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標簽 > 光刻機
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光刻是將設(shè)計好的電路圖從掩膜版轉(zhuǎn)印到晶圓表面的光刻膠上,通過曝光、顯影將目標圖形印刻到特定材料上的技術(shù)。光刻工藝包括三個核心流程:涂膠、對準和曝光以及光...
2023-03-25 標簽:集成電路光刻機半導體設(shè)備 8470 0
是的!光刻機本身的原理,其實和相機非常相似,同學們可以把光刻機就想成是一臺巨大的單反相。機。相機的原理,是被攝物體被光線照射所反射的光線,透過相機的...
2022-11-21 標簽:光刻機 8379 0
光刻機是芯片制造最為重要的設(shè)備之一。目前,ASML壟斷了全世界的高端光刻機。中國一直以來都想掌握光刻機技術(shù),但是上海微電子經(jīng)過17年的努力,才造出90...
用于集成電路制造的光刻機有兩種:半導體光刻機和光學(光刻)光刻機。下面將分別介紹這兩種光刻機的相關(guān)知識。半導體光刻機是根據(jù)芯片制造的工藝和設(shè)備來劃分的,...
光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EU...
光刻機市場簡析 國產(chǎn)光刻機今年能否進入實際生產(chǎn)環(huán)節(jié)
中科院去年宣布進軍光刻機,相信在量子芯片、光子芯片、第三代半導體等領(lǐng)域中國可以實現(xiàn)彎道超車的。
關(guān)于半導體設(shè)備產(chǎn)業(yè)分析和介紹
測試設(shè)備遍布前道檢測、后道中測和后道終測。 前道檢測、晶圓可接受性測試及后道終測保證芯片質(zhì)量及性能,外觀測試與電性功能測試并重。 前道檢測主要指晶圓檢測...
在上一節(jié)計算光學小講堂中,我們學習了光源掩模協(xié)同優(yōu)化(source mask co-optimization, SMO)的相關(guān)知識。這一節(jié)我們將主要探索...
2023-09-01 標簽:OPC光學系統(tǒng)光刻機 7030 0
用于Chiplet 3D系統(tǒng)的硅光Interposer工藝架構(gòu)介紹
這篇文章簡要介紹CEA-Leti發(fā)布用于Chiplet 3D系統(tǒng)的硅光Interposer工藝架構(gòu),包括硅光前端工藝 (FEOL)、TSV middle...
2023-08-02 標簽:耦合器光刻機硅光子技術(shù) 7007 0
中國半導體設(shè)備現(xiàn)在的狀態(tài)到底是怎么樣的
半導體設(shè)備位于整個半導體產(chǎn)業(yè)鏈的上游,在新建晶圓廠中半導體設(shè)備支出的占比普遍達到 80%。一條晶圓制造新建產(chǎn)線的資本支出占比如下:廠房 20%、晶圓制造...
在集成電路的制造過程中,有一個重要的環(huán)節(jié)——光刻,正因為有了它,我們才能在微小的芯片上實現(xiàn)功能。
EUV 光刻是以波長為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術(shù),簡單來說,就是以極紫外光作“刀”,對芯片上的晶圓進行雕刻,讓芯片上的電路變成人...
利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖形復印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用。
以硅晶片為例,硅從石英砂里提煉出來,在高溫下,碳和里面的二氧化硅發(fā)生化學反應只能得到純度約為98%的純硅,這對于微電子器件來說不夠純,因為半導體材料的電...
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