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電子發(fā)燒友網(wǎng)>制造/封裝>光刻技術(shù)介紹 幾種常見的光刻方法

光刻技術(shù)介紹 幾種常見的光刻方法

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2022-04-25 17:35:229350

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關(guān)鍵詞:氧氣、微氣泡、光刻膠、高劑量離子注入、氣水界面 介紹? ??? 微氣泡是一種很有前途的環(huán)保光刻膠去除方法的候選方法。已經(jīng)證明,臭氧微氣泡可以去除硅片上的光刻劑,即使被高劑量的離子注入破壞
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2022-07-21 16:12:481466

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2022-10-18 11:20:2913995

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2012-01-12 10:51:59

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2012-06-26 12:40:30

光刻及資料分享—Optical Lithography

本帖最后由 iweimo 于 2014-10-20 15:07 編輯 先分享光刻的參考資料。============================2014-10-17========光刻分類
2014-09-26 10:35:02

光刻工藝步驟

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  關(guān)于光刻工藝的原理,大家可以想象一下膠片照片的沖洗,掩膜版就相當(dāng)于膠片,而光刻機就是沖洗臺,它把掩膜版上的芯片電路一個個的復(fù)制到光刻膠薄膜上,然后通過刻蝕技術(shù)把電路“畫”在晶圓上?!   ‘?dāng)然
2020-07-07 14:22:55

光刻機是干什么用的

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光刻膠在集成電路制造中的應(yīng)用

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光刻膠有什么分類?生產(chǎn)流程是什么?

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2019-11-07 09:00:18

光刻膠殘留要怎么解決?

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常見的手機天線測試方法有哪幾種?

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Futurrex高端光刻

Futurrex,成立于1985年,位總部設(shè)在美國新澤西州,富蘭克林市。 公司業(yè)務(wù)范圍覆蓋北美、亞太以及歐洲。Futurrex在開發(fā)最高端產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長的歷史,尤其是其光刻
2010-04-21 10:57:46

Microchem SU-8光刻膠 2000系列

、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前,直接采用 SU- 8 光刻膠來制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項新技術(shù)。SU 8光刻光刻前清洗工藝:為了獲得更好的光刻效果,在進行光刻膠旋涂之前,需要
2018-07-04 14:42:34

lithography平板印刷技術(shù)

lithography是一種平板印刷技術(shù),在平面光波回路的制作中一直發(fā)揮著重要的作用。具體過程如下:首先在二氧化硅為主要成分的芯層材料上面,淀積一層光刻膠;使用掩模版對光刻膠曝光固化,并在
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《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》光刻前 GaAs 表面處理以改善濕化學(xué)蝕刻過程中的光刻膠附著力和改善濕蝕刻輪廓

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三種常見光刻技術(shù)方法

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半導(dǎo)體光刻技術(shù)基本原理

,小米9pro,oppo Reno3以及vivo X30)分別采用了什么芯片? 3協(xié)同通信的方式有哪些? 4大數(shù)據(jù)及認(rèn)知無線電(名詞解釋) 4半導(dǎo)體工藝的4個主要步驟: 4簡敘半導(dǎo)體光刻技術(shù)基本原理 4給出4個全球著名的半導(dǎo)體設(shè)備制造商并指出其生產(chǎn)的設(shè)備核心技術(shù): 5衛(wèi)
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半導(dǎo)體光刻蝕工藝

半導(dǎo)體光刻蝕工藝
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國科大《集成電路先進光刻技術(shù)與版圖設(shè)計優(yōu)化》課程分享之二:浸沒式光刻工藝缺陷種類、特征及自識別方法

的韋亞一研究員及其團隊具有多年的學(xué)術(shù)界及工業(yè)界的光刻技術(shù)經(jīng)驗積累,并出版有多本專著,其中《計算光刻與版圖優(yōu)化》一書更是列入中國科學(xué)院大學(xué)研究生教學(xué)輔導(dǎo)書系列。本號獲授權(quán)將陸續(xù)介紹《集成電路先進光刻技術(shù)
2021-10-14 09:58:07

