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標(biāo)簽 > 載流子
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深入探討對(duì)PNPN四層結(jié)構(gòu)的晶閘管正向阻斷過(guò)程的機(jī)理
“基于碰撞電離率模型的平行平面結(jié)和晶閘管的研究”和“基于碰撞電離率模型的Miller公式S參數(shù)擬合”對(duì)平行平面結(jié)的雪崩擊穿電壓、碰撞電離率積分等進(jìn)行了討...
功率半導(dǎo)體器件設(shè)計(jì)的基礎(chǔ)是平行平面結(jié),結(jié)的擊穿與體內(nèi)載流子的碰撞電離密切相關(guān),本次研究的重點(diǎn)結(jié)構(gòu)是晶閘管,而晶閘管的阻斷與開(kāi)啟都與體內(nèi)載流子的運(yùn)動(dòng)有關(guān)。
IGBT內(nèi)部結(jié)構(gòu)過(guò)熱和過(guò)流的區(qū)別
IGBT在結(jié)構(gòu)上類(lèi)似于MOSFET,其不同點(diǎn)在于IGBT是在N溝道功率MOSFET的N+基板(漏極)上增加了一個(gè) P+基板(IGBT 的集電極),形成P...
介紹一下傳輸線工作過(guò)程中的導(dǎo)體損耗和介質(zhì)損耗
有損傳輸線的眼圖,由于上升邊的退化,少了高頻分量,那么高頻分量到哪里去了?傳輸線中的容性和感性突變只是反射,并不吸收能量。羊毛出在羊身上,高頻分量最終被...
2022-08-15 標(biāo)簽:串聯(lián)電阻電阻器傳輸線 1.5萬(wàn) 0
MOSFET發(fā)生EOS的失效模式有哪些?如何區(qū)分是什么原因失效的?
MOSFET(金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管)是一種廣泛應(yīng)用于電子設(shè)備中的半導(dǎo)體器件,其主要功能是控制電流的流動(dòng)。
2023-12-15 標(biāo)簽:MOSFET場(chǎng)效應(yīng)晶體管EOS 1.1萬(wàn) 0
PN結(jié)加正向電壓時(shí),空間電荷區(qū)將變窄?
PN結(jié)加正向電壓時(shí),空間電荷區(qū)將變窄是因?yàn)椋?*PN結(jié)外加正向電壓,此時(shí)外電場(chǎng)將多數(shù)載流子推向空間電荷區(qū),使其變窄,削弱了內(nèi)電場(chǎng)
什么是霍爾效應(yīng)?霍爾電勢(shì)的大小與方向和哪些因素有關(guān)?
霍爾效應(yīng)是電磁效應(yīng)的一種,當(dāng)電流通過(guò)一個(gè)位于磁場(chǎng)中的導(dǎo)體時(shí),導(dǎo)體內(nèi)的電荷載流子(如電子或空穴)會(huì)受到磁場(chǎng)的洛倫茲力作用而發(fā)生偏轉(zhuǎn),導(dǎo)致導(dǎo)體橫向(垂直于電...
2024-05-16 標(biāo)簽:霍爾效應(yīng)磁傳感器載流子 9897 0
金屬應(yīng)變片和半導(dǎo)體應(yīng)變片的異同
金屬應(yīng)變片和半導(dǎo)體應(yīng)變片都是用于測(cè)量機(jī)械應(yīng)變的傳感器,它們通過(guò)將機(jī)械形變轉(zhuǎn)換為電阻變化來(lái)工作。
MOS結(jié)電容(下)MOS的結(jié)電容應(yīng)用特性分解
我們需要先將結(jié)電容與關(guān)斷波形聯(lián)系起來(lái)。三個(gè)結(jié)電容的容值是Vds電壓的函數(shù),同時(shí),電壓Vds的變化(dv/dt)又與結(jié)電容相關(guān)。
PIN二極管 ,即P-I-N二極管,是一種半導(dǎo)體器件,由P型半導(dǎo)體、本征半導(dǎo)體(I型,即未摻雜的半導(dǎo)體)和N型半導(dǎo)體三個(gè)部分組成。
近年來(lái),具有ABX?晶體結(jié)構(gòu)的有機(jī)金屬鹵化物鈣鈦礦材料因其可調(diào)帶隙、高吸收系數(shù)、長(zhǎng)載流子傳輸距離等光電學(xué)特性而在光電探測(cè)領(lǐng)域表現(xiàn)出良好應(yīng)用前景
什么是離子注入?離子注入相對(duì)于擴(kuò)散的優(yōu)點(diǎn)?
想要使半導(dǎo)體導(dǎo)電,必須向純凈半導(dǎo)體中引入雜質(zhì),而離子注入是一種常用的方法,下面來(lái)具體介紹離子注入的概念。
如何利用FIB和SEM中的有源和無(wú)源電位襯度進(jìn)行失效定位呢?
無(wú)源電位襯度(Passive Voltage Contrast,PVC)定位基于導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的FIB或SEM圖像或多或少的亮度差異,可用于半導(dǎo)體電路的失效定位。
單晶硅的少子壽命是指什么?表面形態(tài)對(duì)單晶硅少子壽命有何影響?
單晶硅的少子壽命是指非平衡少數(shù)載流子(電子或空穴)在半導(dǎo)體材料中從產(chǎn)生到消失(即通過(guò)復(fù)合過(guò)程失去)的平均時(shí)間。
n型半導(dǎo)體和p型半導(dǎo)體在導(dǎo)電機(jī)制上有何不同?
n型半導(dǎo)體和p型半導(dǎo)體之間的主要區(qū)別在于它們的載流子類(lèi)型和濃度。
半導(dǎo)體應(yīng)變片受力時(shí)阻值的變化主要是由什么引起的
半導(dǎo)體應(yīng)變片是一種利用半導(dǎo)體材料的壓阻效應(yīng)來(lái)測(cè)量力學(xué)應(yīng)變的傳感器。
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