一文詳解光刻機的工作原理

光刻機（Mask Aligner） 又名：掩模對準(zhǔn)曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。

2020-10-16 標(biāo)簽：光刻機 31.5萬 1

一文看懂a(chǎn)sml光刻機工作原理及基本構(gòu)造

在半導(dǎo)體芯片制造設(shè)備中，投資最大、也是最為關(guān)鍵的是光刻機，光刻機同時也是精度與難度最高、技術(shù)最為密集、進步最快的一種系統(tǒng)性工程設(shè)備。光學(xué)光刻技術(shù)與其它光...

2018-04-10 標(biāo)簽：光刻機asml 21.4萬 0

看懂光刻機:光刻工藝流程詳解

光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的難點和關(guān)鍵點在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上，這一過程通過光刻來實現(xiàn)...

2018-04-08 標(biāo)簽：半導(dǎo)體器件光刻機半導(dǎo)體芯片 16.9萬 0

光刻機結(jié)構(gòu)組成及工作原理

本文以光刻機為中心，主要介紹了光刻機的分類、光刻機的結(jié)構(gòu)組成、光刻機的性能指標(biāo)、光刻機的工藝流程及工作原理。

2017-12-19 標(biāo)簽：光刻機 16.5萬 0

一文解析刻蝕機和光刻機的原理及區(qū)別

光刻機（Mask Aligner） 又名：掩模對準(zhǔn)曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、...

2018-04-10 標(biāo)簽：光刻機 13.4萬 0

一文弄懂半導(dǎo)體掩膜版制造工藝及流程

微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移母版掩膜版（Photomask）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版，是圖形設(shè)計和工藝技術(shù)等...

2024-01-06 標(biāo)簽：集成電路液晶顯示器光刻機 4.1萬 0

光刻機被譽為半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠,什么是光刻？

2019-01-08 標(biāo)簽：光刻機半導(dǎo)體芯片 2.6萬 0

芯片本質(zhì)是什么 芯片制作為什么那么難

2022-04-19 標(biāo)簽：芯片晶圓光刻機 2.4萬 0

光刻機制造難度有多大？

據(jù)cnBeta、環(huán)球網(wǎng)、快科技等多家媒體證實，近日長江存儲從荷蘭阿斯麥（ASML）公司訂購的一臺光刻機已抵達武漢。這臺光刻機價值高達7200萬美元，約合...

2018-11-22 標(biāo)簽：光刻機 2.1萬 0

說一說光刻機的那些事兒

一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗、烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。最初的工序是用光來制作一個掩模版，然后在硅片表...

2018-05-03 標(biāo)簽：光刻機精密儀器 2.1萬 0

ASML光刻機的工作原理，光刻機制造難度有多大？

2019-05-15 標(biāo)簽：控制器光刻機ASML 2.0萬 0

光刻機的背景技術(shù)和工作原理及專利分析的詳細資料說明

2019-06-16 標(biāo)簽：芯片MOSFET光刻機 1.6萬 0