求助 哪位達(dá)人有在玻璃上光刻的經(jīng)驗

 本人是菜鳥 需要在玻璃上光刻普通的差值電極 以前一直在硅片上面光刻 用的光刻膠是AZ5214E 正膠 同樣的工藝和參數(shù)在玻璃上附著力差了很多 懇請哪位高人指點一下PS 插值電極的距離為25微米 小女子這廂謝過了
2010-12-02 20:40:41

解析LED晶圓激光刻技術(shù)

`一、照明用LED光源照亮未來  隨著市場的持續(xù)增長,LED制造業(yè)對于產(chǎn)能和成品率的要求變得越來越高。激光加工技術(shù)迅速成為LED制造業(yè)普遍的工具,甚者成為了高亮度LED晶圓加工的工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。  激光刻
2011-12-01 11:48:46

負(fù)光刻膠顯影殘留原因

151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會有一撮殘留,找不到原因。各位幫分析下
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魂遷光刻,夢繞芯片,中芯國際終獲ASML大型光刻機 精選資料分享

EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造,光刻機作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備,對芯片制作工藝有著決定性的影響,被譽為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”,根據(jù)之前中芯國際的公報,目...
2021-07-29 09:36:46

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GK-1000光刻掩膜版測溫儀,光刻機曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設(shè)備,主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS(微機電系統(tǒng))等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機是一種光學(xué)投影技術(shù),通過將光線通過
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成門極換流晶閘管(IGCT)的光刻技術(shù)的設(shè)計工藝研究

主要介紹了集成門極換流晶閘管(IGCT)的光刻技術(shù)。IGCT器件的光刻次數(shù)多,精度要求高,如何保證光刻質(zhì)量是關(guān)鍵。根據(jù)IGCT光刻的特點,從光刻機的性能、光刻膠的選用以及刻
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光刻膠與光刻工藝技術(shù)

光刻膠與光刻工藝技術(shù) 微電路的制造需要把在數(shù)量上精確控制的雜質(zhì)引入到硅襯底上的微小 區(qū)域內(nèi),然后把這些區(qū)域連起來以形成器件和VLSI電路.確定這些區(qū)域圖形 的工藝是由光刻來完成的,也就是說,首先在硅片上旋轉(zhuǎn)涂覆光刻膠,再將 其曝露于某種光源下,如紫外光,
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光刻技術(shù)領(lǐng)域的期盼與黯淡

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2011-03-21 10:00:332507

光刻技術(shù)工藝及應(yīng)用

簡單的說用一定波長的波刻蝕材料就是光刻技術(shù),集成電路制造中利用光學(xué)- 化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法,將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上,形成有效圖形窗口或功能圖形
2011-09-05 11:25:085368

光刻技術(shù)常見方法

光刻(photoetching)是通過一系列生產(chǎn)步驟將晶圓表面薄膜的特定部分除去的工藝在此之后,晶圓表面會留下帶有微圖形結(jié)構(gòu)的薄膜。被除去的部分可能形狀是薄膜內(nèi)的孔或是殘留的島狀部
2011-09-05 11:38:423712

光學(xué)光刻和EUV光刻中的掩膜與晶圓形貌效應(yīng)

對先進光刻掩膜光衍射的精密EMF模擬已成為預(yù)知光刻模擬的必做工作。
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2017-09-29 16:59:0218

光刻機結(jié)構(gòu)組成及工作原理

本文以光刻機為中心,主要介紹光刻機的分類、光刻機的結(jié)構(gòu)組成、光刻機的性能指標(biāo)、光刻機的工藝流程及工作原理。
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光刻技術(shù)概述及光刻技術(shù)的原理

光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上,通過光的照射,光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得
2018-04-17 16:07:4133630

芯片升級神助攻 光刻技術(shù)你了解多少?

