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標(biāo)簽 > 芯片制造
《芯片制造》是2010年8月1日電子工業(yè)出版社出版的圖書,作者是(美國)贊特。本書介紹了半導(dǎo)體工藝的制作制程、誕生、發(fā)展、半導(dǎo)體材料和化學(xué)品的性質(zhì)等方面闡述。
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如果工藝制程繼續(xù)按照摩爾定律所說的以指數(shù)級的速度縮小特征尺寸,會遇到兩個(gè)阻礙,首先是經(jīng)濟(jì)學(xué)的阻礙,其次是物理學(xué)的阻礙。 經(jīng)濟(jì)學(xué)的阻礙是,隨著特征尺寸縮小...
芯片廠為什么要使用超純水? 普通的水中含有氯,硫等雜質(zhì),會腐蝕芯片中的金屬。如果水中有Na,K等金屬雜質(zhì),會造成MIC(可動離子污染)等問題。因此芯片制...
2023-06-29 標(biāo)簽:芯片制造半導(dǎo)體器件半導(dǎo)體制造 2578 0
總體而言,從現(xiàn)在到2023年,汽車應(yīng)用半導(dǎo)體市場預(yù)計(jì)將出現(xiàn)7%的復(fù)合年增長率,市場價(jià)值將從350億美元增加到540億美元。在ADAS/自動駕駛/車載信息...
2018-06-05 標(biāo)簽:芯片制造 2458 0
ASIC設(shè)計(jì)開發(fā)流程介紹 CMOS集成電路的功耗來源
集成電路是由硅晶圓(wafer)切割出來的芯片(die)組成的。每個(gè)晶圓可以切割出數(shù)百個(gè)芯片。
雖然表面缺陷檢測技術(shù)已經(jīng)不斷從學(xué)術(shù)研究走向成熟的工業(yè)應(yīng)用,但是依然有一些需要解決的問題?;谝陨戏治隹梢园l(fā)現(xiàn),由于芯片表面缺陷的獨(dú)特性質(zhì),通用目標(biāo)檢測算...
? 本文介紹了用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進(jìn) 過去半個(gè)多世紀(jì),摩爾定律一直推動著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,但當(dāng)光刻機(jī)的光源波長...
ASML 稱之為超數(shù)值孔徑的研發(fā)正在進(jìn)行中,因此更具體的光學(xué)器件,尚不清楚它是否會起作用。距生產(chǎn)還有 10 年的時(shí)間,但這正是研發(fā)已經(jīng)在進(jìn)行的地方,如果...
光源掩模協(xié)同優(yōu)化的原理與應(yīng)用
由于SMO優(yōu)化的結(jié)果是要應(yīng)用到整塊芯片上去的,而對所有的圖形進(jìn)行SMO是極為耗時(shí)的,因此,我們需要使用關(guān)鍵圖形篩選技術(shù)提前將重復(fù)或者冗余的圖形剔除,以保...
在芯片制造的復(fù)雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機(jī)將不同層電路圖案對準(zhǔn)...
對于電子設(shè)備來說,它藏在內(nèi)部,又非常重要,相當(dāng)于汽車的發(fā)動機(jī)、人的心臟,所以叫“芯”。從形態(tài)來看,它是一片一片的,所以叫“片”。合起來,就是“芯片”。
2024-01-15 標(biāo)簽:集成電路芯片制造半導(dǎo)體芯片 1981 0
晶圓級封裝技術(shù)可定義為:直接在晶圓上進(jìn)行大部分或全部的封裝、測試程序,然后再進(jìn)行安裝焊球并切割,從而產(chǎn)出一顆顆的IC成品單元。
對于工程設(shè)計(jì)人員來講,IGBT芯片的性能,可以從規(guī)格書中很直觀地得到。但是,系統(tǒng)設(shè)計(jì)時(shí),這些性能能夠發(fā)揮出來多少,就要看“封裝“了,畢竟夏天穿著棉襖工作...
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