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標(biāo)簽 > 晶圓
晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片,由于其形狀為圓形,故稱為晶圓;在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu),而成為有特定電性功能之IC產(chǎn)品。
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晶圓經(jīng)過(guò)前道工序后芯片制備完成,還需要經(jīng)過(guò)切割使晶圓上的芯片分離下來(lái),最后進(jìn)行封裝。不同厚度晶圓選擇的晶圓切割工藝也不同: 厚度100um以上的晶圓一般...
增加電路密度而不必移動(dòng)到新技術(shù)節(jié)點(diǎn)的優(yōu)勢(shì)使得垂直擴(kuò)展成為半導(dǎo)體行業(yè)的強(qiáng)大驅(qū)動(dòng)力。但它也有一系列挑戰(zhàn),其中關(guān)鍵的挑戰(zhàn)便是刻蝕能力。
2022-01-24 標(biāo)簽:NAND晶圓泛林集團(tuán) 1085 0
半導(dǎo)體行業(yè)之晶體生長(zhǎng)和硅片準(zhǔn)備(一)
在接下來(lái)的一個(gè)章節(jié)里面,我們將主要介紹用砂子制備半導(dǎo)體級(jí)硅的方法,以及后續(xù)如何將其轉(zhuǎn)化為晶體和晶圓片(材料制備階段),以及如何來(lái)生產(chǎn)拋光晶圓的過(guò)程(晶體...
MAX3108是一款高性能通用異步收發(fā)器(UART),采用晶圓級(jí)封裝(WLP),具有許多硬件高級(jí)特性,從單獨(dú)的128字發(fā)送和接收FIFO到廣泛的硬件介導(dǎo)...
互連技術(shù)是封裝的關(guān)鍵和必要部分。芯片通過(guò)封裝互連,以接收功率、交換信號(hào)并最終進(jìn)行操作。由于半導(dǎo)體產(chǎn)品的速度、密度和功能隨互連方式的不同而不同,互連方法也...
在半導(dǎo)體制造流程中,晶圓測(cè)試是確保產(chǎn)品質(zhì)量和性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。與此同時(shí)封裝過(guò)程中的缺陷對(duì)半導(dǎo)體器件的性能和可靠性具有重要影響,本文就上述兩個(gè)方面進(jìn)行介紹。
利用人工智能實(shí)現(xiàn)原子層先進(jìn)制造
ATLANT 3D是第一家開創(chuàng)這種全新微納米加工方式的廠商。ATLANT 3D開發(fā)的Nanofabricator?設(shè)備通過(guò)人工智能(AI)解決方案實(shí)現(xiàn)先進(jìn)制造
半導(dǎo)體晶圓測(cè)試中的關(guān)鍵之“手”,看陶瓷基板作用何處?
近年來(lái),隨著半導(dǎo)體制程技術(shù)的不斷提升,工藝節(jié)點(diǎn)不斷縮小,單個(gè)芯片上有超過(guò)十億個(gè)晶體管。先進(jìn)制程的發(fā)展伴隨著半導(dǎo)體工業(yè)對(duì)于良品率(Yield)和成本的追求...
?做過(guò)封裝設(shè)計(jì),做過(guò)PCB板級(jí)的設(shè)計(jì),之前和網(wǎng)友有過(guò)交流,問(wèn)題是:為什么要封裝設(shè)計(jì)?信號(hào)完整性體系從大的方面來(lái)看:芯片級(jí)->封裝級(jí)->板級(jí)。
imec與Pulsify Medical打造用于心臟監(jiān)測(cè)的概念驗(yàn)證醫(yī)療貼片
通過(guò)向人體發(fā)射高頻聲波并將其回波轉(zhuǎn)換為電信號(hào),可以構(gòu)建體內(nèi)實(shí)時(shí)圖像。通過(guò)超聲成像對(duì)子宮內(nèi)的胎兒進(jìn)行非侵入性可視化已得到廣泛認(rèn)可。除了醫(yī)學(xué)成像,超聲波還可...
無(wú)偏差的刻蝕過(guò)程,我們稱之為各向異性刻蝕。為了更清晰地理解這一過(guò)程,我們可以將其拆解為幾個(gè)基本環(huán)節(jié)。首先,第一個(gè)環(huán)節(jié)是刻蝕氣體的處理,這些氣體在等離子體...
隨著現(xiàn)代電子技術(shù)和系統(tǒng)復(fù)雜度的不斷提高,電子裝備越來(lái)越小型化和高集成化,而半導(dǎo)體特征尺寸逐漸逼近物理極限,芯片的設(shè)計(jì)難度和制造成本明顯提升,傳統(tǒng)封裝技術(shù)...
集成編碼器的真正單晶圓全新一代OOK發(fā)射SOC芯片—XL117PS介紹
XL117PS 是集成編碼器的真正單晶圓全新一代 OOK 發(fā)射 SOC 芯片,可完全兼容 1527編碼產(chǎn)品,支持常用的315Mhz/433.92Mhz 頻率
目前,大多數(shù)III族氮化物的加工都是通過(guò)干法等離子體蝕刻完成的。干法蝕刻有幾個(gè)缺點(diǎn),包括產(chǎn)生離子誘導(dǎo)損傷和難以獲得激光器所需的光滑蝕刻側(cè)壁。干法蝕刻產(chǎn)生...
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