,而光刻工藝又是精密電子元器件制造的關(guān)鍵流程,這使得光刻膠在整個電子元器件加工產(chǎn)業(yè),都有著至關(guān)重要的地位。 本文簡要介紹幾種代表性光刻膠的成分和機理,重點是光刻膠的新技術(shù)應(yīng)用,以及國產(chǎn)化機會。 ? 光刻膠主要成分 ?
2022-04-25 17:35:22
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關(guān)鍵詞:氧氣、微氣泡、光刻膠、高劑量離子注入、氣水界面 介紹? ??? 微氣泡是一種很有前途的環(huán)保光刻膠去除方法的候選方法。已經(jīng)證明,臭氧微氣泡可以去除硅片上的光刻劑,即使被高劑量的離子注入破壞
2022-01-10 11:37:13
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光刻是在基板表面形成復(fù)雜設(shè)計或結(jié)構(gòu)的過程。光刻技術(shù)已經(jīng)作為一種制造技術(shù)使用了數(shù)百年。它最初是為印刷機開發(fā)的,現(xiàn)在已經(jīng)成功了作為一種被稱為光刻的微細(xì)制造技術(shù)而被應(yīng)用。
2022-07-21 16:12:48
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傳統(tǒng)的光刻工藝是相對目前已經(jīng)或尚未應(yīng)用于集成電路產(chǎn)業(yè)的先進光刻工藝而言的,普遍認(rèn)為 193nm 波長的 ArF 深紫外光刻工藝是分水嶺(見下表)。這是因為 193nm 的光刻依靠浸沒式和多重曝光技術(shù)的支撐,可以滿足從 0.13um至7nm 共9個技術(shù)節(jié)點的光刻需要。
2022-10-18 11:20:29
13995 極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)是當(dāng)今使用的最先進的光刻系統(tǒng)。本文將介紹這項重要但復(fù)雜的技術(shù)。
2023-06-06 11:23:54
688 
本文介紹了幾種常見電阻器的測試方法。
2021-05-10 07:12:33
介紹幾種常見的光纖連接器,你都知道哪些?
2021-05-26 06:49:57
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2~3個數(shù)量級(從毫米級到亞微米級),已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù);使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
有人知道 為什么光刻完事 剝離那么容易脫落呢 怎么避免呢
2012-06-26 12:40:30
本帖最后由 iweimo 于 2014-10-20 15:07 編輯
先分享光刻的參考資料。============================2014-10-17========光刻分類
2014-09-26 10:35:02
一、光刻膠的選擇光刻膠包括兩種基本的類型:正性光刻和負(fù)性光刻,區(qū)別如下
2021-01-12 10:17:47
關(guān)于光刻工藝的原理,大家可以想象一下膠片照片的沖洗,掩膜版就相當(dāng)于膠片,而光刻機就是沖洗臺,它把掩膜版上的芯片電路一個個的復(fù)制到光刻膠薄膜上,然后通過刻蝕技術(shù)把電路“畫”在晶圓上?! ‘?dāng)然
2020-07-07 14:22:55
芯片制造流程其實是多道工序?qū)⒏鞣N特性的材料打磨成形,經(jīng)循環(huán)往復(fù)百次后,在晶圓上“刻”出各種電子特性的區(qū)域,最后形成數(shù)十億個晶體管并被組合成電子元件。那光刻,整個流程中的一個重要步驟,其實并沒有
2020-09-02 17:38:07
MEMS、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前,直接采用 SU8光刻膠來制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項新技術(shù)。在微流控芯片加工中,SU-8主要用于快速模塑法加工PDMS微流控芯片。運用
2018-07-12 11:57:08
(電子科技大學(xué) 微電子與固體電子學(xué)院,成都 610054)摘 要:光刻膠技術(shù)是曝光技術(shù)中重要的組成部分,高性能的曝光工具需要有與之相配套的高性能的光刻膠才能真正獲得高分辨率的加工能力。主要圍繞光刻
2018-08-23 11:56:31
