華為日前公布了一項(xiàng)新專(zhuān)利，展示了一種《反射鏡、光刻裝置及其控制方法》，?專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)枮镃N202110524685.X，據(jù)介紹，這種方法便能夠解決相干光因形成固定的干涉圖樣而無(wú)法勻光的問(wèn)題，在極紫外光的光刻裝置基礎(chǔ)上進(jìn)行了優(yōu)化，進(jìn)而達(dá)到勻光的目的。

該專(zhuān)利提供一種光刻裝置，該光刻裝置通過(guò)不斷改變相干光形成的干涉圖樣，使得照明視場(chǎng)在曝光時(shí)間內(nèi)的累積光強(qiáng)均勻化，從而達(dá)到勻光的目的，進(jìn)而也就解決了相關(guān)技術(shù)中因相干光形成固定的干涉圖樣而無(wú)法勻光的問(wèn)題。

該光刻裝置包括相干光源 1、反射鏡 2 (?也可以稱為去相干鏡?)?、照明系統(tǒng) 3。其中，反射鏡 2 可以進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；例如，可以在光刻裝置中設(shè)置旋轉(zhuǎn)裝置，反射鏡 2 能夠在旋轉(zhuǎn)裝置的帶動(dòng)下發(fā)生旋轉(zhuǎn)。在該光刻裝置中，相干光源 1 發(fā)出的光線經(jīng)旋轉(zhuǎn)的反射鏡 2 的反射后，通過(guò)照明系統(tǒng) 3 分割為多個(gè)子光束并投射至掩膜版 4 上，以進(jìn)行光刻。 在光刻裝置中，上述照明系統(tǒng) 3 作為重要組成部分，其主要作用是提供高均勻性照明?(?勻光?)?、控制曝光劑量和實(shí)現(xiàn)離軸照明等，以提高光刻分辨率和增大焦深。 照明系統(tǒng) 3 的勻光功能可以是通過(guò)科勒照明結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)的。

該照明系統(tǒng) 3 包括視場(chǎng)復(fù)眼鏡 31 ( field flyeye mirror，F(xiàn)FM )?、光闌復(fù)眼鏡 32 ( diaphragm flyeye mirror，PFM )?、中繼鏡組 33；其中，中繼鏡組 33 通?？梢园▋蓚€(gè)或者兩個(gè)以上的中繼鏡。照明系統(tǒng) 3 通過(guò)視場(chǎng)復(fù)眼鏡 31 將來(lái)自相干光源 1 的光束分割成多個(gè)子光束，每個(gè)子光束再經(jīng)光闌復(fù)眼鏡 32 進(jìn)行照射方向和視場(chǎng)形狀的調(diào)整，并通過(guò)中繼鏡組 33 進(jìn)行視場(chǎng)大小和?/?或形狀調(diào)整后，投射到掩膜版 4 的照明區(qū)域。

通過(guò)在相干光源 1 與照明系統(tǒng) 3 之間的光路上設(shè)置反射鏡 2，在此情況下，相干光源 1 發(fā)出的光線經(jīng)旋轉(zhuǎn)的反射鏡 2 反射后相位不斷發(fā)生變化，這樣一來(lái)，在經(jīng)反射鏡 2 反射后的光線通過(guò)照明系統(tǒng) 3 分割為多個(gè)子光束并投射至掩膜版 4 上時(shí)，形成在掩膜版 4 的照明區(qū)域的干涉圖樣不斷變化，從而使得照明視場(chǎng)在曝光時(shí)間內(nèi)的累積光強(qiáng)均勻化，從而達(dá)到勻光的目的，進(jìn)而也就解決了相關(guān)技術(shù)中因相干光形成固定的干涉圖樣而無(wú)法勻光的問(wèn)題。

值得注意的是，光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過(guò)程中最核心的設(shè)備，同時(shí)也是研發(fā)難度最高的設(shè)備。就目前光刻機(jī)市場(chǎng)來(lái)看，高端的EUV光刻機(jī)設(shè)備也只有荷蘭ASML能生產(chǎn)，這個(gè)重達(dá)數(shù)噸的設(shè)備中涉及了超過(guò)10萬(wàn)零部件，需要的工種繁多，毫不客氣地說(shuō)，ASML所生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)是集結(jié)了全球先進(jìn)的產(chǎn)業(yè)鏈，將諸多零部件進(jìn)行整合，最終集成一臺(tái)EUV光刻機(jī)設(shè)備。 因此大可不必鼓吹“華為申請(qǐng)了光刻機(jī)裝置專(zhuān)利，意味著攻克了EUV光刻機(jī)技術(shù)”。

編輯：黃飛

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