北京北方華創(chuàng)微電子裝備公司研發(fā)新型電源控制技術(shù)與裝置、半導(dǎo)體
天眼查數(shù)據(jù)顯示，北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司于2024年4月5日公開(kāi)了一項(xiàng)名為“電源控制方法和裝置、半導(dǎo)體工藝設(shè)備”的專利，編號(hào)為CN117832051A。
此項(xiàng)技術(shù)主要涉及到電源控制以及半導(dǎo)體工藝設(shè)備領(lǐng)域。具體而言，該專利包括如下步驟：首先，啟動(dòng)待控制電源；接著確定該待控制電源是作為上極電源還是下極電源工作；然后，獲取待控制電源的反射功率信息；根據(jù)反射功率信息計(jì)算出維持待控制電源開(kāi)啟所需的第一補(bǔ)償時(shí)長(zhǎng)；最后，將待控制電源的開(kāi)啟時(shí)長(zhǎng)更新為設(shè)定開(kāi)啟時(shí)長(zhǎng)與第一補(bǔ)償時(shí)長(zhǎng)之和，并在達(dá)到更新后的開(kāi)啟時(shí)長(zhǎng)時(shí)關(guān)閉待控制電源。
據(jù)稱，這項(xiàng)技術(shù)可有效提升晶圓間刻蝕的一致性，防止刻蝕量不足，從而提高產(chǎn)品良率。
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