三種實(shí)現(xiàn)方式通信

      實(shí)現(xiàn)3nm以下微縮的關(guān)鍵技術(shù)之一涉及在芯片背面提供功率。這種新穎的方法增強(qiáng)了信號(hào)完整性并減少了路由擁塞，但它也帶來了一些新的挑戰(zhàn)，目前還沒有簡(jiǎn)單的解決方案。

      2022-11-25 標(biāo)簽：晶體管光刻技術(shù)EUV 1893 0

      計(jì)算光刻技術(shù)的發(fā)展

      計(jì)算光刻 (Computational Lithography)技術(shù)是指利用計(jì)算機(jī)輔助技術(shù)來增強(qiáng)光刻工藝中圖形轉(zhuǎn)移保真度的一種方法，它是分辦率增強(qiáng)技術(shù)(...

      2022-10-26 標(biāo)簽：計(jì)算機(jī)半導(dǎo)體器件光刻技術(shù) 3335 0

      美國公司Zyvex使用電子束光刻制造出0.7nm芯片

      氫去鈍化光刻(HDL)是電子束光刻(EBL)的一種形式，它通過非常簡(jiǎn)單的儀器實(shí)現(xiàn)原子分辨率，并使用能量非常低的電子。它使用量子物理學(xué)有效地聚焦低能電子和...

      2022-09-27 標(biāo)簽：光刻技術(shù)量子計(jì)算機(jī)EUV光刻機(jī) 3169 0

      EUV光刻技術(shù)出現(xiàn)新的挑戰(zhàn)：3nm節(jié)點(diǎn)的金屬間距約為22nm

      22 nm 節(jié)距quasar illumination的較小部分使得最低衍射級(jí)避免了遮擋可以安全使用，但填充的pupil不到 20%，這再次意味著額外的...

      2022-08-10 標(biāo)簽：光刻機(jī)光刻技術(shù)EUV 1484 0

      電子束曝光原理_電子束曝光結(jié)構(gòu)

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      2020-11-27 標(biāo)簽：電子束光刻技術(shù) 1.1萬 0

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      2021-04-11 標(biāo)簽：光刻技術(shù)EUV 3.3萬 0

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      目前，我國硅拋光片行業(yè)需求量約6億平方英寸，國內(nèi)產(chǎn)量5.19億平方英寸，部分產(chǎn)品還需要從國外進(jìn)口滿足國內(nèi)市場(chǎng)需求，近幾年我國集成電路行業(yè)平穩(wěn)發(fā)展，給硅拋...

      2019-09-09 標(biāo)簽：芯片光刻技術(shù) 1.4萬 0

      Mulith將激進(jìn)光學(xué)技術(shù)擴(kuò)展到原位計(jì)量

      Mulith聲稱其基于激光的計(jì)量工具提供的分辨率優(yōu)于掃描電子顯微鏡（SEM），同時(shí)不需要昂貴的發(fā)射源，靜電透鏡，磁物鏡，復(fù)雜的熱傳導(dǎo)方法和真空系統(tǒng)。最重...

      2019-08-13 標(biāo)簽：光刻技術(shù)PCB打樣華強(qiáng)PCB 2711 0

      Sematech在157納米光刻技術(shù)的發(fā)展

      德克薩斯州奧斯汀 - 國際Sematech公司的研究經(jīng)理表示，他們對(duì)將光刻技術(shù)擴(kuò)展到生產(chǎn)的可能性更加樂觀一組專家回顧了下一代157納米曝光工具關(guān)鍵材料的...

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      光刻技術(shù)概述及光刻技術(shù)的原理

      光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限...

      2018-04-17 標(biāo)簽：集成電路光刻技術(shù) 3.5萬 0

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      2017-09-29 標(biāo)簽：英特爾光刻技術(shù)EUV 1.3萬 0

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