光刻膠也稱為光致抗蝕劑,是一種光敏材料,它受到光照后特性會發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負(fù)膠之分。正膠經(jīng)過曝光后,受到光照的部分變得容易溶解,經(jīng)過顯影后被
2019-11-07 09:00:18
這是我的版圖一部分,然后生成了圖案是這樣的: 感覺間距小的地方全都有殘留,間距大的地方?jīng)]有殘留;工藝參數(shù):s9920光刻膠, evg 620‘未進行蒸汽底漆層涂覆,前烘:100攝氏度,90s
2016-11-29 14:59:18
本文簡單的介紹了手機天線研發(fā)過程中的幾種常見的手機天線測試方法。
2021-05-10 06:12:48
Futurrex,成立于1985年,位總部設(shè)在美國新澤西州,富蘭克林市。 公司業(yè)務(wù)范圍覆蓋北美、亞太以及歐洲。Futurrex在開發(fā)最高端產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長的歷史,尤其是其光刻
2010-04-21 10:57:46
、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前,直接采用 SU- 8 光刻膠來制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項新技術(shù)。SU 8光刻膠光刻前清洗工藝:為了獲得更好的光刻效果,在進行光刻膠旋涂之前,需要
2018-07-04 14:42:34
lithography是一種平板印刷技術(shù),在平面光波回路的制作中一直發(fā)揮著重要的作用。具體過程如下:首先在二氧化硅為主要成分的芯層材料上面,淀積一層光刻膠;使用掩模版對光刻膠曝光固化,并在
2018-08-24 16:39:21
的實驗結(jié)果。確定了幾個可能影響粘附的因素,并使用實驗設(shè)計 (DOE) 方法來研究所選因素的影響和相互作用。確定的最顯著的附著力改進是在光刻膠涂層之前立即加入天然氧化物蝕刻。除了提高附著力外,這種預(yù)涂層處理
2021-07-06 09:39:22
三種常見的光刻技術(shù)方法根據(jù)暴光方法的不同,可以劃分為接觸式光刻,接近式光刻和投影式光刻三種光刻技術(shù)?! 敉队笆奖┕馐抢猛哥R或反射鏡將掩膜版上的圖形投影到襯底上的暴光方法.在這種暴光方法中,由于掩膜
2012-01-12 10:56:23
,小米9pro,oppo Reno3以及vivo X30)分別采用了什么芯片? 3協(xié)同通信的方式有哪些? 4大數(shù)據(jù)及認(rèn)知無線電(名詞解釋) 4半導(dǎo)體工藝的4個主要步驟: 4簡敘半導(dǎo)體光刻技術(shù)基本原理 4給出4個全球著名的半導(dǎo)體設(shè)備制造商并指出其生產(chǎn)的設(shè)備核心技術(shù): 5衛(wèi)
2021-07-26 08:31:09
半導(dǎo)體光刻蝕工藝
2021-02-05 09:41:23
的韋亞一研究員及其團隊具有多年的學(xué)術(shù)界及工業(yè)界的光刻技術(shù)經(jīng)驗積累,并出版有多本專著,其中《計算光刻與版圖優(yōu)化》一書更是列入中國科學(xué)院大學(xué)研究生教學(xué)輔導(dǎo)書系列。本號獲授權(quán)將陸續(xù)介紹《集成電路先進光刻技術(shù)
2021-10-14 09:58:07
本人是菜鳥 需要在玻璃上光刻普通的差值電極 以前一直在硅片上面光刻 用的光刻膠是AZ5214E 正膠 同樣的工藝和參數(shù)在玻璃上附著力差了很多 懇請哪位高人指點一下PS 插值電極的距離為25微米 小女子這廂謝過了
2010-12-02 20:40:41
`一、照明用LED光源照亮未來 隨著市場的持續(xù)增長,LED制造業(yè)對于產(chǎn)能和成品率的要求變得越來越高。激光加工技術(shù)迅速成為LED制造業(yè)普遍的工具,甚者成為了高亮度LED晶圓加工的工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。 激光刻
2011-12-01 11:48:46
151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會有一撮殘留,找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造,光刻機作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備,對芯片制作工藝有著決定性的影響,被譽為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”,根據(jù)之前中芯國際的公報,目...
