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臺(tái)積電在歐洲技術(shù)研討會(huì)上展示HBM4的12FFC+和N5制造工藝

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-05-17 10:07 ? 次閱讀

5月17日,臺(tái)積電應(yīng)邀出席本周的2024年歐洲技術(shù)研討會(huì)并展出了兩款HBM4基礎(chǔ)Dies,其中一款基于12FFC+(12nm)工藝,另一款則利用N5(5nm)技術(shù)進(jìn)行生產(chǎn),旨在提升HBM4的性能與能效。

臺(tái)積電設(shè)計(jì)與技術(shù)平臺(tái)高級(jí)總監(jiān)對(duì)此表示:

目前,我們正在攜手眾多HBM存儲(chǔ)伙伴(如美光、三星、SK海力士等)共同推進(jìn)HBM4在先進(jìn)制程中的全面集成。12FFC+基礎(chǔ)Dies在滿足HBM性能需求的同時(shí),具有顯著的成本優(yōu)勢(shì);而N5基礎(chǔ)Dies則可在較低功耗條件下實(shí)現(xiàn)HBM4的預(yù)期速度。

借助臺(tái)積電12FFC+工藝(源于其成熟的16nmFinFET技術(shù)),我們將能夠制造出適用于12-Hi及16-HiHBM4存儲(chǔ)器堆棧的基礎(chǔ)芯片,其容量分別高達(dá)48GB和64GB。

通過運(yùn)用12FFC+工藝,我們有望打造出“高性價(jià)比”的基礎(chǔ)芯片,這些芯片將通過硅內(nèi)插件將內(nèi)存與主機(jī)處理器相連接。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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