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芯片制造

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《芯片制造》是2010年8月1日電子工業(yè)出版社出版的圖書,作者是(美國)贊特。本書介紹了半導(dǎo)體工藝的制作制程、誕生、發(fā)展、半導(dǎo)體材料和化學(xué)品的性質(zhì)等方面闡述。

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2024-12-06 標(biāo)簽:芯片制造刻蝕 1416 0

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2023-09-25 標(biāo)簽:芯片制造 1353 0

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光刻是芯片制造過程中至關(guān)重要的一步,它定義了芯片上的各種微細(xì)圖案,并且要求極高的精度。以下是光刻過程的詳細(xì)介紹,包括原理和具體步驟。?? 光刻原理???...

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摩爾定律是指在給定面積的硅片上,晶體管的數(shù)量大約每兩年翻一番,這種增益推動了計(jì)算技術(shù)的發(fā)展。在過去半個(gè)世紀(jì)里,我們將該定律視為一種類似進(jìn)化或衰老的不可避...

2024-01-24 標(biāo)簽:摩爾定律晶體管芯片制造 1178 0

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在芯片制造中,有源區(qū)(Active Area)是晶體管的核心工作區(qū)域,負(fù)責(zé)電流的導(dǎo)通與信號處理。它如同城市中的“主干道”,決定了電路的性能和集成度。

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DUV是深紫外線,EUV是極深紫外線。從制程工藝來看,DUV只能用于生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。而只有EUV能滿足7nm晶圓制造,并且還可以向5nm、3n...

2023-07-10 標(biāo)簽:集成電路芯片制造光刻機(jī) 1154 0

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