2021-07-29 09:36:46
GK-1000光刻掩膜版測溫儀,光刻機曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設(shè)備,主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS(微機電系統(tǒng))等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機是一種光學(xué)投影技術(shù),通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
主要介紹了集成門極換流晶閘管(IGCT)的光刻技術(shù)。IGCT器件的光刻次數(shù)多,精度要求高,如何保證光刻質(zhì)量是關(guān)鍵。根據(jù)IGCT光刻的特點,從光刻機的性能、光刻膠的選用以及刻
2010-06-24 16:48:43
14 提要:本文討論了光學(xué)光刻中的離軸照明技術(shù)。主要從改善光刻分辨率、增大焦深、提高空間像對比度等方面對離軸照明與傳統(tǒng)照明作了比較,并用 仿真軟件進行了模擬分析。研
2010-11-11 15:45:02
0 光刻膠與光刻工藝技術(shù) 微電路的制造需要把在數(shù)量上精確控制的雜質(zhì)引入到硅襯底上的微小 區(qū)域內(nèi),然后把這些區(qū)域連起來以形成器件和VLSI電路.確定這些區(qū)域圖形 的工藝是由光刻來完成的,也就是說,首先在硅片上旋轉(zhuǎn)涂覆光刻膠,再將 其曝露于某種光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21
0 擺脫光刻技術(shù)的沮喪看來遙遙無期。今天的193nm浸入式光刻技術(shù)仍然遠(yuǎn)遠(yuǎn)領(lǐng)先。業(yè)界一度認(rèn)為193nm浸入式光刻會在32nm遭遇極限
2011-03-21 10:00:33
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簡單的說用一定波長的波刻蝕材料就是光刻技術(shù),集成電路制造中利用光學(xué)- 化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法,將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上,形成有效圖形窗口或功能圖形
2011-09-05 11:25:08
5368 光刻(photoetching)是通過一系列生產(chǎn)步驟將晶圓表面薄膜的特定部分除去的工藝在此之后,晶圓表面會留下帶有微圖形結(jié)構(gòu)的薄膜。被除去的部分可能形狀是薄膜內(nèi)的孔或是殘留的島狀部
2011-09-05 11:38:42
3712 對先進光刻掩膜光衍射的精密EMF模擬已成為預(yù)知光刻模擬的必做工作。
2012-05-04 16:28:41
6685 
本文提到MEMS技術(shù)中所應(yīng)有的光刻技術(shù),幫助讀者了解光刻技術(shù)的原理,應(yīng)用。
2016-04-28 11:35:32
0 本文主要介紹集成電路加工-光刻技術(shù)與光刻膠。集成電路加工主要設(shè)備和材料:光刻設(shè)備,半導(dǎo)體材料:單晶硅等,掩膜,化學(xué)品:光刻膠(光致抗蝕劑),超高純試劑,封裝材料及光刻機的介紹
2017-09-29 16:59:02
18 本文以光刻機為中心,主要介紹了光刻機的分類、光刻機的結(jié)構(gòu)組成、光刻機的性能指標(biāo)、光刻機的工藝流程及工作原理。
2017-12-19 13:33:01
161176 
光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上,通過光的照射,光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得
2018-04-17 16:07:41
33630 光刻技術(shù)是集成電路最重要的加工工藝。在整個芯片制造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù),占芯片制造成本的35%以上。
2018-04-22 17:54:00
3147 光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上,通過光的照射,光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得
2018-06-27 15:43:50
11776 光刻技術(shù)是包含光刻機、掩模、光刻材料等一系列技術(shù),涉及光、機、電、物理、化學(xué)、材料等多個研究方向。目前科學(xué)家正在探索更短波長的F2激光(波長為157納米)光刻技術(shù)。由于大量的光吸收,獲得用于光刻系統(tǒng)
2019-01-02 16:32:23
23711 光刻是集成電路最重要的加工工藝,他的作用,如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù),他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中,光刻技術(shù)的增長,直接關(guān)系到大型計算機的運作等高科技領(lǐng)域。
2019-02-25 10:07:53
5812 光刻是集成電路最重要的加工工藝,他的作用,如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻的技術(shù)。
2019-03-02 09:41:29
11136 光刻是集成電路最重要的加工工藝,他的作用,如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù),他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中,光刻技術(shù)的增長,直接關(guān)系到大型計算機的運作等高科技領(lǐng)域。
