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臺積電在歐洲技術(shù)研討會上展示HBM4的12FFC+和N5制造工藝

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-05-17 10:07 ? 次閱讀
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5月17日,臺積電應(yīng)邀出席本周的2024年歐洲技術(shù)研討會并展出了兩款HBM4基礎(chǔ)Dies,其中一款基于12FFC+(12nm)工藝,另一款則利用N5(5nm)技術(shù)進行生產(chǎn),旨在提升HBM4的性能與能效。

臺積電設(shè)計與技術(shù)平臺高級總監(jiān)對此表示:

目前,我們正在攜手眾多HBM存儲伙伴(如美光、三星、SK海力士等)共同推進HBM4在先進制程中的全面集成。12FFC+基礎(chǔ)Dies在滿足HBM性能需求的同時,具有顯著的成本優(yōu)勢;而N5基礎(chǔ)Dies則可在較低功耗條件下實現(xiàn)HBM4的預期速度。

借助臺積電12FFC+工藝(源于其成熟的16nmFinFET技術(shù)),我們將能夠制造出適用于12-Hi及16-HiHBM4存儲器堆棧的基礎(chǔ)芯片,其容量分別高達48GB和64GB。

通過運用12FFC+工藝,我們有望打造出“高性價比”的基礎(chǔ)芯片,這些芯片將通過硅內(nèi)插件將內(nèi)存與主機處理器相連接。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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