光刻技術(shù)是集成電路最重要的加工工藝。在整個芯片制造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù),占芯片制造成本的35%以上。
2018-04-22 17:54:003147

光刻技術(shù)的原理和EUV光刻技術(shù)前景

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2018-06-27 15:43:5011776

光刻技術(shù)的基本原理!光刻技術(shù)的種類光學(xué)光刻

光刻技術(shù)是包含光刻機、掩模、光刻材料等一系列技術(shù),涉及光、機、電、物理、化學(xué)、材料等多個研究方向。目前科學(xué)家正在探索更短波長的F2激光(波長為157納米)光刻技術(shù)。由于大量的光吸收,獲得用于光刻系統(tǒng)
2019-01-02 16:32:2323711

淺析光刻技術(shù)的原理和EUV光刻技術(shù)前景

光刻是集成電路最重要的加工工藝,他的作用,如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù),他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中,光刻技術(shù)的增長,直接關(guān)系到大型計算機的運作等高科技領(lǐng)域。
2019-02-25 10:07:535812

干貨!光刻技術(shù)的原理和EUV光刻技術(shù)前景

光刻是集成電路最重要的加工工藝,他的作用,如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻技術(shù)。
2019-03-02 09:41:2911136

深度探究光刻技術(shù)的原理和EUV光刻技術(shù)前景

光刻是集成電路最重要的加工工藝,他的作用,如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù),他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中,光刻技術(shù)的增長,直接關(guān)系到大型計算機的運作等高科技領(lǐng)域。
2019-03-03 10:00:314088

一份關(guān)于國產(chǎn)光刻機龍頭——上海微電子的介紹

光刻機應(yīng)用廣泛,包括IC前道光刻機、用于封裝的后道光刻機以及用于LED領(lǐng)域及面板領(lǐng)域的光刻機等等。封裝光刻機對于光刻的精度要求低于前道光刻要求,面板光刻機與IC前道光刻機工藝相比技術(shù)精度也更低,一般為微米級。
2019-04-28 13:55:52228194

關(guān)于EUV光刻機的分析介紹

格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示,如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機,那么光刻的步驟將會超過100步,這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具,未來圍繞EUV光刻機的爭奪戰(zhàn)將會變得異常激烈。因為這是決定這些廠商未來在先進工藝市場競爭的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:1812845

光刻技術(shù)的原理詳細(xì)說明

光刻是集成電路最重要的加工工藝,他的作用,如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù),他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中,光刻技術(shù)的增長,直接關(guān)系到大型計算機的運作等高科技領(lǐng)域。
2019-12-21 09:58:4020182

什么是光刻

經(jīng)常聽說,高端光刻機不僅昂貴而且還都是國外的,那么什么是光刻機呢?上篇我們聊了從原材料到拋光晶片的制成過程,今天我們就來聊聊什么是光刻
2020-01-24 16:47:007513

光刻機能干什么_英特爾用的什么光刻機_光刻機在芯片生產(chǎn)有何作用

光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一,作為目前世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一,其實光刻機除了能用于生產(chǎn)芯片之外,還有用于封裝的光刻機,或者是用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機。目前,我國高端的光刻機,基本上是從荷蘭ASML進口的。
2020-03-18 11:12:0244388

音圈電機在光刻機掩模臺系統(tǒng)中的應(yīng)用

光刻機是中國在半導(dǎo)體設(shè)備制造上的大短板。 生產(chǎn)芯片的光刻機又根據(jù)工藝分為High End光刻機和Medium and low end光刻機,雖然在High End光刻機上被荷蘭的阿斯麥所壟斷,但在Medium and low end光刻機方面中國的技術(shù)已經(jīng)較為成熟,且不斷在向High End光刻機突破。
2020-06-15 08:05:54999

DMD無掩膜光刻技術(shù)解析

光刻是指利用光學(xué)復(fù)制的方法把圖形印制在光敏記錄材料上,然后通過刻蝕的方法將圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上來制作電子電路的技術(shù)。
2020-08-13 15:09:2217949

提高光刻機性能的關(guān)鍵技術(shù)光刻機的發(fā)展情況

作為光刻工藝中最重要設(shè)備之一,光刻機一次次革命性的突破,使大模集成電路制造技術(shù)飛速向前發(fā)展。了解提高光刻機性能的關(guān)鍵技術(shù)以及了解下一代光刻技術(shù)的發(fā)展情況是十分重要的。 光刻光刻機(Mask
2020-08-28 14:39:0411746

一文詳解光刻技術(shù)

最近光刻機十分火,我們經(jīng)常聽到別人說7納米光刻機、5納米光刻機,但其實嚴(yán)格意義上來說并不存在7納米光刻機,5納米光刻機,我為什么會這樣說呢?
2020-10-19 11:42:5120305

