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標簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個主要工藝。是對半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔,以便進行雜質(zhì)的定域擴散的一種加工技術(shù)。
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CMP 主要負責對晶圓表面實現(xiàn)平坦化。晶圓制造前道加工環(huán)節(jié)主要包括7個相互獨立的工藝流程:光刻、刻蝕、薄膜生長、擴散、離子注入、化學(xué)機械拋光、金屬化 C...
刻蝕機的刻蝕過程和傳統(tǒng)的雕刻類似,先用光刻技術(shù)將圖形形狀和尺寸制成掩膜,再將掩膜與待加工物料模組裝好,將樣品置于刻蝕室內(nèi),通過化學(xué)腐蝕或物理磨蝕等方式將...
在集成電路的制造過程中,有一個重要的環(huán)節(jié)——光刻,正因為有了它,我們才能在微小的芯片上實現(xiàn)功能。現(xiàn)代刻劃技術(shù)可以追溯到190年以前,1822年法國人Ni...
干貨!光刻技術(shù)的原理和EUV光刻技術(shù)前景
光刻是集成電路最重要的加工工藝,他的作用,如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻的技術(shù)。
光刻工藝的8個基本步驟 光刻機結(jié)構(gòu)及工作原理
摩爾定律 Intel創(chuàng)始人之一摩爾1964年提出,大約每隔12個月: 1)。芯片能力增加一倍、芯片價格降低- -倍; 2)。廣大用戶的福音、行業(yè)人...
光刻技術(shù):光學(xué)關(guān)鍵尺寸測量(OCD)原理
集成電路芯片持續(xù)朝著密度不斷增加和器件尺寸不斷微縮的方向發(fā)展,其中最為關(guān)鍵的一個參數(shù)就是柵極線條寬度。任何經(jīng)過光刻后的光刻膠線條寬度或刻蝕后柵極線條...
Mattson利用歐洲的IMEC為低k/銅工藝開發(fā)光刻膠去除技術(shù)
Mattson Technology Inc.表示,它正與歐洲IMEC合作位于比利時魯汶的微電子研發(fā)中心共同開發(fā)新的光刻膠和殘留物去除工藝。
微全分析系統(tǒng)的概念是在1990年首欠由瑞士Ciba2Geigy公司的Manz與Widmer提出的,當時主要強調(diào)了分析系統(tǒng)的微與全,及微管道網(wǎng)絡(luò)的MEMS...
光刻技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀及未來趨勢分析
最近的電子器件大多是由微細的電路元件構(gòu)成的,為了制造這些元件,微細加工已成為必須的技術(shù)。以前,為了這個目的使用了照相蝕刻技術(shù)(光刻法)。但是,半導(dǎo)體集成...
在集成電路的制造過程中,有一個重要的環(huán)節(jié)——光刻,正因為有了它,我們才能在微小的芯片上實現(xiàn)功能。 現(xiàn)代刻劃技術(shù)可以追溯到190年以前,1822年法國人N...
光刻是集成電路最重要的加工工藝,他的作用,如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)...
設(shè)備由MEMS領(lǐng)域應(yīng)用轉(zhuǎn)化到3D集成技術(shù)領(lǐng)域,表現(xiàn)出高對準精度特點。大多數(shù)對準、鍵合工藝都源于微機電系統(tǒng)(MEMS)制造技術(shù),但應(yīng)用于3D集成的對準精度...
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