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標(biāo)簽 > 光刻機(jī)
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芯片產(chǎn)業(yè)中的光刻機(jī)是怎么雕刻出遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于自己波長(zhǎng)的線(xiàn)寬的?
具體地說(shuō)是利用某種Copolymer,比如PMMA-PS,在滿(mǎn)足一定分子比和物理?xiàng)l件的形況下,PMMA跑到一邊,PS跑到另一邊,形成很有序的交錯(cuò)結(jié)構(gòu),再...
節(jié)點(diǎn)的尺寸數(shù)值基本上和晶體管的長(zhǎng)寬成正比關(guān)系,每一個(gè)節(jié)點(diǎn)基本上是前一個(gè)節(jié)點(diǎn)的0.7倍。這樣以來(lái),由于0.7X0.7=0.49,所以每一代工藝節(jié)點(diǎn)上晶體管...
***誰(shuí)發(fā)明出來(lái)的 ***有多難制造
光刻機(jī)的制造是一項(xiàng)復(fù)雜而精密的工藝,需要高度專(zhuān)業(yè)化的技術(shù)和設(shè)備。它涉及到許多關(guān)鍵的工藝步驟和組件,如光學(xué)系統(tǒng)、曝光光源、掩模制作等。
2023-07-04 標(biāo)簽:集成電路光學(xué)系統(tǒng)光刻機(jī) 1.4萬(wàn) 0
提高光刻機(jī)性能的關(guān)鍵技術(shù)及光刻機(jī)的發(fā)展情況
作為光刻工藝中最重要設(shè)備之一,光刻機(jī)一次次革命性的突破,使大模集成電路制造技術(shù)飛速向前發(fā)展。了解提高光刻機(jī)性能的關(guān)鍵技術(shù)以及了解下一代光刻技術(shù)的發(fā)展情況...
2020-08-28 標(biāo)簽:光刻機(jī) 1.4萬(wàn) 1
刻蝕機(jī)是干什么用的 刻蝕機(jī)和光刻機(jī)的區(qū)別
刻蝕機(jī)的刻蝕過(guò)程和傳統(tǒng)的雕刻類(lèi)似,先用光刻技術(shù)將圖形形狀和尺寸制成掩膜,再將掩膜與待加工物料模組裝好,將樣品置于刻蝕室內(nèi),通過(guò)化學(xué)腐蝕或物理磨蝕等方式將...
套刻誤差的含義、產(chǎn)生原因以及和對(duì)準(zhǔn)誤差的區(qū)別
光刻機(jī)的工作過(guò)程是這樣的:逐一曝光完硅片上所有的場(chǎng)(field),亦即分步,然后更換硅片,直至曝光完所有的硅片;當(dāng)對(duì)硅片進(jìn)行工藝處理結(jié)束后,更換掩模,接...
**什么是光刻機(jī)** 光刻-Photolithography,也叫做光刻技術(shù)或者是UV光刻技術(shù),利用光纖(準(zhǔn)確的來(lái)說(shuō)波長(zhǎng)極短的不可見(jiàn)光)將幾何圖案從光...
國(guó)產(chǎn)***EUV與DUV的分類(lèi)
DUV是深紫外線(xiàn)(Deep Ultraviolet Lithography),EUV是極深紫外線(xiàn)(Extreme Ultraviolet Lithogr...
EDA技術(shù)的核心 常見(jiàn)EDA軟件工具有哪些?
EDA技術(shù)的核心是將電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化,實(shí)現(xiàn)快速、準(zhǔn)確、方便的電路設(shè)計(jì)和仿真,以提高電路設(shè)計(jì)的效率和可靠性。通過(guò)提高EDA技術(shù)的運(yùn)用水平,可以縮短電路設(shè)計(jì)周...
2023-04-19 標(biāo)簽:eda光刻機(jī)電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化 1.3萬(wàn) 0
光刻工藝的8個(gè)基本步驟 光刻機(jī)結(jié)構(gòu)及工作原理
摩爾定律 Intel創(chuàng)始人之一摩爾1964年提出,大約每隔12個(gè)月: 1)。芯片能力增加一倍、芯片價(jià)格降低- -倍; 2)。廣大用戶(hù)的福音、行業(yè)人...
光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝,也可以用在后道工藝,前道光刻機(jī)用于芯片的制造,曝光工藝極其復(fù)雜,后道光刻機(jī)主要用于封裝測(cè)試...
眾所周知,半導(dǎo)體作為最重要的產(chǎn)業(yè)之一,每年為全球貢獻(xiàn)近五千億美金的產(chǎn)值,可以毫不夸張的說(shuō),半導(dǎo)體技術(shù)無(wú)處不在。
ASML光刻機(jī)的工作原理及關(guān)鍵技術(shù)解析
光刻機(jī)(Mask Aligner) 又名:掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類(lèi)似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)...
從光刻機(jī)出來(lái)后還要經(jīng)歷曝光后的烘焙,簡(jiǎn)稱(chēng)后烘。這一步的目的是通過(guò)加熱讓光刻膠中的光化學(xué)反應(yīng)充分完成,可以彌補(bǔ)曝光強(qiáng)度不足的問(wèn)題。
超級(jí)全面!一文看懂***:MEMS傳感器及芯片制造的最核心設(shè)備
文章大綱 光刻是芯片制造最核心環(huán)節(jié),大陸自給率亟待提升 ·光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備,市場(chǎng)規(guī)模全球第二 ·一超兩強(qiáng)壟斷市場(chǎng),大陸卡脖子現(xiàn)象凸顯 光刻機(jī):...
關(guān)于半導(dǎo)體制程/工藝/生產(chǎn)的性能分析和介紹
說(shuō)完了 FinFET,我們還有最后一個(gè)后綴,就是昨天報(bào)道中的 LPP、LPE 了,其實(shí)這些指的都是同一代工藝中的不同種類(lèi),比如 LPE(Low Powe...
光刻(Photolithography) 意思是用光來(lái)制作一個(gè)圖形(工藝);在硅片表面勻膠,然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過(guò)程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時(shí)“...
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