芯片光刻技術(shù)的基本原理及主要步驟

幾何圖形結(jié)構(gòu),然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓,還可以是其他金屬層、介質(zhì)層,例如玻璃、SOS中的藍(lán)寶石。 光刻技術(shù)的基本原理 光刻的基本原理是利用光致抗蝕劑(或稱光刻膠)感
2020-11-11 10:14:2022384

幾種典型的光刻機對準(zhǔn)方式及精度

? 光刻對準(zhǔn)技術(shù)由最初的明場和暗場對準(zhǔn)發(fā)展到后來的干涉全息或外差干涉全息對準(zhǔn)、混合匹配、由粗略到精細(xì)對準(zhǔn)技術(shù)等。對準(zhǔn)精度也由原來的微米級提高到納米級,極大促進了集成電路制造業(yè)的發(fā)展。目前的高精度光刻
2021-01-12 11:09:5326142

中科院5nm光刻技術(shù)與ASML光刻機有何區(qū)別?

5nm光刻技術(shù)與ASML光刻機有何區(qū)別? EUV光刻機產(chǎn)能如何? 大飛_6g(聽友) 請問謝博士,EUV光刻機的產(chǎn)能是怎樣的?比如用最先進的光刻機,滿負(fù)荷生產(chǎn)手機芯片麒麟990,每天能產(chǎn)多少片?中芯國際有多少臺投入生產(chǎn)的光刻機?是1臺、5臺還是10臺呢?謝謝 謝志
2021-03-14 09:46:3023476

探究光刻機微影技術(shù)是通過什么實現(xiàn)的?

、用途 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片的光刻機;有用于封裝的
2021-03-27 10:00:371469

關(guān)于光刻技術(shù)淺述

經(jīng)常聽到別人說7納米光刻機、5納米光刻機,但其實嚴(yán)格意義上來說并不存在7納米光刻機,5納米光刻機,我為什么會這樣說呢?
2021-03-30 09:19:412681

探究光刻機微影技術(shù)是通過什么實現(xiàn)的

用途 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片的光刻機;有用于封裝的光刻
2021-03-30 18:17:272075

光刻機原理介紹

光刻機,是現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花,是半導(dǎo)體行業(yè)中的核心技術(shù)。 ? ? ? ?可能有很多人都無法切身理解光刻機的重要地位,光刻機,是制造芯片的機器,要是沒有了光刻機,我們就沒有辦法造出芯片,自然也就
2021-07-07 14:31:18125772

光刻機原理怎么做芯片

光刻機原理怎么做芯片 光刻是集成電路中最重要的工藝,光刻機是制造芯片的核心裝備,在芯片的制作中,幾乎每個工藝的實施,都需要用到光刻技術(shù)??梢哉f,光刻機是半導(dǎo)體界的一顆明珠。那么光刻機原理怎么做芯片
2021-08-07 14:54:5412869

光刻機需要哪些技術(shù)?

沒有任何一個國家的人比中國人更想造出頂級光刻機。網(wǎng)友甚至表示,只要造出光刻機,無論一個人做錯了什么都可以原諒。
2021-08-26 17:32:3760119

關(guān)于光刻的原理、光刻設(shè)備等知識點集合

最近光博會上看到一本關(guān)于光刻的小冊子,里面有一點內(nèi)容,分享給大家。 關(guān)于光刻的原理、光刻設(shè)備、光刻膠的種類和選擇等。 開篇 光刻的原理 表面處理:一般的晶圓光刻前都需要清潔干凈,特別是有有機物
2021-10-13 10:59:423893

光刻膠和光刻機的關(guān)系

光刻膠是光刻機研發(fā)的重要材料,換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0011281

光刻機干啥用的

光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前有用于生產(chǎn)的光刻機,有用于LED制造領(lǐng)域的光刻機,還有用于封裝的光刻機。光刻機是采用類似照片沖印的技術(shù),然后把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813

印刷電子制造中的厚膜光刻技術(shù)

“厚膜光刻”工藝是一種通過厚膜金屬化技術(shù)(簡稱“厚膜技術(shù)”)與光刻技術(shù)相結(jié)合,達(dá)到高精度、低成本、高效率、高靈活性,并已開始成熟商用化的新型微納量產(chǎn)制造技術(shù)
2022-01-17 16:51:091400