2019-03-03 10:00:31
4088 光刻機應(yīng)用廣泛,包括IC前道光刻機、用于封裝的后道光刻機以及用于LED領(lǐng)域及面板領(lǐng)域的光刻機等等。封裝光刻機對于光刻的精度要求低于前道光刻要求,面板光刻機與IC前道光刻機工藝相比技術(shù)精度也更低,一般為微米級。
2019-04-28 13:55:52
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格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示,如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機,那么光刻的步驟將會超過100步,這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具,未來圍繞EUV光刻機的爭奪戰(zhàn)將會變得異常激烈。因為這是決定這些廠商未來在先進工藝市場競爭的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:18
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光刻是集成電路最重要的加工工藝,他的作用,如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù),他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中,光刻技術(shù)的增長,直接關(guān)系到大型計算機的運作等高科技領(lǐng)域。
2019-12-21 09:58:40
20182 經(jīng)常聽說,高端光刻機不僅昂貴而且還都是國外的,那么什么是光刻機呢?上篇我們聊了從原材料到拋光晶片的制成過程,今天我們就來聊聊什么是光刻~
2020-01-24 16:47:00
7513 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一,作為目前世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一,其實光刻機除了能用于生產(chǎn)芯片之外,還有用于封裝的光刻機,或者是用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機。目前,我國高端的光刻機,基本上是從荷蘭ASML進口的。
2020-03-18 11:12:02
44388 光刻機是中國在半導(dǎo)體設(shè)備制造上的大短板。 生產(chǎn)芯片的光刻機又根據(jù)工藝分為High End光刻機和Medium and low end光刻機,雖然在High End光刻機上被荷蘭的阿斯麥所壟斷,但在Medium and low end光刻機方面中國的技術(shù)已經(jīng)較為成熟,且不斷在向High End光刻機突破。
2020-06-15 08:05:54
999 光刻是指利用光學(xué)復(fù)制的方法把圖形印制在光敏記錄材料上,然后通過刻蝕的方法將圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上來制作電子電路的技術(shù)。
2020-08-13 15:09:22
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作為光刻工藝中最重要設(shè)備之一,光刻機一次次革命性的突破,使大模集成電路制造技術(shù)飛速向前發(fā)展。了解提高光刻機性能的關(guān)鍵技術(shù)以及了解下一代光刻技術(shù)的發(fā)展情況是十分重要的。 光刻機 光刻機(Mask
2020-08-28 14:39:04
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最近光刻機十分火,我們經(jīng)常聽到別人說7納米光刻機、5納米光刻機,但其實嚴(yán)格意義上來說并不存在7納米光刻機,5納米光刻機,我為什么會這樣說呢?
2020-10-19 11:42:51
20305 幾何圖形結(jié)構(gòu),然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓,還可以是其他金屬層、介質(zhì)層,例如玻璃、SOS中的藍(lán)寶石。 光刻技術(shù)的基本原理 光刻的基本原理是利用光致抗蝕劑(或稱光刻膠)感
2020-11-11 10:14:20
22384 ? 光刻對準(zhǔn)技術(shù)由最初的明場和暗場對準(zhǔn)發(fā)展到后來的干涉全息或外差干涉全息對準(zhǔn)、混合匹配、由粗略到精細(xì)對準(zhǔn)技術(shù)等。對準(zhǔn)精度也由原來的微米級提高到納米級,極大促進了集成電路制造業(yè)的發(fā)展。目前的高精度光刻
2021-01-12 11:09:53
26142 
5nm光刻技術(shù)與ASML光刻機有何區(qū)別? EUV光刻機產(chǎn)能如何? 大飛_6g(聽友) 請問謝博士,EUV光刻機的產(chǎn)能是怎樣的?比如用最先進的光刻機,滿負(fù)荷生產(chǎn)手機芯片麒麟990,每天能產(chǎn)多少片?中芯國際有多少臺投入生產(chǎn)的光刻機?是1臺、5臺還是10臺呢?謝謝 謝志
2021-03-14 09:46:30
23476 、用途 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片的光刻機;有用于封裝的
2021-03-27 10:00:37
1469 
經(jīng)常聽到別人說7納米光刻機、5納米光刻機,但其實嚴(yán)格意義上來說并不存在7納米光刻機,5納米光刻機,我為什么會這樣說呢?