改善去除負(fù)光刻膠效果的方法報告

摘要 我們?nèi)A林科納提出了一種新型的雙層光阻劑方法來減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對浮渣平均數(shù)量的影響。實驗表明,低粘度正光刻
2022-01-26 11:43:22687

半導(dǎo)體光刻是什么

平版印刷術(shù)被定義為“一種從已經(jīng)準(zhǔn)備好的平坦表面(如光滑的石頭或金屬板)印刷的方法,以便油墨僅粘附在將要印刷的設(shè)計上”。在半導(dǎo)體器件制造中,石頭是硅片,而墨水是沉積、光刻和蝕刻工藝的綜合效果,從而產(chǎn)生
2022-03-14 15:20:531940

一種半導(dǎo)體制造用光刻膠去除方法

本發(fā)明涉及一種去除光刻膠的方法,更詳細(xì)地說,是一種半導(dǎo)體制造用光刻膠去除方法,該方法適合于在半導(dǎo)體裝置的制造過程中進行吹掃以去除光刻膠。在半導(dǎo)體裝置的制造工藝中,將殘留在晶片上的光刻膠,在H2O
2022-04-13 13:56:42872

euv光刻機三大核心技術(shù) 哪些公司有euv光刻

中國芯的進步那是有目共睹,我國在光刻機,特別是在EUV光刻機方面,更是不斷尋求填補空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3516742

euv光刻機可以干什么 光刻工藝原理

光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機。
2022-07-06 11:03:077000

euv光刻機是哪個國家的

機是哪個國家的呢? euv光刻機許多國家都有,理論上來說,芯片強國的光刻機也應(yīng)該很強,但是最強的光刻機制造強國,不是美國、韓國等芯片強國,而是荷蘭。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前,在全世
2022-07-10 11:42:276977

duv光刻機和euv光刻機區(qū)別是什么

目前,光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù),EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127

euv光刻機原理是什么

euv光刻機原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機,是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備,對芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。那么euv光刻機原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1015099

EUV光刻技術(shù)相關(guān)的材料

與此同時,在ASML看來,下一代高NA EUV光刻機為光刻膠再度帶來了挑戰(zhàn),更少的隨機效應(yīng)、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負(fù)膠肯定是沒法用了,DUV光刻機上常用的化學(xué)放大光刻膠(CAR)也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現(xiàn)瓶頸
2022-07-22 10:40:082010

光刻工藝中使用的曝光技術(shù)

根據(jù)所使用的輻射,有不同類型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、電子束光刻、x射線光刻、光刻和離子束光刻。在光學(xué)光刻技術(shù)中,有部分不透明和部分不透明的圖案掩模(光片)半透明區(qū)域被使用。紫外線輻射或氣體激光的照射以1:1的比例完成或者以4:1或10:1的比例減少。
2022-07-27 16:54:533169

光刻技術(shù)的原理及其難點分別是什么

光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光。
2022-09-13 11:00:215304

沉浸式光刻技術(shù)是什么 原理是什么

沉浸式光刻技術(shù)是在傳統(tǒng)的光刻技術(shù)中,其鏡頭與光刻膠之間的介質(zhì)是空氣,而所謂浸入式技術(shù)是將空氣介質(zhì)換成液體。實際上,浸入式技術(shù)利用光通過液體介質(zhì)后光源波長縮短來提高分辨率,其縮短的倍率即為液體介質(zhì)的折射率。
2022-10-13 16:51:383044

光刻膠的原理和正負(fù)光刻膠的主要組分是什么

光刻膠的組成:樹脂(resin/polymer),光刻膠中不同材料的粘合劑,給與光刻膠的機械與化學(xué)性質(zhì)(如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等);感光劑,感光劑對光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng);溶劑(Solvent
2022-10-21 16:40:0415831

計算光刻技術(shù)的發(fā)展

計算光刻 (Computational Lithography)技術(shù)是指利用計算機輔助技術(shù)來增強光刻工藝中圖形轉(zhuǎn)移保真度的一種方法,它是分辦率增強技術(shù)(ResolutionEnhancement
2022-10-26 15:46:222274

半導(dǎo)體光刻技術(shù)的起源與發(fā)展

光刻是半導(dǎo)體工業(yè)的核心技術(shù)。自1960年Fairchild Semiconductor的羅伯特·諾伊斯發(fā)明單片集成電路以來,光刻一直是主要的光刻技術(shù)。
2022-11-14 11:36:462288

華為最新消息 EUV光刻技術(shù)新專利面市

號為 CN202110524685.X。這能解決相干光因形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題,這個也是 EUV 光刻常見問題。 從介紹中可以看出,該專利提供了一種光刻裝置,通過不斷改變相干光形成的干涉圖樣,使得照明視場在曝光時間內(nèi)的積累光強均勻化,從而達(dá)到勻光的目的,繼而
2022-11-21 15:10:072616

GTC 2023 NVIDIA將加速計算引入半導(dǎo)體光刻 計算光刻技術(shù)提速40倍

GTC 2023 NVIDIA將加速計算引入半導(dǎo)體光刻 計算光刻技術(shù)提速40倍 NVIDIA cuLitho的計算光刻庫可以將計算光刻技術(shù)提速40倍。這對于半導(dǎo)體制造而言極大的提升了效率。甚至可以說
2023-03-23 18:55:377489

什么是光刻技術(shù)

光刻技術(shù)簡單來講,就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程,是大規(guī)模集成電路的基礎(chǔ)。目前市場上主流技術(shù)是193nm沉浸式光刻技術(shù),CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術(shù)獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:322261

光刻技術(shù)的種類介紹

根據(jù)維基百科的定義,光刻是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu),然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓,還可以是其他金屬層、介質(zhì)層,例如玻璃、SOS中的藍(lán)寶石。
2023-04-25 11:11:331244

淺談光刻技術(shù)

在整個芯片制造過程中,幾乎每一道工序的實施都離不開光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù),占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033

劃片機:晶圓加工第三篇—光刻技術(shù)分為三個步驟

光刻光刻是通過光線將電路圖案“印刷”到晶圓上,我們可以將其理解為在晶圓表面繪制半導(dǎo)體制造所需的平面圖。電路圖案的精細(xì)度越高,成品芯片的集成度就越高,必須通過先進的光刻技術(shù)才能實現(xiàn)。具體來說,光刻
2022-07-11 11:04:121124

基于機器學(xué)習(xí)的逆向光刻技術(shù)

中國科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對先進光刻技術(shù)的理解,本學(xué)期集成電路學(xué)院開設(shè)了《集成電路先進光刻技術(shù)與版圖設(shè)計優(yōu)化》研討課。在授課過程中,除教師系統(tǒng)地講授
2023-06-29 10:02:17329

光刻技術(shù)概述及其分類

光刻是一種圖像復(fù)制技術(shù),是集成電路工藝中至關(guān)重要的一項工藝。簡單地說,光刻類似照相復(fù)制方法,即將掩膜版上的圖形精確地復(fù)制到涂在硅片表面的光刻膠或其他掩蔽膜上面,然后在光刻膠或其他掩蔽膜的保護下對硅片進行離子注入、刻蝕、金屬蒸鍍等。
2023-08-07 17:52:531482

光學(xué)光刻技術(shù)有哪些分類 光刻技術(shù)的原理

光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上,通過光的照射,光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得的分辨率直接相關(guān),而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:15271

光刻膠黏度如何測量?光刻膠需要稀釋嗎?

光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體,不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻膠算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:11571

光刻膠和光刻機的區(qū)別

光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
2024-03-04 17:19:18402

電子束光刻的參數(shù)優(yōu)化及常見問題介紹

本文從光刻圖案設(shè)計、特征尺寸、電鏡參數(shù)優(yōu)化等方面介紹電子束光刻的參數(shù)優(yōu)化,最后介紹了一些常見問題。
2024-03-17 14:33:52174

關(guān)于光刻膠的關(guān)鍵參數(shù)介紹

與正光刻膠相比,電子束負(fù)光刻膠會形成相反的圖案。基于聚合物的負(fù)型光刻膠會在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解,而曝光的光刻膠則保留下來,從而形成負(fù)像。
2024-03-20 11:36:50200

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