2021-03-30 09:19:41
2681 
用途 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片的光刻機;有用于封裝的光刻機
2021-03-30 18:17:27
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光刻機,是現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花,是半導(dǎo)體行業(yè)中的核心技術(shù)。 ? ? ? ?可能有很多人都無法切身理解光刻機的重要地位,光刻機,是制造芯片的機器,要是沒有了光刻機,我們就沒有辦法造出芯片,自然也就
2021-07-07 14:31:18
125772 光刻機原理怎么做芯片 光刻是集成電路中最重要的工藝,光刻機是制造芯片的核心裝備,在芯片的制作中,幾乎每個工藝的實施,都需要用到光刻技術(shù)??梢哉f,光刻機是半導(dǎo)體界的一顆明珠。那么光刻機原理怎么做芯片
2021-08-07 14:54:54
12869 沒有任何一個國家的人比中國人更想造出頂級光刻機。網(wǎng)友甚至表示,只要造出光刻機,無論一個人做錯了什么都可以原諒。
2021-08-26 17:32:37
60119 
最近光博會上看到一本關(guān)于光刻的小冊子,里面有一點內(nèi)容,分享給大家。 關(guān)于光刻的原理、光刻設(shè)備、光刻膠的種類和選擇等。 開篇 光刻的原理 表面處理:一般的晶圓光刻前都需要清潔干凈,特別是有有機物
2021-10-13 10:59:42
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光刻膠是光刻機研發(fā)的重要材料,換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:00
11281 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前有用于生產(chǎn)的光刻機,有用于LED制造領(lǐng)域的光刻機,還有用于封裝的光刻機。光刻機是采用類似照片沖印的技術(shù),然后把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:00
85813 “厚膜光刻”工藝是一種通過厚膜金屬化技術(shù)(簡稱“厚膜技術(shù)”)與光刻技術(shù)相結(jié)合,達(dá)到高精度、低成本、高效率、高靈活性,并已開始成熟商用化的新型微納量產(chǎn)制造技術(shù)。
2022-01-17 16:51:09
1400 
摘要 我們?nèi)A林科納提出了一種新型的雙層光阻劑方法來減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對浮渣平均數(shù)量的影響。實驗表明,低粘度正光刻
2022-01-26 11:43:22
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平版印刷術(shù)被定義為“一種從已經(jīng)準(zhǔn)備好的平坦表面(如光滑的石頭或金屬板)印刷的方法,以便油墨僅粘附在將要印刷的設(shè)計上”。在半導(dǎo)體器件制造中,石頭是硅片,而墨水是沉積、光刻和蝕刻工藝的綜合效果,從而產(chǎn)生
2022-03-14 15:20:53
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本發(fā)明涉及一種去除光刻膠的方法,更詳細(xì)地說,是一種半導(dǎo)體制造用光刻膠去除方法,該方法適合于在半導(dǎo)體裝置的制造過程中進行吹掃以去除光刻膠。在半導(dǎo)體裝置的制造工藝中,將殘留在晶片上的光刻膠,在H2O
2022-04-13 13:56:42
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中國芯的進步那是有目共睹,我國在光刻機,特別是在EUV光刻機方面,更是不斷尋求填補空白的途徑。
2022-07-05 10:38:35
16742 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機。
2022-07-06 11:03:07
7000 機是哪個國家的呢? euv光刻機許多國家都有,理論上來說,芯片強國的光刻機也應(yīng)該很強,但是最強的光刻機制造強國,不是美國、韓國等芯片強國,而是荷蘭。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前,在全世
2022-07-10 11:42:27
6977 目前,光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù),EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:10
78127 euv光刻機原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機,是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備,對芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。那么euv光刻機原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:10
15099 與此同時,在ASML看來,下一代高NA EUV光刻機為光刻膠再度帶來了挑戰(zhàn),更少的隨機效應(yīng)、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負(fù)膠肯定是沒法用了,DUV光刻機上常用的化學(xué)放大光刻膠(CAR)也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現(xiàn)瓶頸
2022-07-22 10:40:08
2010 根據(jù)所使用的輻射,有不同類型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、電子束光刻、x射線光刻、光刻和離子束光刻。在光學(xué)光刻技術(shù)中,有部分不透明和部分不透明的圖案掩模(光片)半透明區(qū)域被使用。紫外線輻射或氣體激光的照射以1:1的比例完成或者以4:1或10:1的比例減少。
2022-07-27 16:54:53
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光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光。
2022-09-13 11:00:21
5304 沉浸式光刻技術(shù)是在傳統(tǒng)的光刻技術(shù)中,其鏡頭與光刻膠之間的介質(zhì)是空氣,而所謂浸入式技術(shù)是將空氣介質(zhì)換成液體。實際上,浸入式技術(shù)利用光通過液體介質(zhì)后光源波長縮短來提高分辨率,其縮短的倍率即為液體介質(zhì)的折射率。
2022-10-13 16:51:38
3044 光刻膠的組成:樹脂(resin/polymer),光刻膠中不同材料的粘合劑,給與光刻膠的機械與化學(xué)性質(zhì)(如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等);感光劑,感光劑對光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng);溶劑(Solvent
2022-10-21 16:40:04
15831 計算光刻 (Computational Lithography)技術(shù)是指利用計算機輔助技術(shù)來增強光刻工藝中圖形轉(zhuǎn)移保真度的一種方法,它是分辦率增強技術(shù)(ResolutionEnhancement
2022-10-26 15:46:22
2274 光刻是半導(dǎo)體工業(yè)的核心技術(shù)。自1960年Fairchild Semiconductor的羅伯特·諾伊斯發(fā)明單片集成電路以來,光刻一直是主要的光刻技術(shù)。
2022-11-14 11:36:46
2288 號為 CN202110524685.X。這能解決相干光因形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題,這個也是 EUV 光刻常見問題。 從介紹中可以看出,該專利提供了一種光刻裝置,通過不斷改變相干光形成的干涉圖樣,使得照明視場在曝光時間內(nèi)的積累光強均勻化,從而達(dá)到勻光的目的,繼而
2022-11-21 15:10:07
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GTC 2023 NVIDIA將加速計算引入半導(dǎo)體光刻 計算光刻技術(shù)提速40倍 NVIDIA cuLitho的計算光刻庫可以將計算光刻技術(shù)提速40倍。這對于半導(dǎo)體制造而言極大的提升了效率。甚至可以說
2023-03-23 18:55:37
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光刻技術(shù)簡單來講,就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程,是大規(guī)模集成電路的基礎(chǔ)。目前市場上主流技術(shù)是193nm沉浸式光刻技術(shù),CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術(shù)獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:32
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根據(jù)維基百科的定義,光刻是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu),然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓,還可以是其他金屬層、介質(zhì)層,例如玻璃、SOS中的藍(lán)寶石。
2023-04-25 11:11:33
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在整個芯片制造過程中,幾乎每一道工序的實施都離不開光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù),占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:03
1033 光刻光刻是通過光線將電路圖案“印刷”到晶圓上,我們可以將其理解為在晶圓表面繪制半導(dǎo)體制造所需的平面圖。電路圖案的精細(xì)度越高,成品芯片的集成度就越高,必須通過先進的光刻技術(shù)才能實現(xiàn)。具體來說,光刻
2022-07-11 11:04:12
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中國科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對先進光刻技術(shù)的理解,本學(xué)期集成電路學(xué)院開設(shè)了《集成電路先進光刻技術(shù)與版圖設(shè)計優(yōu)化》研討課。在授課過程中,除教師系統(tǒng)地講授
2023-06-29 10:02:17
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光刻是一種圖像復(fù)制技術(shù),是集成電路工藝中至關(guān)重要的一項工藝。簡單地說,光刻類似照相復(fù)制方法,即將掩膜版上的圖形精確地復(fù)制到涂在硅片表面的光刻膠或其他掩蔽膜上面,然后在光刻膠或其他掩蔽膜的保護下對硅片進行離子注入、刻蝕、金屬蒸鍍等。
2023-08-07 17:52:53
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光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上,通過光的照射,光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得的分辨率直接相關(guān),而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:15
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光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體,不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻膠算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:11
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光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
2024-03-04 17:19:18
402 本文從光刻圖案設(shè)計、特征尺寸、電鏡參數(shù)優(yōu)化等方面介紹電子束光刻的參數(shù)優(yōu)化,最后介紹了一些常見問題。
2024-03-17 14:33:52
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與正光刻膠相比,電子束負(fù)光刻膠會形成相反的圖案。基于聚合物的負(fù)型光刻膠會在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解,而曝光的光刻膠則保留下來,從而形成負(fù)像。
2024-03-20 11:36:50
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